micropitsとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for manufacturing GaAs wafer which enables the manufacture of a mirror-finished wafer having a small number of micropits from an undoped semi-insulating GaAs crystal.例文帳に追加

アンドープ半絶縁性ＧａＡｓ結晶から微小ピット数の少ない鏡面ウェハを得る。 - 特許庁

To provide a composition for polishing capable of causing a small amount of surface residues and preventing micropits, microprotrusions and other surface defects from occurring and obtaining an excellent processed surface.例文帳に追加

表面残留物の発生が少なく、微細なピット、微小突起及びその他の表面欠陥の発生を防止でき、優れた加工表面を得られる研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a plating apparatus which prevents the formation of microvoids or micropits due to bubbles taken from a plating liquid into a plating film, thus maintaining the quality of the plating film at a constant level.例文帳に追加

めっき液中の気泡が、めっき膜内に取り込まれることで生成されるマイクロボイド又はマイクロピットを防止して、めっき膜の品質を一定レベルに保持することができるめっき装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a composition for polishing having a higher polishing rate and higher defoaming properties than those of a conventional composition for polishing at the time of carrying out the polishing for mirror finish of a substrate used for a memory hard disk and capable of preventing micropits, microprotrusions and other surface defects from occurring.例文帳に追加

メモリーハードディスクに使用されるサブストレートの鏡面研磨において、従来の研磨用組成物に比べて、研磨速度が大きく、また消泡性が高く、微細なピット、微小突起、およびその他の表面欠陥の発生を防止することができる研磨用組成物の提供。 - 特許庁

To provide a polishing material slurry which achieves surface polishing with high surface evenness, small surface roughness and excellent precision hardly causing surface microscratches, surface micropits, or the like, and besides, achieves a high polishing speed.例文帳に追加

表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピットなどをほとんど生じさせないような精度に優れた表面研磨を達成しつつ、かつ、速い研磨速度を達成することができる研磨材スラリーを提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive slurry and abrasive fine powder therein capable of attaining high abrasive speed while attaining such a high-accuracy surface polish as to be high in surface flatness, low in surface roughness and substantially produce neither surface microscratches nor micropits in making a precision polishing of electronics-related substrates or the like.例文帳に追加

エレクトロニクス関連の基板等の精密研磨において、表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピット等をほとんど生じさせないような精度の高い表面研磨を達成しつつ、かつ、速い研磨速度を達成することができる研磨材スラリー及び研磨微粉を提供すること。 - 特許庁