oxidizing chamberとは 意味・読み方・使い方

The wafers 2 are cooled in the load-lock chamber 1 filled up with the oxidizing gas atmosphere.例文帳に追加

酸化ガスの雰囲気で満たされたロードロック室１の中でSiウェハ２を冷却する。 - 特許庁

This applicator is provided with a first chamber 2 for storing liquid dye and a second chamber 3 for storing oxidizing agent.例文帳に追加

液状の染料を収容するための第一の室２および、酸化剤を収容するための第二の室３が設けられている。 - 特許庁

Oxidizing gas is introduced into the chamber 2 from a gas introducing port 5 and the chamber 2 and the dummy wafer 11 are heated.例文帳に追加

それから、ガス導入口５からチャンバ２内に酸化性ガスを導入し、チャンバ２およびダミーウエハ１１を加熱する。 - 特許庁

Then the atmospheres in the furnace 14 and a load-lock chamber 1 are changed to oxidizing gas atmospheres and the wafers 2 are carried out from the furnace 14 to the load-lock chamber 1.例文帳に追加

反応炉１４およびロードロック室１の雰囲気を酸化ガスとして反応炉１４からロードロック室１にSiウェハ２を搬出する。 - 特許庁

The pressure device 30 is equipped with a cylinder chamber 50 in which oxidizing agent gas is housed, a motor 54 for changing the capacity of the cylinder chamber 50, and first and second solenoid valves 62a, 62b for opening/closing an oxidizing agent gas inlet 60a and an oxidizing agent gas outlet 60b.例文帳に追加

加圧装置３０は、酸化剤ガスが収容されるシリンダ室５０と、このシリンダ室５０の容量を変更させるモータ５４と、酸化剤ガス導入口６０ａおよび酸化剤ガス導出口６０ｂを開閉自在な第１および第２電磁バルブ６２ａ、６２ｂとを備える。 - 特許庁

The electrode 31 on the measuring gas chamber 7 side has high oxidizing activity to a hydrocarbon, and the electrode 41 on the measuring gas chamber 7 side has almost no oxidizing activity to the hydrocarbon.例文帳に追加

被測定ガス室７側の電極３１は炭化水素に対する酸化活性が高く，被測定ガス室７側の電極４１は，炭化水素に対する酸化活性がほとんどない。 - 特許庁

The entrance side of the plasma generation chamber 11 is provided with: a process gas introduction part 15 for introducing the process gas to be converted into plasma in the plasma generation chamber 11; and an oxidizing gas introduction part 16 for introducing an oxidizing gas.例文帳に追加

プラズマ生成室１１の入口側には、プラズマ生成室１１内でプラズマ化されるプロセスガスを導入するためのプロセスガス導入部１５と、酸化ガスを導入するための酸化ガス導入部１６が設けられている。 - 特許庁

A cleaning chamber 1, a rapid oxidizing chamber 2, an optical measuring chamber 5, etc., are arranged centered on a load lock chamber 3 for providing the manufacturing device of clustered semiconductor device.例文帳に追加

ロードロック室３を中心として、洗浄用チャンバ１，高速酸化用チャンバ２，光学的測定用チャンバ５などが配置され、クラスタリングされた半導体装置の製造装置を備えている。 - 特許庁