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The sputtering rates of the targets 21a, 21b are calculated and the pulse electric power, pulse amount and pulse width applied to the respective targets 21a, 21b and the amount of oxygen flowing into a cover 26 and the pressure in the cover are controlled based on the results of the calculation.例文帳に追加
各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に導入する酸素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 - 特許庁
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スパッタリング計算
JST科学技術用語日英対訳辞書
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