oxidizing chamberとは 意味・読み方・使い方

The predetermined minimum hydrogen gas partial pressure and a predetermined maximum oxidizing agent partial pressure are made in the chamber.例文帳に追加

所定の最低水素ガス分圧と、所定の最高酸化剤分圧が、チャンバ内で作られる。 - 特許庁

A cleaning chamber 1, a rapid oxidizing chamber 2, an optical measuring chamber 5, etc., are arranged centered on a load lock chamber 3 for providing the manufacturing device of clustered semiconductor device.例文帳に追加

ロードロック室３を中心として、洗浄用チャンバ１，高速酸化用チャンバ２，光学的測定用チャンバ５などが配置され、クラスタリングされた半導体装置の製造装置を備えている。 - 特許庁

The electrode 31 on the measuring gas chamber 7 side has high oxidizing activity to a hydrocarbon, and the electrode 41 on the measuring gas chamber 7 side has almost no oxidizing activity to the hydrocarbon.例文帳に追加

被測定ガス室７側の電極３１は炭化水素に対する酸化活性が高く，被測定ガス室７側の電極４１は，炭化水素に対する酸化活性がほとんどない。 - 特許庁

This applicator is provided with a first chamber 2 for storing liquid dye and a second chamber 3 for storing oxidizing agent.例文帳に追加

液状の染料を収容するための第一の室２および、酸化剤を収容するための第二の室３が設けられている。 - 特許庁

The first compressor 24 supplies the compressed oxidizing agent 36 to the second combustion chamber 34.例文帳に追加

第１の圧縮機（２４）が、圧縮酸化剤（３６）を第２の燃焼室（３４）に供給する。 - 特許庁

A process gas that includes a halogen source, a fluent gas, a silicon source, and an oxidizing gas reactant is flowed into the process chamber.例文帳に追加

ハロゲン源、フルーエントガス、シリコン源、酸化ガス反応種を含むプロセスガスがプロセスチャンバに流し込まれる。 - 特許庁

To provide a method for thermally activating an oxidizing cleaning gas to clean a semiconductor process chamber.例文帳に追加

半導体プロセスチャンバをクリーニングするために酸化クリーニングガスを熱活性化する方法を提供する。 - 特許庁

Then the atmospheres in the furnace 14 and a load-lock chamber 1 are changed to oxidizing gas atmospheres and the wafers 2 are carried out from the furnace 14 to the load-lock chamber 1.例文帳に追加

反応炉１４およびロードロック室１の雰囲気を酸化ガスとして反応炉１４からロードロック室１にSiウェハ２を搬出する。 - 特許庁