例文 (4件) |
"くろむしゃ"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法例文帳に追加
METHOD FOR REGENERATING COLOR FILTER GLASS SUBSTRATE HAVING CHROMIUM SHADING LAYER - 特許庁
投光基板とクロム遮光層間に位相反転層がさらに形成されうる。例文帳に追加
Further, a phase inversion layer can be interposed between the light-transmissive substrate and the chromium light shielding layer. - 特許庁
投光基板上にクロム遮光層が形成され、その上にクロラインガス及び酸素ガスを含むエッチングガスに対して前記クロム遮光層とのエッチング選択比が少なくとも3:1以上になる導電性物質よりなるハードマスク層が形成され、その上にレジスト層が形成されるブランクフォトマスクである。例文帳に追加
The blank photomask comprises: a chromium light shielding layer formed on a light-transmissive substrate; a hard mask layer comprising a conductive substance formed thereon with an etching selectivity of at least 3:1 or higher with respect to the chromium light shielding layer against an etching gas mixture containing chlorine gas and oxygen gas; and a resist layer formed on the hard mask layer. - 特許庁
フォトマスクの製造方法に関し、位相シフトマスクのシフター膜をドライエッチングする際、経時的な装置状態の変化に対応して常に最適なエッチング時間の設定を行うことができるように、特に、ハーフトーン型の位相シフトマスクにおいては、シフター膜形成やクロム遮光膜のエッチングによって生じるシフター膜厚のばらつきを考慮したエッチング条件の設定を行なうことができるようにする。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing a photomask by which an optimum etching period can be always set corresponding to changes in a device state with lapse of time upon dry-etching a shifter film of a phase shift mask, particularly for a halftone phase shift mask, etching conditions can be set considering variance in the shifter film thickness caused by formation of a shifter film or etching of a chromium light shielding film. - 特許庁
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