compound generatorとは 意味・読み方・使い方

COMPOUND, POLYMER COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁

NOVEL COMPOUND, PHOTOELECTRON-DONATING COMPOUND AND PHOTOACID GENERATOR CONTAINING THEM例文帳に追加

新規化合物、光電子供与化合物およびこれらを含む光酸発生剤 - 特許庁

NEW COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

新規な化合物、光酸発生剤および感光性樹脂組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

CARBOXYLIC ACID COMPOUND, BASE GENERATOR, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE BASE GENERATOR例文帳に追加

カルボン酸化合物、塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物 - 特許庁

The photo acid generator is preferably a diaryl iodonium salt-based compound, and the oxidation type photoradical generator is preferably a diaryl ketone compound, an α-diketone compound or a ketocoumarin compound.例文帳に追加

光酸発生剤は、ジアリールヨードニウム塩系化合物が好ましく、酸化型の光ラジカル発生剤は、ジアリールケトン化合物、α−ジケトン化合物又はケトクマリン化合物が好ましい。 - 特許庁

This compound is expressed by formula (I), and the resist composition includes the compound and an acid generator.例文帳に追加

式（Ｉ）で表される化合物及び前記化合物と酸発生剤とを含むレジスト組成物。 - 特許庁