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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > reaction substrateの意味・解説 

reaction substrateとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「reaction substrate」の意味

reaction substrate

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「reaction substrate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 1714



例文

SUBSTRATE FOR REACTION CHIP AND REACTION CHIP USING IT例文帳に追加

反応チップ用基板およびこれを用いた反応用チップ - 特許庁

REACTION METHOD OF REACTIVE SUBSTANCE, REACTION DEVICE THEREOF AND SUBSTRATE例文帳に追加

反応性物質の反応方法、その反応装置、及び基板 - 特許庁

FLOW CHANNEL SUBSTRATE AND REACTION DEVICE例文帳に追加

流路基板及び反応装置 - 特許庁

SUBSTRATE FOR REACTION CHIP, AND REACTION CHIP MANUFACTURED THEREFROM例文帳に追加

反応チップ用基板およびこれから作製した反応チップ - 特許庁

(2) By impressing the electric voltage on the reaction solution containing the enzyme and substrate in the reaction vessel, the enzymatic reaction products are produced in the reaction solution.例文帳に追加

(1)加水分解酵素およびその基質を含む反応溶液に電圧を印加することにより、当該加水分解酵素の酵素反応を制御する。 - 特許庁

To eliminate organic matters from a substrate before throwing the substrate into a reaction chamber.例文帳に追加

基板を反応室に投入する前に基板から有機物を除去する。 - 特許庁

例文

ENZYME REACTION METHOD USING ALDEHYDE AS SUBSTRATE例文帳に追加

アルデヒド化合物を基質とする酵素反応方法 - 特許庁

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「reaction substrate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 1714



例文

PLASMA REACTION CHAMBER AND SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM例文帳に追加

プラズマ反応チャンバーおよび基板処理システム - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING INORGANIC-COATED SUBSTRATE USING HETEROGENEOUS REACTION例文帳に追加

不均一反応を用いた無機被覆基材の製造方法 - 特許庁

MICRO-CHEMICAL REACTION APPARATUS AND CHANNEL SUBSTRATE例文帳に追加

マイクロ化学反応装置およびチャンネル基板 - 特許庁

SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF ATTACHING AND DETACHING REACTION CONTAINER例文帳に追加

基板処理装置および反応容器の着脱方法 - 特許庁

The reaction chamber 1 is capable of holding therein the substrate 11.例文帳に追加

反応室1は、内部に基板11を保持可能である。 - 特許庁

This substrate processing device is provided with a reaction vessel for processing a substrate and a heating device for heating the substrate in the reaction vessel.例文帳に追加

基板を処理する反応容器と、この反応容器内の基板を加熱する加熱装置とを備えた基板処理装置に関する。 - 特許庁

A substrate 10 is disposed in a reaction vessel 2, and a grounding electrode 14 is disposed in the reaction vessel 2 separate from the substrate 10 so as to surround the substrate.例文帳に追加

反応槽2内に基板10を配置し、反応槽10内に基板10と離れて、これを包囲するようにアース電極14が配置されている。 - 特許庁

例文

The heat treatment equipment 10 comprises a reaction furnace 40 for treating a substrate 54, and a substrate support 30 for supporting the substrate 54 in the reaction furnace 40.例文帳に追加

熱処理装置10は、基板54を処理する反応炉40と、反応炉40内で基板54を支持する基板支持具30とを有している。 - 特許庁

>>例文の一覧を見る


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