multipole plasmaとは 意味・読み方・使い方

The ion source device has a pair of mirror electromagnets 11, 12 arranged at regular intervals on the outside of a plasma chamber 10, and a multipole permanent magnet device 20 arranged between a pair of mirror electromagnets, on the outside of the plasma chamber 10.例文帳に追加

プラズマチャンバ１０の外側に間隔をおいて配置された一対のミラー電磁石１１、１２と、前記チャンバの外側であって前記一対のミラー電磁石の間に設けられた多極永久磁石装置２０とを備える。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus which can easily control and set up the adequate state of multipole magnetic fields corresponding to the kind of the plasma treatment, and can easily execute a good treatment.例文帳に追加

プラズマ処理プロセスの種類に応じて適切なマルチポール磁場の状態を容易に制御、設定することができ、良好な処理を容易に行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The plasma etching device is provided with a magnetic field producing means 20 for producing a multipole magnetic field having recoil effect of electron on the inner wall of a chamber 1 in a plane parallel to a substrate 7 to be processed.例文帳に追加

本発明のプラズマエッチング装置は、被処理基板７と平行な面内で、チャンバ１の内壁に電子の反跳作用を有する多極磁場を生成する磁場生成手段２０を備える。 - 特許庁