Radical 32とは 意味・読み方・使い方

At the same time, OH radical supplied from an OH radical supply mechanism 35 disposed near the optical element 32 to the space 33 can effectively remove contaminant attached and deposited in the optical element 32, a supporter 31 or the like.例文帳に追加

同時に、光学素子３２の近傍に配置されたＯＨラジカル供給機構３５から空間３３に供給されたＯＨラジカルは、光学素子３２、支持部３１等に付着及び堆積した汚染物質を、効果的に除去することができる。 - 特許庁

Immediately after the gate electrode 35 is formed inside the gate recess 32 following the formation of the gate recess 32, the side face and the bottom face defining the gate recess 32 are subject to radical oxygen 40 for an oxide treatment to form an oxide treatment layer 37, and then the protective film 36 is formed.例文帳に追加

ゲートリセス３２を形成し、ゲートリセス３２内にゲート電極３５を形成した直後に、ゲートリセス３２を規定する側面および底面を、ラジカル酸素４０によって酸化処理することによって、酸化処理層３７を形成した上で、保護膜３６を形成するようにする。 - 特許庁

Then, the solder powder is heated under vacuum with an upper heater 31 and a lower heater 32 and is reflowed while irradiating the reducing free radical gas to the filled solder powder.例文帳に追加

次いで、真空下、前記充填された半田粉末に還元性遊離基ガスを照射しながら上ヒータ３１及び下ヒータ３２で加熱して溶融（リフロー）する。 - 特許庁

The waste water 100 is irradiated with UV rays from a UV lamp 28 through a UV transmission cylinder 26 to form a OH radical by exciting and activating the photocatalyst 32 and the org. material is decomposed and dissipated by the chemical reaction between the OH radical and the org. material.例文帳に追加

紫外線ランプ２８からの紫外線ＵＶを紫外線透過筒２６を介して排水１００に照射し、光触媒３２を励起して活性化してＯＨラジカルを生成し、ＯＨラジカルと有機物との化学反応で有機物を分解し消滅させる。 - 特許庁

A wafer 32, where a contaminant comprising organics remains, is supplied with a water-containing OH radical such as anode ion water, which is applied with, for example, ultrasonic wave vibration 40 at 1 MHz or higher for cleaning.例文帳に追加

有機物を含む汚染物が残留するウェーハ３２上にアノードイオン水などのＯＨラジカルを含む水などの機能水を供給し、これに、例えば、１ＭＨｚ以上の超音波振動４０を与えて洗浄する。 - 特許庁

The new low molecular weight copolymer (PIB/UAR copolymer) can be prepared by a reaction of a low molecular weigh polyisobutene (PIB) having ≤32 carbons and an unsaturated acidic reagent (UAR) in the presence of a free radical initiator.例文帳に追加

炭素原子数約３２以下の低分子量ポリイソブテン（ＰＩＢ）と不飽和酸性試薬を遊離基開始剤の存在下で反応させることにより製造することができる、新規な低分子量共重合体（ＰＩＢ／ＵＡＲ共重合体）。 - 特許庁

Hydrogen radical generation parts 31 and 32 are formed; hydrogen radicals are generated in the chamber 10; the Sn and/or the Sn compound are prevented from being deposited in a device low-temperature part such as a condensing mirror 5; and the deposited Sn and/or the Sn compound are/is removed.例文帳に追加

また、水素ラジカル発生部３１，３２を設け、水素ラジカルをチャンバ１０内で発生させ、集光鏡５などの装置低温部にＳｎおよび／またはＳｎ化合物が堆積するのを抑制し、また、堆積したＳｎおよび／またはＳｎ化合物を除去する。 - 特許庁