hydrofluoro etherとは 意味・読み方・使い方

In addition, a hydrofluorocarbon or a hydrofluoro ether is preferable for the fluorine containing organic compound.例文帳に追加

なお、含フッ素有機化合物としては、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルが好ましい。 - 特許庁

The azeotrope-like composition is composed of at least one hydrofluoro ether selected from a nonafluorobutyl ethyl ether and 1,2,2,2-tetrafluoroethyl 2,2,2-trifluoromethyl ether, and a fluorinated alcohol.例文帳に追加

ノナフルオロブチルエチルエ−テル及び１，２，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロメチルエ−テルから選ばれる少なくとも１つのハイドロフルオロエ−テルとフッ素化アルコ−ルからなる共沸様組成物。 - 特許庁

To provide a detergent composition for dry cleaning, excellent in detergency, usable by added to a solvent such as a hydrofluoro ether-based solvent.例文帳に追加

洗浄性に優れ、ハイドロフルオロエーテル系溶剤等の溶剤に添加して使用することができるドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

A substrate processing device 1 has a chamber 10, and a cleaning-liquid supply unit that supplies a cleaning liquid containing hydrofluoro ether onto a substrate W to be processed placed in the chamber 10.例文帳に追加

基板処理装置１は、チャンバー１０と、チャンバー１０内にある被処理基板Ｗに対してハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備えている。 - 特許庁

In the solvent for removing the protective film laminated on a photoresist film, the method for forming the photoresist pattern uses the solvent for removing the protective film, containing at least hydrofluoro ether and uses the solvent for removing the protective film for a liquid immersion lithography process.例文帳に追加

ホトレジスト膜上に積層された保護膜を除去するための溶剤であって、少なくともハイドロフルオロエーテルを含有する保護膜除去用溶剤、および該保護膜除去用溶剤を液浸露光プロセスに用いたホトレジストパターン形成方法。 - 特許庁

In the chamber 10, there is further disposed a gas supply unit 40 (41, 42) that supplies a gas into the chamber for preventing moisture from being taken to the substrate W to be processed, when a cleaning liquid containing hydrofluoro ether is supplied onto the substrate W to be processed.例文帳に追加

また、チャンバー１０内に、被処理基板Ｗにハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液が供給された際に当該被処理基板Ｗに水分が取り込まれるのを抑制するような気体を供給する気体供給部４０（４１、４２）が更に設置されている。 - 特許庁

Then HFE is supplied as a rinse liquid from the upper nozzle 64 and the lower nozzle 14 to both the faces Wa and Wb of the wafer W as the rotation of the wafer W is kept, to start rinsing for the wafer W using the HFE (hydrofluoro ether), and the hydrofluoric acid on the surface of the wafer W is rinsed away.例文帳に追加

次に、ウエハＷの回転は維持されたまま、上ノズル６４および下ノズル１４よりリンス液としてのＨＦＥのウエハＷの両面Ｗａ，Ｗｂに供給されて、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）によるウエハＷのリンスが開始され、ウエハＷ表面のふっ酸が洗い流される。 - 特許庁