metal interconnectとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF INCREASING ELECTROMIGRATION LIFETIME IN METAL INTERCONNECT例文帳に追加

金属インタ—コネクトでのエレクトロマイグレ—ション寿命を増加させる方法 - 特許庁

MULTILAYERED BARRIER-METAL THIN FILM FOR COPPER INTERCONNECT BY ALCVD例文帳に追加

ＡＬＣＶＤによるＣｕインターコネクトのための多層バリアメタル薄膜 - 特許庁

An interconnect 18 and the intermediate metal layer 12 are connected through the contact hole, and the interconnect 18 is covered with a passivation film 40 finally.例文帳に追加

コンタクトホールを介して配線１８と中間金属層１２を接続し、最終的にパッシベーション膜４０で配線１８を覆う。 - 特許庁

The semiconductor device includes a semiconductor substrate, a first insulating film (third insulating film 24) formed on the semiconductor substrate, having a first trench (second interconnect trench 28), and having a composition ratio varying along the depth, and a first metal interconnect (second metal interconnect 25) filling the first trench (second interconnect trench 28).例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板と、半導体基板上に形成され、第１の溝（第２の配線溝２８）を有し、高さ方向において組成比が異なる第１の絶縁膜（第３の絶縁膜２４）と、第１の溝（第２の配線溝２８）を埋める第１の金属配線（第２の金属配線２５）とを備えている。 - 特許庁

INTERCONNECT-EMBEDDING TYPE METAL-INSULATOR-METAL CAPACITOR, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

相互接続埋め込み式金属絶縁体金属コンデンサ及びその製造方法 - 特許庁

METAL-INSULATING FILM-METAL CAPACITOR OF LOWER PART OF PRIMARY INTERCONNECT LINE, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

第１の配線下部の金属−絶縁膜−金属キャパシタ及びそれの製造方法 - 特許庁

To fabricate a metal-insulator-metal capacitor embedded in an interconnect layer of an integrated circuit.例文帳に追加

集積回路の相互接続の中に埋め込まれる金属−絶縁体−金属コンデンサを製造すること。 - 特許庁

In one embodiment, this method of fabricating an interconnect structure with a bi-layer metal cap includes the steps of: forming an interconnect structure portion in a dielectric material layer; and forming a bi-layer metallic cap on the top surface of an interconnect structure portion.例文帳に追加

１つの実施形態において、本方法は、誘電体材料層内に相互接続構造部を形成するステップ、及び、相互接続構造部の上面に２層金属キャップを形成するステップを含む。 - 特許庁