sputtering effectとは 意味・読み方・使い方

At this time, sputtering effect is enhanced and then projecting portions are reduced gradually on both the sides of a hollow of the polysilicon film.例文帳に追加

このとき、スパッタリング効果を高めることによって、ポリシリコン膜における窪みの両側の突出した部分が徐々に削り取られる。 - 特許庁

To provide an oxide semiconductor, a sputtering target with high reproducibility of target composition, and a field effect transistor with large-area uniformity and high reproducibility.例文帳に追加

酸化物半導体、ターゲット組成の再現性が高いスパッタリングターゲット、大面積均一性、再現性の高い電界効果トランジスタを提供する。 - 特許庁

In this case, the shaping layer is deposited by sputtering using a material having a strong shadowing effect and the groove shape is corrected by selection of the material and film thickness control.例文帳に追加

その際、シャドーイング効果が強い材料を用いてスパッタリングで整形層を成膜し、材料の選択と膜厚制御により溝形状を修正する。 - 特許庁

AMORPHOUS OXIDE SEMICONDUCTOR THIN-FILM, ITS FORMING METHOD, MANUFACTURING PROCESS OF THIN-FILM TRANSISTOR, FIELD EFFECT TRANSISTOR, LIGHT-EMITTING DEVICE, DISPLAY AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

非晶質酸化物半導体薄膜、その製造方法、薄膜トランジスタの製造方法、電界効果型トランジスタ、発光装置、表示装置及びスパッタリングターゲット - 特許庁

To provide a fluorescent lamp, capable of restraining the electrode consumption due to the sputtering as much as possible while utilizing the hollow cathode effect, and to provide a lighting system using this fluorescent lamp.例文帳に追加

ホローカソード効果を利用しつつスパッタリングによる電極消耗を極力抑制した蛍光ランプおよび照明装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a cold cathode discharge tube by connecting electrodes made of sputtering resistant metal with internal lead at a temperature with no harmful overheat effect.例文帳に追加

耐スパッタリング性のある金属で形成された電極を過熱弊害の生じない温度で内部リードに接合して冷陰極放電管を製造する。 - 特許庁

To provide a metal mask for sputtering, which does not give an adverse effect such as increase in an ohmic value due to moisture adsorbed in a resinous salient, to a transparent conductive film, even when the film is formed with the use of the metal mask provided with the resinous salient for sputtering.例文帳に追加

樹脂の凸部を設けたスパッタ用メタルマスクを用いて透明導電膜を成膜しても、樹脂の凸部に吸着された水分に起因する抵抗値の上昇といった悪影響を受けないスパッタ用メタルマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus that increases a confinement effect for plasma and charged particles such as secondary electrons, which are formed between targets, into a space between the targets, without shortening distance between centers of a pair of the targets, and to provide a sputtering method.例文帳に追加

一対のターゲットの中心間距離を短くすることなく、ターゲット間に形成されるプラズマ及び二次電子等の荷電粒子のターゲット間への閉じ込め効果を大きくするスパッタ装置及びスパッタ方法を提供することを課題とする。 - 特許庁