「lithographic process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD OF PERFORMING LITHOGRAPHIC PROCESS ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板上にリソグラフィ工程を行う方法 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCTION OF BASE INK FOR LITHOGRAPHIC PRINTING INK, BASE INK FOR LITHOGRAPHIC PRINTING INK OBTAINED BY THE PROCESS FOR PRODUCTION AND LITHOGRAPHIC PRINTING INK USING THE BASE INK FOR THE LITHOGRAPHIC PRINTING INK例文帳に追加

平版印刷インキ用ベースインキの製造方法および該製造方法により得られる平版印刷インキ用ベースインキ並びに該平版印刷インキ用ベースインキを用いた平版印刷インキ - 特許庁

DEVELOPMENT PROCESS LIQUID AND DEVELOPMENT METHOD FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

平版印刷版の現像処理液および現像処理方法 - 特許庁

INTERLEAVING PAPER FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE LAMINATES USING INTERLEAVING PAPER, AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

平版印刷版用合紙及びそれを用いた平版印刷版積層体並びにその製造方法 - 特許庁

INK COMPOSITION, INKJET RECORDING METHOD, PRINTED MATTER, PROCESS FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法及び平版印刷版 - 特許庁

LITHOGRAPHIC PROCESS FOR MANUFACTURING DEVICE USING ELECTRON BEAM IMAGING例文帳に追加

電子ビ—ム・イメ—ジングを使用するデバイス製造のためのリソグラフィック・プロセス - 特許庁

METHOD FOR PERFORMING SOFTWARE PROCESS, CONTROLLER, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

ソフトウェア・プロセスを実行する方法、制御装置およびリソグラフィ装置 - 特許庁

METHOD OF OPTIMIZING LITHOGRAPHIC PROCESS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS, COMPUTER PROGRAM PRODUCT, AND SIMULATION APPARATUS例文帳に追加

リソグラフィプロセス、デバイス製造方法、リソグラフィ装置、コンピュータプログラム製品およびシミュレーション装置を最適化する方法 - 特許庁

A first process difference between a resist dimension by a lithographic process and a process dimension by a dry etching process is calculated in a N-gate portion.例文帳に追加

Ｎ型ゲート部に対して、リソグラフィ工程によるレジスト寸法とドライエッチ工程による加工寸法との第１の加工差を算出する。 - 特許庁

A lithographic process is simulated by using the individual mask error model to generate a simulate pattern (process 216).例文帳に追加

個別マスクエラーモデルを使用してリソグラフィプロセスをシミュレートし、シミュレートパターンを生成する（工程２１６）。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD FOR FABRICATING DEVICE, AND DEVICE FABRICATED THROUGH PROCESS例文帳に追加

リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス - 特許庁

To perform patterning using a lift-off process without using a lithographic technology.例文帳に追加

リソグラフィ技術を使用せずに、リフトオフプロセスを利用してパターニングを行う。 - 特許庁

DAMPENING WATER COMPOSITION FOR LITHOGRAPHIC PRINTING AND HEAT-SET ROTARY OFFSET PRINTING PROCESS例文帳に追加

平版印刷用湿し水組成物及びヒートセットオフ輪印刷方法 - 特許庁

Then a second process difference between a resist dimension by a lithographic process and a process dimension by a dry etching process is calculated in a P-gate portion.例文帳に追加

次に、Ｐ型ゲート部に対して、リソグラフィ工程によるレジスト寸法とドライエッチ工程による加工寸法との第２の加工差を算出する。 - 特許庁

METHOD OF AUTOMATICALLY OFFERING DATA FOR FOCAL MONITORING OF LITHOGRAPHIC PROCESS例文帳に追加

リソグラフィプロセスのフォーカス監視用データを自動的に提供するための方法 - 特許庁

SURFACE-ROUGHENING PROCESS FOR ALUMINUM PLATE AND ALUMINUM SUBSTRATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

アルミニウム板の粗面化処理法および平版印刷原版用アルミニウム支持体 - 特許庁

To reduce the number of lithographic steps in a package process of a wafer level CSP.例文帳に追加

ウェハ・レベル型ＣＳＰのパッケージ・プロセスにおけるリソグラフィ工程の数を減らす。 - 特許庁

To provide a process for making a lithographic printing plate in which the generation of development wastes is suppressed in mass processing and even a lithographic printing plate precursor allowed to stand for a long time can stably be developed, and a lithographic printing plate made by the process for making a lithographic printing plate.例文帳に追加

大量処理した際の現像カスの発生が抑制され、且つ、経時した平版印刷版原版を用いても安定に現像できる平版印刷版の製版方法、及び、前記製版方法により製版された平版印刷版を提供すること。 - 特許庁

A multiple-exposure lithographic process in which a developed resist pattern derived from a first exposure is present within a second resist layer that is exposed in a second exposure of the multiple-exposure lithographic process.例文帳に追加

第１の露光から得られる現像レジストパターンがマルチ露光リソグラフィ工程の第２の露光で露光される第２のレジスト層内に存在するマルチ露光リソグラフィ工程。 - 特許庁

By using the spacers instead of a standard lithographic process, the inherent limitations of the lithographic process can be avoided and further scaling of FinFET devices can be achieved.例文帳に追加

標準のリソグラフィックプロセスに代わって、スペーサを用いることにより、リソグラフィックプロセスの固有の限界が回避され、フィンＦＥＴ装置のさらなるスケーリングが達成される。 - 特許庁

To improve the imaging performance of a lithograph process, by using a dual-stage lithographic apparatus.例文帳に追加

