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ウィキペディア英語版での「XO-4」の意味

XO-4

出典:『Wikipedia』 (2011/03/30 01:21 UTC 版)

英語による解説
ウィキペディア英語版からの引用

「XO-4」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

General formula: Eu_wAl_xO_yN_z (0.1≤w≤4, 0.5≤x≤14, 0.15≤y≤27 and 0<z≤14).例文帳に追加

Eu_wAl_xO_yN_Z(0.1≦w≦4、0.5≦x≦14、0.15≦y≦27、0<z≦14) - 特許庁

XO(AO)_nH (1) (X is acryloyl radical or methacryloyl radical, AO is oxyalkylene radical with 2 to 4 carbon atoms, and n=1 to 100).例文帳に追加

XO(AO)_nH (1) (Xはアクリロイル基またはメタクリロイル基であり、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、n=1〜100である。) - 特許庁

One among (x and y)=(1 and 5), (2 and 4), (3 and 7) or (12 and 19) is used, and the relation m+n=1 is satisfied, in the metal aluminate phosphor shown by M_mL_nAl_xO_y contained in the light-color conversion member 4.例文帳に追加

光色変換部材4に含まれるM_mL_nAl_xO_yで表される金属アルミネート系蛍光体は、(x,y)=(1,5)、(2,4)、(3,7)、(12,19)のうちの何れかであり、m+n=1の関係を満たすものである。 - 特許庁

The method is employed to use the photocatalyst consisting of the complex oxide semiconductor represented by general formula BaBi_xO_y as a photocatalyst component(wherein 0.5<x<2, 2.5<y<4).例文帳に追加

光触媒成分として、一般式BaBi_xO_y(式中、0.5<x<2、2.5<y<4)で表される複合酸化物半導体からなる光触媒を使用することによって、解決手段とするものである。 - 特許庁

The light-color conversion member 4 contains a metallic aluminate phosphor shown by M_mL_nAl_xO_y when an alkali earth metal is represented by M and a rare earth metal by L.例文帳に追加

光色変換部材4は、アルカリ土類金属をM、希土類金属をLとして、M_mL_nAl_xO_yで表される金属アルミネート系蛍光体を含んでいる。 - 特許庁

Furthermore, Mg_1-xCa_xO is epitaxially grown on the channel layer 4 so that an interface modification layer 7 can be formed, and a gate insulating layer 8 and a gate electrode 9 are formed through the interface modification layer 7.例文帳に追加

さらに、その上に、Mg_1-xCa_xOをエピタキシャル成長させて界面改質層7を形成し、界面改質層7を介してゲート絶縁層8およびゲート電極9を形成する。 - 特許庁

例文

The feed-out roller 16 can be shaken at an angle α of inclination of 0-45° centering around the shaking base line X which passes the bisecting point Xo in its length direction and parallel to the axial center (i) of the body 4 to be wound.例文帳に追加

前記送出しローラ16は、その長さ方向2分割点Xoを通り前記被巻付け体4の軸心iと平行な揺動基線Xを中心として、0〜45゜の傾斜角度αで正負に揺動できる。 - 特許庁

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「XO-4」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

The optical layer has a refractive index is 1.55 or more and less than 1.8 and a composition SiTi_xO_yC_z (x=0.05 to 1, y=1.5 to 4 and z=0.05 to 1).例文帳に追加

屈折率が1.55以上1.8未満(λ=550nm)であって、層の組成がSiTi_xO_yC_z(x=0.05〜1、y=1.5〜4、z=0.05〜1)である光学層とする。 - 特許庁

Accordingly, also in the interface with a gate insulating film 4 formed by a HfAl_xO_y film, the oxidation resistance of a metal electrode film 5 is improved, and oxidation of metal electrode film 5 is made to be controlled also under high temperature environment at the time of film formation and annealing.例文帳に追加

これにより、HfAl_xO_y膜で形成されているゲート絶縁膜4との界面においても、金属電極膜5の耐酸化性が向上し、成膜時やアニール時の高い温度環境下でも、金属電極膜5の酸化が抑制されるようになる。 - 特許庁

The threshold voltage of the logic gate 25 is set lower than 1/4VDD and at the time of crystal oscillating operation in microcomputer operation, even when the operating point of an inverter 4 in an oscillation circuit is deviated by the dispersion of processes, both the signals of XI terminal 2 and XO terminal 1 can be prevented from being erroneously recognized as Low level by the logic gate 25.例文帳に追加

論理ゲート25のスレッショルド電圧を1/4VDD以下に設定し、マイコン動作における水晶発振動作時において、発振回路のインバータ4の動作点がプロセスのばらつきによってずれても、論理ゲート25によりXI端子2の信号とXO端子1の信号が共にLowレベルと誤認されることを防ぐことができる。 - 特許庁

例文

The method for producing an oxygen-containing halogenated fluoride uses a gas-liquid reaction which is characterized by reacting a mixed gas containing a halogen fluoride and fluorine and a H_2O source, and is represented by the general formula: XO_mF (wherein X is a halogen element constituting the halogen fluoride (Cl, Br or I) and m is 3 or 4).例文帳に追加

含酸素ハロゲン化フッ化物の製造において気液反応を用いる製造方法であり、フッ化ハロゲンとフッ素とを含有する混合ガスと、H_2O源を反応させることを特徴とする、一般式:XO_mF(但し、Xは前記フッ化ハロゲンを構成するハロゲン元素(Cl、Br、またはI)を、mは3または4をそれぞれ表す。)で表される含酸素ハロゲン化フッ化物の製造方法。 - 特許庁

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