silicide structureとは 意味・読み方・使い方

FORMATION METHOD OF SILICIDE FILM, MULTILAYER FILM INTERMEDIATE STRUCTURE, AND MULTILAYER FILM STRUCTURE例文帳に追加

シリサイド膜の作製方法、多層膜中間構造体及び多層膜構造体 - 特許庁

The semiconductor device comprises a metal silicide semiconductor contact structure.例文帳に追加

半導体装置はメタルシリサイド−半導体コンタクト構造を有する。 - 特許庁

The electrical fuse has a lamination structure consisting of a polysilicon film 14 and a metal silicide film 15 such as tungsten silicide.例文帳に追加

電気ヒューズは、ポリシリコン膜１４と、タングステンシリサイド等の金属シリサイド膜１５との積層構造とされる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which includes a silicide structure, in which a short-circuit between a silicide layer on an electrode and a silicide layer on a semiconductor substrate is prevented, and the thickness of the silicide layer is controlled easily.例文帳に追加

シリサイド構造を有する半導体装置に関し、電極上のシリサイド層と半導体基板上のシリサイド層との短絡を防止するとともに、シリサイド層の膜厚制御を容易にすること。 - 特許庁

SELF-ALIGNED SILICIDE PROCESS AND STRUCTURE FORMED USING IT例文帳に追加

自己整合されたシリサイド・プロセスおよびそれによって形成された構造 - 特許庁

Consequently, the silicide structure of titanium is made uniform to improve the homology etc.例文帳に追加

これにより、チタンのシリサイド構造を揃えて、モホロジー等を改善する。 - 特許庁

FET GATE STRUCTURE EQUIPPED WITH METAL GATE ELECTRODE AND SILICIDE CONTACTS例文帳に追加

金属ゲート電極およびシリサイド接点を備えたＦＥＴゲート構造 - 特許庁

After a MOS structure element is formed, a silicide-preventing film is formed of a metal film capable of serving as a barrier against silicide reaction.例文帳に追加

ＭＯＳ構造素子の形成後に、シリサイド反応のバリアとして機能可能なメタル膜でシリサイド防止膜を形成する。 - 特許庁