「lithographic process」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lithographic printing plate precursor which is excellent in dot reproducibility and generates less development scum in a developer during development, and to provide a process for producing a lithographic printing plate.例文帳に追加

網点再現性に優れ、現像時の現像液における現像カスの生成が少ない平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製造方法を提供すること - 特許庁

To provide a variable attenuator which satisfies necessary performance conditions to be used in a sub system of a lithographic apparatus used for controlling a dose of radiation during a lithographic exposure process.例文帳に追加

リソグラフィ露光プロセスにおいて放射ドーズ量制御に使用されるリソグラフィ装置のサブシステムで使用するための必要性能条件を満たす可変減衰器を提供する。 - 特許庁

Further, in this patterning method for the insulating layer, by simplifying a conventional usual lithographic process, an etching process and a stripping process, the processes are simplified, process cost is reduced and process time is shortened.例文帳に追加

また、本発明による絶縁層のパターニング方法は、従来の通常的なリソグラフィ工程、エッチング工程及びストリッピング工程を単純化することによって、工程の単純化、工程コストの低減及び時間短縮の効果をもたらす。 - 特許庁

Variables in each step in a double patterning lithographic process are recorded, and characteristics of intermediate features in a double patterning process are measured.例文帳に追加

ダブルパターニングリソグラフィプロセスにおける工程のそれぞれにおける変数が、記録され、ダブルパターニングプロセスにおける中間フィーチャの特性が、測定される。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate material in which process pollution by a powder drop in case of cutting the lithographic printing plate material in a predetermined size when producing the lithographic printing plate material by being no adverse influence to printing performance.例文帳に追加

本発明の目的は、印刷性能への悪影響なく、平版印刷版材料の生産時に所定のサイズに断裁する際の粉落ちによる工程汚染を著しく軽減した平版印刷版材料を提供することにある。 - 特許庁

Thus, the dielectric film 17 is prevented from being damaged in the lithographic process when forming the contact hole.例文帳に追加

これにより、コンタクトホール形成時のリソグラフィ工程において、誘電体膜１７がダメージを受けることが防止される。 - 特許庁

Various cost functions, representing various lithographic responses, may be predefined for the optimization process.例文帳に追加

各種のリソグラフィ応答を表す各種のコスト関数が最適化プロセスのために予め定義されていてもよい。 - 特許庁

To provide a waterless lithographic printing plate precursor with which plate inspection can be done without a dyeing process.例文帳に追加

染色工程を必要とせずに検版が可能である水なし平版印刷版原版を提供すること。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus significantly reduced in airflows in a process zone and imaging errors by pressure waves.例文帳に追加

プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

After a lithographic process is completed, the chromium film 2 is removed by using an etching solution for chromium.例文帳に追加

リソグラフィ工程が完了した後に、クロム膜２はクロム用エッチング溶液を用いて処理することにより除去する。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing a nano-gap electrode by a new lithographic process using a converged ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを用いた新たなリソグラフプロセスによりナノギャップ電極を容易に製造する方法を提供する。 - 特許庁

A plate-making method for a lithographic printing plate includes: an exposure step of subjecting the lithographic printing plate precursor to image exposure; and a developing step of performing developing process on the precursor by developer.例文帳に追加

前記平版印刷版原版を、画像露光する露光工程、及び、現像液により現像処理する現像工程、を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

To provide a lithographic printing original plate capable of being a lithographic printing plate that can print a large number of sheets of printed matter with a clear image quality having no greasing by a dry desensitization process, and a manufacturing method for a lithographic printing plate using this original plate.例文帳に追加

乾式の不感脂化処理で、地汚れがなく鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷可能とする平版印刷版とすることができる平版印刷用原版と、該原版を用いた平版印刷版の作成方法を提供する。 - 特許庁

The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process.例文帳に追加

この方法は、シミュレートされた画像を生成するための、リソグラフィプロセスに関連したプロセス変動を説明する関数を決定すること、および、リソグラフィプロセスのターゲットデザインの結像結果を表す前記シミュレートされた画像を、前記関数を用いて生成することを含む。 - 特許庁

To precisely monitor variation in the exposure conditions (gap between an exposure amount and focus) in a product wafer level in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて、製品ウェーハレベルで、露光条件の変動（露光量とフォーカスのずれ）を正しくモニタリングする。 - 特許庁

