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lithographic processとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 リソグラフィープロセス; 平版プロセス
「lithographic process」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 309件
LITHOGRAPHIC PROCESS MARGIN EVALUATION DEVICE, LITHOGRAPHIC PROCESS MARGIN EVALUATING METHOD, AND LITHOGRAPHIC PROCESS MARGIN EVALUATION PROGRAM例文帳に追加
リソグラフィプロセスマージン評価装置、リソグラフィプロセスマージン評価方法およびリソグラフィプロセスマージン評価プログラム - 特許庁
PROCESS-LESS PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加
プロセスレス感光性平版印刷版 - 特許庁
LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND PATTERNING DEVICE FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROCESS例文帳に追加
リソグラフィ装置、及びリソグラフィ工程で使用するパターニングデバイス - 特許庁
IMAGE-FORMING PROCESS, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR AND LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加
画像形成方法、平版印刷版原版および平版印刷方法 - 特許庁
METHOD OF PERFORMING LITHOGRAPHIC PROCESS ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板上にリソグラフィ工程を行う方法 - 特許庁
PROCESS FOR PRODUCTION OF BASE INK FOR LITHOGRAPHIC PRINTING INK, BASE INK FOR LITHOGRAPHIC PRINTING INK OBTAINED BY THE PROCESS FOR PRODUCTION AND LITHOGRAPHIC PRINTING INK USING THE BASE INK FOR THE LITHOGRAPHIC PRINTING INK例文帳に追加
平版印刷インキ用ベースインキの製造方法および該製造方法により得られる平版印刷インキ用ベースインキ並びに該平版印刷インキ用ベースインキを用いた平版印刷インキ - 特許庁
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「lithographic process」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 309件
DEVELOPMENT PROCESS LIQUID AND DEVELOPMENT METHOD FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加
平版印刷版の現像処理液および現像処理方法 - 特許庁
INTERLEAVING PAPER FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE LAMINATES USING INTERLEAVING PAPER, AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加
平版印刷版用合紙及びそれを用いた平版印刷版積層体並びにその製造方法 - 特許庁
INK COMPOSITION, INKJET RECORDING METHOD, PRINTED MATTER, PROCESS FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加
インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法及び平版印刷版 - 特許庁
LITHOGRAPHIC PROCESS FOR MANUFACTURING DEVICE USING ELECTRON BEAM IMAGING例文帳に追加
電子ビ—ム・イメ—ジングを使用するデバイス製造のためのリソグラフィック・プロセス - 特許庁
METHOD FOR PERFORMING SOFTWARE PROCESS, CONTROLLER, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加
ソフトウェア・プロセスを実行する方法、制御装置およびリソグラフィ装置 - 特許庁
METHOD OF OPTIMIZING LITHOGRAPHIC PROCESS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS, COMPUTER PROGRAM PRODUCT, AND SIMULATION APPARATUS例文帳に追加
リソグラフィプロセス、デバイス製造方法、リソグラフィ装置、コンピュータプログラム製品およびシミュレーション装置を最適化する方法 - 特許庁
A first process difference between a resist dimension by a lithographic process and a process dimension by a dry etching process is calculated in a N-gate portion.例文帳に追加
N型ゲート部に対して、リソグラフィ工程によるレジスト寸法とドライエッチ工程による加工寸法との第1の加工差を算出する。 - 特許庁
A lithographic process is simulated by using the individual mask error model to generate a simulate pattern (process 216).例文帳に追加
個別マスクエラーモデルを使用してリソグラフィプロセスをシミュレートし、シミュレートパターンを生成する(工程216)。 - 特許庁
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| 意味 | 例文 (309件) |
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