sputtering characteristicとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of manufacturing vertical recording medium for improving distribution in a substrate surface by sputtering deposition without decline of productivity and cost increase and obtaining good magnetic characteristic and electromagnetic characteristic.例文帳に追加

生産性低下やコストアップを生じることなく、スパッタリング成膜による基板面内分布を改善し、もって良好な磁気特性、電磁気特性が得られ垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device for a plasma display panel capable of forming a uniform protection film with a good secondary electron emission characteristic and sputtering resistance on a PDP substrate.例文帳に追加

ＰＤＰの基板上に２次電子放出特性及び耐スパッタリング性が良好且つ均一な保護膜を形成することができるプラズマディスプレイパネルの製造装置を提供する。 - 特許庁

A metallic thin film is formed on a surface of a semiconductor ceramic sintered body having a negative temperature characteristic of resistance by a vapor deposition or sputtering method, followed by a thermal treatment in an atmosphere.例文帳に追加

負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック焼結体の表面に、蒸着又はスパッタリング法により金属薄膜を形成し、その後、大気中で熱処理する。 - 特許庁

To enable deposition of metal compound which has crystallization promoting function, optical characteristic, and adhesion to a recording medium for a sputtering target used for deposition of interface film of phase change recording medium.例文帳に追加

相変化記録媒体の界面層膜の成膜等に用いられるスパッタリングターゲットにおいて、結晶化促進機能、光学的特性、記録膜との密着性をもった金属化合物膜の成膜を可能にする。 - 特許庁

To provide a semiconductor ceramic element having favorable heat resistance and a negative temperature characteristic of resistance with a small long-term resistance change by stabilizing a thin film formed for use in an electrode by a vapor deposition or sputtering method.例文帳に追加

蒸着やスパッタリング法で電極用として形成された薄膜を安定化させ、耐熱性がよく、長期にわたる抵抗変化が小さな負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック素子を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ceramic electronic component which can reduce stress in an electrode when the electrode is formed by sputtering to hardly have variation in characteristic due to the stress and also has little deterioration in the tensile strength of a lead terminal.例文帳に追加

スパッタリングにより電極を形成した場合の電極中のストレスを低減でき、該ストレスによる特性の変化が生じ難く、かつリード端子の引っ張り強度の劣化が生じ難いセラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A substrate, formed by PZT in thin film excellent in piezoelectric characteristic, can be provided even on the material substrate such as silicon substrate, on which PZT thin film of satisfactory piezoelectric characteristics is hard to be formed by direct sputtering method.例文帳に追加

本発明によると、シリコン基板などに直接スパッタリングなどの方法では圧電特性の良いＰＺＴ薄膜を形成し難い材料基板の上に、圧電特性の良いＰＺＴを薄膜状態で設置した基板を提供できる。 - 特許庁

To improve the lamp starting characteristic of a high pressure discharge lamp which uses a large amount of mercury and in which the amounts of mercury adhering to both electrodes are not equal to each other, to reduce the glow discharge generation time period of the lamp, and to keep electrode sputtering of the lamp to the minimum.例文帳に追加

水銀量が多く、両電極に付着する水銀量が等しくならない高圧放電ランプのランプの始動性能を改善し、グロー放電の発生時間を短縮することができ、電極のスパッタを最小限に抑制すること。 - 特許庁