To provide a method of selecting a grid model for correcting a process recipe for grid deformations in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置における格子変形の処理レシピを修正するための格子モデルの選択方法を提供すること。 - 特許庁

Upper and lower faces of it are inverted in an inversion process 220, and the membrane face of the lithographic printing plate is arranged on the lower side.例文帳に追加

そして、反転工程２２０において上下反転され、平版印刷版１０の膜面が下側に配置される。 - 特許庁

A lithographic manufacturing process comprises an input section 8, a preliminary imaging process 10, a section for measuring a substrate 12, a section for exposing a substrate 14, a post-imaging process 16 and an output section 18.例文帳に追加

リソグラフィック製造プロセスは、入力セクション８、予備画像化プロセス１０、基板を測定するセクション１２、基板を露光するセクション１４、画像化後プロセス１６及び出力セクション１８からなっている。 - 特許庁

The manufacturing method for the lithographic printing plate precursor which is provided with a photosensitive layer containing an infrared ray absorbent on a support body with at least the ends of facing two sides being chamfer-treated comprises sequentially performing a development process and a gumming process after an exposure to light.例文帳に追加

また、赤外線レーザー光での直接描画、高速処理でエッジ汚れの発生しない平版印刷版原版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate precursor which can prevent an image created by an inkjet recording process from deviating from its correct position and also can impart excellent printability, and a method of preparing lithographic printing plate.例文帳に追加

インクジェット記録方式により画像形成された画像の位置ずれを防止し、優れた印刷適性も付与することのできる、平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

According to this method of determining a structure parameter of target pattern of lithographic process, a series of calibration spectrum is calculated from a standard pattern.例文帳に追加

リソグラフィプロセスでターゲットパターンの構造パラメータを決定する方法で、一連の較正スペクトルが基準パターンから計算される。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus with significantly reduced image-formation errors due to air flows and pressure waves in a process zone.例文帳に追加

プロセス区域内のエアフローおよび圧力波による結像誤差が非常に減少したリソグラフィ装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an altered purge gas supply system with no bad influence to the activity of a chemical substance used in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフ工程に使用される化学物質の活性に悪影響を与えない改変されたパージガス供給システムを提供する。 - 特許庁

To predict a finish dimension into which dimensional changes in a semiconductor lithographic process are incorporated with high accuracy at a high speed.例文帳に追加

半導体リソグラフィプロセス工程における寸法変動を高精度かつ高速で取り込んだ仕上がり寸法の予測を実現する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently simulating imaging performance of a lithographic process for imaging a target design having a plurality of features.例文帳に追加

複数のフィーチャを有するターゲットデザインを結像するためのリソグラフィプロセスの結像性能をシミュレートする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of simulating imaging performance of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features.例文帳に追加

複数のフィーチャを有するターゲットデザインを結像するためのリソグラフィプロセスの結像性能をシミュレートする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser, the precursor having excellent development latitude, dissolution discrimination and plate wear and having little post-exposure degradation in developability over time, and to provide a process for making a lithographic printing plate employing the positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser.例文帳に追加

現像ラチチュード、溶解識別性及び耐刷性に優れ、露光後の経時による現像性の低下が少ない赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR AUTOMATED PROCESS CORRECTION USING MODEL PARAMETERS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS USING SUCH METHOD AND SYSTEM例文帳に追加

モデル・パラメータを使用して自動プロセス補正を行うための方法及びシステム、並びにこのような方法及びシステムを使用したリソグラフィ機器 - 特許庁

To provide a direct drawing type lithographic printing plate original plate which does not require a complicated process after the radiation of laser, and is excellent in handling property.例文帳に追加

レーザー光照射後の煩雑な工程を必要としない、取扱い性に優れた直描型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

In the method, a plurality of weighting factors on each of a plurality of qualities that affect the results of a lithographic process are received.例文帳に追加

この方法では、リソグラフィプロセスの結果に影響を及ぼす複数の品質の個々の品質について、複数の重み係数を受信する。 - 特許庁

A plurality of test resist patterns are formed (S2, S6) by transferring the test patterns by a lithographic process including pattern exposure using the test mask.例文帳に追加

