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resist lithographyとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 レジスト食刻
「resist lithography」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 492件
RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, RESIST LAMINATE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
熱リソグラフィー用レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
To provide a resist composition for immersion lithography suitable for use as a resist composition for immersion lithography and having good lithography characteristics, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加
液浸露光用として好適で、かつリソグラフィー特性も良好な液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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「resist lithography」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 492件
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
HIGH SENSITIVITY RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON-BASED LITHOGRAPHY例文帳に追加
電子ベース・リソグラフィのための高感度レジスト組成物 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィによるレジストパターンの形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING RESIN例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂 - 特許庁
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