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Radical 35とは 意味・読み方・使い方
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「Radical 35」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
Radical generators 35, 36 are attached to the radical inlets 33, 34.例文帳に追加
ラジカル導入口33,34にラジカル発生器35,36を取り付ける。 - 特許庁
Etching radicals R from the radical generators 35, 36 are made to flow in from the radical inlets 33, 34 along inner end surfaces 4, 5 of the deposition chamber 2.例文帳に追加
ラジカル発生器35,36からのエッチングラジカルRをラジカル導入口33,34から成膜チャンバ2の内端面4,5に沿って流入させる。 - 特許庁
A processing gas generation means 48 for supplying processing gas for processing a wafer 35 is provided in the down stream of the radical generation region 44.例文帳に追加
ラジカル生成領域44の下流にウェハ35を処理するための処理ガスを供給する処理ガス供給手段48を設ける。 - 特許庁
At the same time, OH radical supplied from an OH radical supply mechanism 35 disposed near the optical element 32 to the space 33 can effectively remove contaminant attached and deposited in the optical element 32, a supporter 31 or the like.例文帳に追加
同時に、光学素子32の近傍に配置されたOHラジカル供給機構35から空間33に供給されたOHラジカルは、光学素子32、支持部31等に付着及び堆積した汚染物質を、効果的に除去することができる。 - 特許庁
An organic peroxide having 20-35% crosslinking efficiency of n-pentadecane and 145-160°C one minute half-life temperature as a radical initiator when producing the modified ethylenic resin by melt kneading an ethylene-based resin, an α,β-unsaturated carboxylate having a polar group and an aromatic vinyl compound in the presence of the radical initiator.例文帳に追加
エチレン系樹脂、極性基を有するα,β−不飽和カルボン酸エステル、及び芳香族ビニル化合物をラジカル発生剤の存在下で溶融混練して変性エチレン系樹脂を製造するに際して、ラジカル発生剤としてn−ペンタデカンの架橋効率が20〜35%で、かつ1分間半減期温度が145〜160℃の有機過酸化物を用いる変性エチレン系樹脂の製造方法。 - 特許庁
Here, the copolymer (A) is obtained by polymerizing a radical-polymerizable monomer at a polymerization temperature of from 150 to 350°C and has a hydroxyl value of from 5 to 35 mg KOH/g, a glass transition temperature of -70 to 10°C and a number average molecular weight of 500 to 20,000.例文帳に追加
共重合体(A)は、ラジカル重合性単量体を150〜350℃の重合温度で重合することにより得られ、水酸基価5〜35mgKOH/g、ガラス転移温度−70〜10℃及び数平均分子量500〜20,000である。 - 特許庁
The solidification material of the soil comprises 20-60 mass% of one or more kinds of alkaline materials selected from magnesium oxide, calcium oxide and soft-burned dolomite, 3-35 mass% of sulfate of magnesium and/or calcium expressed in terms of sulfate radical, and 30-60 mass% of calcium carbonate.例文帳に追加
酸化マグネシウム、酸化カルシウム及び軽焼ドロイマイトから選ばれる一種もしくは二種以上のアルカリ性材料を20〜60質量%、マグネシウム及び/又はカルシウムの硫酸塩を硫酸根に換算して3〜35質量%、そして炭酸カルシウムを30〜60質量%含む土壌固化材。 - 特許庁
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「Radical 35」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
Immediately after the gate electrode 35 is formed inside the gate recess 32 following the formation of the gate recess 32, the side face and the bottom face defining the gate recess 32 are subject to radical oxygen 40 for an oxide treatment to form an oxide treatment layer 37, and then the protective film 36 is formed.例文帳に追加
ゲートリセス32を形成し、ゲートリセス32内にゲート電極35を形成した直後に、ゲートリセス32を規定する側面および底面を、ラジカル酸素40によって酸化処理することによって、酸化処理層37を形成した上で、保護膜36を形成するようにする。 - 特許庁
The photosensitive resin composition contains (A) 35-69.98 mass% urethane (metha)acrylate, (B) 30-64.98 mass% compound containing one ethylenic unsaturated groups, 0-20 mass% (metha)acrylate containing ≥2 acryloyl group, (D) 0.01-10 mass% radical photopolymerization initiator and (E) 0.01-3 mass% antioxidant.例文帳に追加
(A)ウレタン(メタ)アクリレート35〜69.98質量%、(B)エチレン性不飽和基を1つ含む化合物30〜64.98質量%、(C)アクリロイル基を2つ以上含む(メタ)アクリレート0〜20質量%、(D)ラジカル性光重合開始剤0.01〜10質量%および(E)酸化防止剤0.01〜3質量%を含有する感光性樹脂組成物。 - 特許庁
The electrophotographic photoreceptor includes at least a charge generating layer 35, a hole transport layer 37 and a hole transporting protective layer 39 laid sequentially on a conductive support 31, the protective layer comprising a three-dimensionally crosslinked film formed by chain polymerization of at least a radical polymerizable hole transporting compound by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, wherein a specific naphthalenetetracarboxylic acid diimide compound is incorporated into the protective layer.例文帳に追加
導電性支持体31上に少なくとも電荷発生層35、ホール輸送層37、ホール輸送性保護層39を順に積層し、該保護層が少なくともラジカル重合性ホール輸送性化合物を紫外線又は電子線を照射することで連鎖重合させて得られる3次元架橋膜からなる電子写真感光体において、該保護層中に特定のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を含有させた電子写真感光体。 - 特許庁
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