テストマスクを用いたパターン露光を含むリソグラフィー処理により、テストパターンを転写した複数のテスト用レジストパターンを形成する（Ｓ２，Ｓ６）。 - 特許庁

To provide a composition for use in multiple exposure photolithography for making high-density lithographic patterns in the manufacture of a semiconductor device, and a method of forming electronic devices using a multiple exposure lithographic process.例文帳に追加

半導体デバイス製造において、高密度リソグラフィーパターンを製造するために、多重露光フォトリソグラフィーに使用する組成物、および多重露光リソグラフィープロセスを用いて電子デバイスを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method, for manufacturing a lithographic printing plate support, which can perform an electrochemical surface roughening process with small electric energy amount and produce a lithographic printing plate with excellent resistance to plate wear, smear resistance and cleaner resistance.例文帳に追加

少ない電気量で電気化学的粗面化を施すことができ、耐刷性、耐汚れ性および耐クリーナ性に優れる平版印刷版を得ることができる平版印刷版用支持体の製造方法の提供。 - 特許庁

This method is applied as the complemental process or the replaced process of various lithographic processes in the manufacture of an integrated circuit or other micro devices.例文帳に追加

これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。 - 特許庁

To provide a printing job control apparatus which can automatically convert the finish process indication of a printing job for a lithographic printing into the finish process indication of the print job for a digital printing.例文帳に追加

刷版印刷における印刷ジョブの仕上げ処理指示を、デジタル印刷における印刷ジョブの仕上げ処理指示に、自動的に変換することができる印刷制御装置を提供する。 - 特許庁

This method is a step for determining a function for producing a simulated image while the function comprises a step for illustrating process variation related to the lithographic process and a step for producing a simulated image employing the function, and the simulated image comprises a step for showing the imaging result of a target design related to lithographic process.例文帳に追加

この方法は、シミュレートされた像を生成するための関数を決定するステップであって、その関数がリソグラフィプロセスに関連するプロセス変動を説明するステップと、その関数を使用してシミュレートされた像を生成するステップであって、シミュレートされた像がリソグラフィプロセスに関するターゲット設計の結像結果を表すステップとを含む。 - 特許庁

The printing method is characterized in that an image is formed in the lithographic printing plate material using a thermal head or a thermal laser, then the material is developed aboard a lithographic printer using dampening water or dampening water and printing ink, and the printing process is performed.例文帳に追加

前記平版印刷版材料にサーマルヘッド又はサーマルレーザーを用いて画像を形成した後に、平版印刷機上で湿し水又は湿し水と印刷インキにより現像を行い、印刷することを特徴とする印刷方法。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having such resist characteristics that a line-and-space (1:1) with a pattern process accuracy of ≤90 nm can be achieved with a satisfactory shape in the lithographic process for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路のリソグラフィーによるパターン加工精度として９０ｎｍ以下のライン・アンド・スペース（１：１）を良好な形状で達成可能なレジスト特性を有するホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁

To provide a lithographic printing plate applying a silver complex salt diffusion transfer process which improves water retentivity while maintaining high printing durability and particularly improves dot connection.例文帳に追加

高い耐刷性を維持しながら保水性を改良し、特に網がらみを改善した銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.例文帳に追加

反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining information which is used when modeling lithography process, and to provide a lithography structure for executing the lithographic method.例文帳に追加

リソグラフィプロセスをモデル化する際に使用するための情報を取得する方法およびその方法を実行するためのリソグラフィ構成、を提供する。 - 特許庁

To provide a material for a lithographic printing plate capable of obtaining an exposed image with a good contrast without passing it through a developing process and handling in a bright room.例文帳に追加

現像工程を経ることなしに、良好なコントラストを有する焼きだし画像が得られ、明室取り扱い可能な平版印刷版材料を提供する。 - 特許庁

One of the so-formed cross shapes is used as an alignment mark for exposure in a photo-lithographic process for a layer formed later.例文帳に追加

このように形成された十字型のうちのひとつは、後に形成される層のフォトリソグラフィ工程の露光において、アライメントマークとして使用される。 - 特許庁

To provide a method for producing, in stable quality, a polymerizable compound for satisfying the requirement of micronization in a lithographic process, especially for improving roughness.例文帳に追加

リソグラフィ工程における微細化の要求、特に、ラフネスを改善するための重合性化合物を安定した品質で製造する方法を提供する。 - 特許庁