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silicide gateとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 シリサイドゲート

JST科学技術用語日英対訳辞書での「silicide gate」の意味

silicide gate

シリサイドゲート

「silicide gate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 577件



例文

FET GATE STRUCTURE EQUIPPED WITH METAL GATE ELECTRODE AND SILICIDE CONTACTS例文帳に追加

金属ゲート電極およびシリサイド接点を備えたFETゲート構造 - 特許庁

A ring shaped gate electrode 15 has a double-layer structure wherein a polysilicon layer 15a and a metallic silicide 15b such as W silicide, Ti silicide, Co silicide, Ni silicide, etc. are provided on a gate oxide film 14.例文帳に追加

リング状ゲート電極15は、ゲート酸化膜14を介してポリシリコン層15aと、Wシリサイド、Tiシリサイド、Coシリサイド、Niシリサイドなどの金属シリサイド15bの2層構造で形成される。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF HAFNIUM SILICIDE TARGET FOR FORMING GATE OXIDE FILM例文帳に追加

ゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲットの製造方法 - 特許庁

To form a silicide layer stably on a gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極上にシリサイド層を安定して形成すること。 - 特許庁

ELECTRIC FUSE HAVING METAL SILICIDE PIPE UNDER GATE ELECTRODE例文帳に追加

ゲート電極下に金属シリサイドのパイプを有する電気ヒューズ - 特許庁

All regions around the gate electrode 9 is turned silicide, and then the source/drain regions 6 are turned silicide.例文帳に追加

ゲート電極9の全領域をシリサイド化した後に、ソース・ドレイン領域6をシリサイド化する。 - 特許庁

例文

EMBRITTLEMENT-RESISTANT SILICIDE TARGET FOR DEPOSITING GATE OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SILICIDE TARGET例文帳に追加

耐脆化性に優れたゲート酸化膜形成用シリサイドターゲット及び同シリサイドターゲット製造方法 - 特許庁

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「silicide gate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 577件



例文

SILICIDE TARGET FOR FORMING GATE OXIDE FILM EXCELLENT AGAINST FRAGILITY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SILICIDE TARGET例文帳に追加

耐脆化性に優れたゲート酸化膜形成用シリサイドターゲット及び同シリサイドターゲット製造方法 - 特許庁

A silicide film 112a on a diffusion layer and a dummy silicide film 112b on the gate are formed by a first time silicide process.例文帳に追加

第1回目のシリサイド工程で、拡散層上シリサイド膜112aと、ゲート上のダミーシリサイド膜112bとを形成する。 - 特許庁

Next, a silicide gate structure is formed by using the silicon, and the silicide gate structure is separated from the dielectric material around the gate with the internal spacer layer.例文帳に追加

次いで、このシリコンからシリサイド・ゲート構造を形成し、内部スペーサ層によって、ゲートの周囲の誘電体材料からシリサイド・ゲート構造を分離する。 - 特許庁

METHOD FOR ADJUSTING WORK FUNCTION OF SILICIDE GATE ELECTRODE例文帳に追加

シリサイド化されたゲート電極の仕事関数を調節する方法 - 特許庁

The gate electrode 23 is a full silicide gate electrode including a metal silicide film formed by laminating a plurality of crystal grain layers.例文帳に追加

ゲート電極23は、層状の複数の結晶粒が積層されてなる金属シリサイド膜を有するフルシリサイドゲート電極である。 - 特許庁

SILICIDE TARGET FOR FORMING GATE OXIDE FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ゲート酸化膜形成用シリサイドターゲット及びその製造方法 - 特許庁

The gate electrode 25 is salicided completely to become a silicide gate electrode 45.例文帳に追加

また、ゲート電極25は、完全にサリサイド化されており、シリサイドゲート電極45となっている。 - 特許庁

例文

A layer of metal is formed on the sidewalls of the gate and thermally treated to silicide the gate layer.例文帳に追加

ゲートの側壁上に金属膜が形成され、熱処理されてゲート膜をシリサイド化する。 - 特許庁

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「silicide gate」の意味に関連した用語

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