Radical 31とは 意味・読み方・使い方

Then, the solder powder is heated under vacuum with an upper heater 31 and a lower heater 32 and is reflowed while irradiating the reducing free radical gas to the filled solder powder.例文帳に追加

次いで、真空下、前記充填された半田粉末に還元性遊離基ガスを照射しながら上ヒータ３１及び下ヒータ３２で加熱して溶融（リフロー）する。 - 特許庁

After that, for example, by a development process with chemical, or by carrying out heating, the radical initiator layer 31 and the area which is not polymerized in the red light-emitting material layer 14R are removed.例文帳に追加

そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。 - 特許庁

On the other hand, the second decomposing column 40 comprises a sub-tank 41 in communication with the flow pipe 31 and a drain port 22 wherein the chain reaction of an activated radical generated by ultraviolet decomposition and ozone is induced to provide so as to decompose a larger amount of the dissolved ozone in a liquid flowing out from the flow pipe 31.例文帳に追加

一方、第二分解塔４０は流路管３１と排水口２２に連通するサブタンク４１であり、紫外線分解で生成された活性ラジカルとオゾンとの連鎖反応を起こし、流路管３１から流れ出た液体中の溶存オゾンがより多く分解されるようにする。 - 特許庁

When a 3rd stop valve 26 is opened and the resist liquid is discharged from a resist liquid discharge nozzle 7, the radical pressure change in an air feed chamber 31 of the forcibly feed pump 22 is mitigated by the accumulator 44 and is returned to the normal condition for a short time.例文帳に追加

第３の開閉バルブ２６が開放され，レジスト液吐出ノズル７からレジスト液が吐出されると，圧送ポンプ２２の給気室３１内の急激な圧力変動がアキュームレータ４４により緩和され，短時間で収束する。 - 特許庁

A liquid crystal monomer with an acrylate group attached thereto, which includes a polymerization initiator and has one out of a triplet quencher or a radical quencher, or both of them, added thereto, is used as a material for forming a retardation layer 38 to be formed on a principal surface of a first substrate 31.例文帳に追加

第１の基板３１の主面に形成する位相差層３８の形成材料として、重合開始剤を含み、かつ三重項消光剤もしくはラジカル消光剤の何れか、又は双方を添加したアクリレート付き液晶モノマーを用いる。 - 特許庁

Hydrogen radical generation parts 31 and 32 are formed; hydrogen radicals are generated in the chamber 10; the Sn and/or the Sn compound are prevented from being deposited in a device low-temperature part such as a condensing mirror 5; and the deposited Sn and/or the Sn compound are/is removed.例文帳に追加

また、水素ラジカル発生部３１，３２を設け、水素ラジカルをチャンバ１０内で発生させ、集光鏡５などの装置低温部にＳｎおよび／またはＳｎ化合物が堆積するのを抑制し、また、堆積したＳｎおよび／またはＳｎ化合物を除去する。 - 特許庁

A gas injection port 33 and a gas suction port 36 are provided near a projection lens; and gas containing carbon monoxide is made to flow from a gas supplying unit 31 to react with active substance in a system, for example, ozone, active oxygen, OH radical or the like, and inactivate them.例文帳に追加

投影レンズ近傍にガス噴出口３３及びガス吸引口３６を設け、ガス供給部３１から一酸化炭素を含有したガスを流して系内の活性物質、例えばオゾン、活性酸素、ＯＨラジカルなどと反応させてこれを不活性化させる。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is obtained by forming a photosensitive layer 33 containing a naphthalene tetracarboxylic acid diimide derivative having a specified structural formula provided on a conductive support 31, and forming, as the outermost surface, a surface protective layer 39 made of a resin cured material produced by the reaction of a radical polymerizable monomer having three or more functional groups and having no charge transporting structure with a monofunctional radical polymerizable compound having a charge transporting structure.例文帳に追加

導電性支持体３１上に、特定の構造式を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体を含有する感光層３３を設け、その最外表面に、電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと１官能の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物との反応により形成された樹脂硬化物からなる表面保護層３９を形成して電子写真感光体とする。 - 特許庁