dry film imaging processとは 意味・読み方・使い方

To provide a manufacturing method for a high-density printed wiring board comprising high adhesion characteristics between a copper-clad laminate and a dry film resist, in a direct imaging process.例文帳に追加

ダイレクトイメージングプロセスにおける、銅張り積層板とドライフィルムレジストとの密着性を高めた高密度プリント配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the solid-state imaging apparatus 10 whereon a plurality of photodiodes in an imaging region and each MOS transistor in its peripheral circuit region are loaded together, a reflection preventing film 7 of a photodiode surface and a sidewall 9 provided to a side wall of a gate electrode 3 of the MOS transistor are formed simultaneously in the same process, by photolithograpy and dry etching by laminating three layers of insulating films 4 to 6.例文帳に追加

撮像領域の複数のフォトダイオードとその周辺回路領域の各ＭＯＳトランジスタが混載された固体撮像装置１０において、フォトダイオード表面の反射防止膜７と、ＭＯＳトランジスタのゲート電極３の側壁に設けられるサイドウォール９とを、３層の絶縁膜４〜６を積層してフォトリソグラフィーとドライエッチングにより同時に同一工程で形成する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition suitable for forming an antihalation film by which an irregularly reflected light from a base substrate can be effectively suppressed in an exposure process of a solid imaging element during forming a color filter or a microlens and which has high heat resistance and in which a rough film surface is not caused during a dry etching thereof.例文帳に追加

固体撮像素子におけるカラーフィルターやマイクロレンズを形成する際の露光工程において、下地基板からの乱反射光を効果的に抑制でき、かつ高度の耐熱性を有し、ドライエッチングでも膜荒れが発生しないハレーション防止膜を形成するのに適した熱硬化性樹脂組成物を得る。 - 特許庁