multiplex exposure methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor device capable of suppressing an increase in a chip area by multiplex exposure, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

多重露光によるチップ面積の増加を抑制することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of semiconductor device comprises a process of forming the transfer pattern including a line in which width or angle varies by performing multiplex exposure using a plurality of masks including patterns 1A, 1B on a different mask substrate.例文帳に追加

半導体装置の製造方法を、異なるマスク基板上に異なるパターン１Ａ，１Ｂを有する複数のマスクを用いて多重露光を行なって、幅又は角度が変化するラインを含む転写パターンを形成する工程を含むものとする。 - 特許庁