resist materialsとは 意味・読み方・使い方

Most of foreign materials (resist film pieces) scattered from the resist film in the portion of the exposure spot ES by foaming are stuck on the cover 13.例文帳に追加

露光スポットＥＳの部分のレジスト膜から発泡によって飛び散る飛散異物（レジスト膜片）の多くは、カバー１３上に付着する。 - 特許庁

To provide an allyl ether derivative usable for various materials such as resist materials and low-shrinkage materials, and provide a method for easily producing the derivative and a precursor of the derivative.例文帳に追加

レジスト材料や低収縮化材料等の各種材料に利用可能なアリルエーテル誘導体、それを容易に得るための新規な製造方法と前駆体を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material having higher resolution than conventional negative resist materials, giving a good pattern profile after exposure, and exhibiting excellent etching resistance, particularly a chemically amplified negative resist material and a pattern forming method.例文帳に追加

下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography excellent in solubility of resist materials, a resist pattern forming method using the resist composition for liquid immersion lithography, and a fluorine-containing resin useful as an additive for use in the resist composition for liquid immersion lithography.例文帳に追加

レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem in which two electrodes are apt to be short- circuited when an electronic device is mounted, and the electrodes are lifted or separated due to the generation of gas from heated resist materials or the expansion of the heated resist materials.例文帳に追加

実装時に２つの電極がショートし易いという問題と、発熱に起因するレジスト材料からのガスの発生や膨れに起因する電極の浮きや剥がれの問題を解決する。 - 特許庁

Particularly preferred photoresists can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid in contact with the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加

特に好ましい本発明のフォトレジストは、液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸液中へのレジスト物質の滲出を軽減することができる。 - 特許庁

To provide a resist composite for immersion lithography capable of inhibiting dissolution of materials during immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Particularly a preferred photoresist can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加

本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。 - 特許庁