underetchingとは 意味・読み方・使い方

In the method of manufacturing a ferroelectric memory, a ferroelectric material film 14 formed on a lower electrode material film 12 is patterned by underetching so as not to expose the lower electrode material film 12 to form a plurality of ferroelectric sections 22 and a residual underetched film 24.例文帳に追加

強誘電体メモリの製造方法では、下部電極材料膜１２上に形成された強誘電体材料膜１４を、下部電極材料膜１２が露出しないように、アンダーエッチングによってパターニングして、複数の強誘電体部２２と、アンダーエッチング残膜２４と、を形成する。 - 特許庁

At the time of an etching of sacrifice layers 2 and 4 to expose a board 1 and/or a conductor path layer 3, at least a protective layer 5 is temporarily provided in a prescribed range under a bonding pad header 8 and around the header 8 on the layers 2 and 4 for stopping such an underetching as the etching of the layers 2 and 4 under the header 8.例文帳に追加

基板（１）及び／又は導体路層（３）を露出する犠牲層（２；４）のエッチングの際に、ボンディングパッドヘッダ（８）の下における犠牲層（２；４）のこのようなアンダーエッチングを阻止するために、ボンディングパッドヘッダ（８）の下の所定の範囲及び犠牲層（２；４）の上のボンディングパッドヘッダ（８）の回りに少なくとも一時的に保護層（５）を設ける。 - 特許庁