デュアル・ステージ・リソグラフ装置を使用してリソグラフ・プロセスの結像性能を改良する。 - 特許庁

To provide a method for performing a software process, controller, and lithographic apparatus.例文帳に追加

ソフトウェア・プロセスを実行するための方法、制御装置およびリソグラフィ装置の提供。 - 特許庁

To provide a stamp for use in a lithographic process such as patterning the surface layer.例文帳に追加

表面層をパターン化する等のリソグラフィプロセスに使用するスタンプを提供する。 - 特許庁

Successively, a pattern is baked on the resist 2 in a photo-lithographic process and the resist 2 is developed (c).例文帳に追加

次にフォトリソグラフィ工程によりレジスト２にパターンを焼き付け、レジスト２を現像する（ｃ）。 - 特許庁

Thereafter, a termination structure oxide layer 150 is formed through vapor deposition, lithographic process and etching.例文帳に追加

蒸着、リソグラフィック及びエッチングプロセスにより、終端構造酸化層１５０を形成する。 - 特許庁

To provide a lithographic process margin evaluation device having high accuracy, which can reduce working load.例文帳に追加

作業負荷を低減でき、かつ精度の高いリソグラフィプロセスマージン評価装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR RECONTRUCTING TRANSVERSE MAGNETIC WAVE CONTRAST IN LITHOGRAPHIC PROCESS例文帳に追加

方法およびシステム（リソグラフィ・プロセスにおいてＴＭ波コントラストを復元する反射膜界面） - 特許庁

A method for setting a multiple patterning lithographic process of a pattern in a single layer is disclosed.例文帳に追加

単一層でのパターンの多重パターニングリソグラフプロセスを設定する方法が開示される。 - 特許庁

To provide a method for producing a pattern for decreasing difficulty in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィ工程の難易度を低下させることが可能なパターン作成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND PRINTING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

感光性平版印刷版材料、その製造方法、及びそれを用いた印刷方法 - 特許庁

To provide a lithographic process where a process error caused by one or more heat sources can be reduced or minimized.例文帳に追加

ひとつ以上の熱源によって引き起こされるプロセスエラーが低減または最小化されうるリソグラフィプロセスを提供する。 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR, RADICAL GENERATION PROCESS, PHOTOPOLYMERIZING COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR PREPARING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PREPARATION METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

光重合開始剤、ラジカル発生方法、光重合組成物、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 - 特許庁

METHOD OF SELECTING A GRID MODEL FOR CORRECTING A PROCESS RECIPE FOR GRID DEFORMATIONS IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC ASSEMBLY USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィ装置における格子変形の処理レシピを修正するための格子モデルの選択方法及び該方法を使用したリソグラフィ・アセンブリ - 特許庁

The manufacturing method of the lithographic printing plate uses the lithographic printing plate precursor, and has a process to form an image on the ink receptive layer using the inkjet ink by the inkjet recording process.例文帳に追加

該平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁

The composition suitable for use as a planarizing underlayer in a multilayer lithographic process is disclosed.例文帳に追加

多層リソグラフィプロセスにおいて平坦化基層としての使用に適する組成物が開示される。 - 特許庁

To provide a method for doubling a frequency of a lithographic process using a photoresist template mask.例文帳に追加

フォトレジストテンプレートマスクを用いて、リソグラフィープロセスの頻度を倍にする方法が記載されている。 - 特許庁

Subsequently the X and Y alignment marks thus produced are used for the step of alignment in a lithographic process.例文帳に追加

その後、生成されたＸ及びＹのアライメントマークが、リソグラフィプロセスのアライメントステップに使用される。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING DEFECTS IN SUBSTRATE AND APPARATUS FOR EXPOSING SUBSTRATE IN LITHOGRAPHIC PROCESS例文帳に追加

基板内の欠陥を判定する方法およびリソグラフィプロセスにおいて基板を露光するための装置 - 特許庁

The apparatus may include a deposition mask 302 having a plurality of apertures 306 generated by a lithographic process.例文帳に追加

装置は、リソグラフィックプロセスによって生成される、複数のアパーチャ306を有する蒸着マスク302を含む。 - 特許庁

To optimize a lithographic apparatus and an illumination light source for process, and a projection optical system.例文帳に追加

リソグラフィの装置およびプロセス用の照明光源、および投影光学系を最適化すること。 - 特許庁

PRINTING DEVICE, ITS CONTROL METHOD, AND MANUFACTURING PROCESS OF LITHOGRAPHIC PLATE DISPLAY DEVICE USING THE PRINTING DEVICE AND ITS CONTROL METHOD例文帳に追加

プリンティング装置、その制御方法とこれを利用した平板表示装置の製造方法 - 特許庁

The above method can be easily carried out by the current lithographic process and device.例文帳に追加

上記方法は、現在のリソグラフィ方法および装置により容易に実行することができる。 - 特許庁

The multiple patterning lithographic process includes a first patterning step and at least a second patterning step.例文帳に追加

多重パターニングリソグラフプロセスは、第１パターニングステップと、少なくとも第２パターニングステップとを含む。 - 特許庁

The inside of a space between a lens and a substrate is supplied with the fluid during an immersion lithographic process.例文帳に追加

流体は、液浸リソグラフィプロセス中にレンズと基板との間の空間内に供給される。 - 特許庁

PATTERNING PROCESS AND LITHOGRAPHIC METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFERS AND SEMICONDUCTOR WAFER PATTERNING APPARATUS例文帳に追加

半導体ウェハのパターニングプロセス、半導体ウェハのリソグラフィ方法、および半導体ウェハのパターニング装置 - 特許庁