「あいのうた」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

ＩＩＩ族窒化物系化合物半導体の製造方法及びＩＩＩ族窒化物系化合物半導体素子例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING GROUP III NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR AND GROUP III NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体層の気相成長方法及びＩＩＩ族窒化物半導体素子例文帳に追加

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体自立基板の製造方法およびＩＩＩ族窒化物半導体自立基板例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SELF-SUPPORTED GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SELF-SUPPORTED GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物積層体、その製造方法およびＩＩＩ族窒化物半導体素子例文帳に追加

GROUP-III NITRIDE LAMINATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND GROUP-III NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体素子およびＩＩＩ族窒化物半導体素子の製造方法例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体の製造方法及びＩＩＩ族窒化物半導体発光素子例文帳に追加

MANUFACTURE FOR III GROUP NITRIDE SEMICONDUCTOR AND LIGHT EMITTING ELEMENT THEREOF - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子、ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の製造方法及びランプ例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND LAMP - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体製造装置、およびＩＩＩ族窒化物半導体の製造方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の製造方法、ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子及びランプ例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND LAMP - 特許庁

ｐ型のＩＩＩ族窒化物半導体の形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING p-TYPE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体の成膜方法およびその装置例文帳に追加

FORMING METHOD AND DEVICE OF III NITRIDE SEMICONDUCTOR FILM - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物ｐ型半導体の製造方法およびＩＩＩ族窒化物半導体発光素子例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF GROUP III NITRIDE p-TYPE SEMICONDUCTOR AND LUMINOUS ELEMENT OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

混載ＬＳＩ半導体装置例文帳に追加

MIXED LSI SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

ＩＣカード収納体例文帳に追加

IC CARD STORAGE - 特許庁

新規のＩＩ−ＩＩＩ−Ｖ化合物半導体を提供する。例文帳に追加

To provide a novel II-III-V compound semiconductor. - 特許庁

シールド配線を行うためのＬＳＩ例文帳に追加

LSI FOR SHIELD WIRING - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体素子及び多波長発光ＩＩＩ族窒化物半導体層例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE AND MULTI-WAVELENGTH LIGHT EMITTING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体積層ウェハ及びＩＩＩ族窒化物半導体デバイス例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR STACKED WAFER AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体レーザ、及びＩＩＩ族窒化物半導体レーザを作製する方法例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER AND METHOD OF MANUFACTURING THE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体及びＩＩＩ族窒化物半導体成長用基板例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR AND SUBSTRATE FOR GROWING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体薄膜およびＩＩＩ族窒化物半導体発光素子例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体レーザ素子、及びＩＩＩ族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法例文帳に追加

III-NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT AND III-NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物系半導体トランジスタおよびＩＩＩ族窒化物半導体積層ウエハ例文帳に追加

III-NITRIDE BASED SEMICONDUCTOR TRANSISTOR AND III-NITRIDE SEMICONDUCTOR MULTILAYER WAFER - 特許庁

ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体の製造方法およびＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING GROUP III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR, AND GROUP III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体製造装置及びＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体の製造方法例文帳に追加

APPARATUS FOR MANUFACTURING III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR AND III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体発光素子を製造する方法、及びＩＩＩ族窒化物半導体発光素子例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE, AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物系化合物半導体素子及びＩＩＩ族窒化物系化合物半導体発光素子例文帳に追加

III NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR ELEMENT AND III NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT - 特許庁

ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体基板の熱処理方法およびＩＩ−ＶＩ族化合物半導体基板例文帳に追加

HEAT TREATMENT METHOD FOR GROUP II-VI COMPOUND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND THE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体層、発光層およびＩＩＩ族窒化物半導体発光素子例文帳に追加

GROUP-III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER, LIGHT EMITTING LAYER, AND III-GROUP NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体レーザ及びＩＩＩ族窒化物半導体レーザを作製する方法例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER AND ITS FABRICATION PROCESS - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体を成長する方法、およびＩＩＩ族窒化物半導体装置を作製する方法例文帳に追加

GROWING METHOD AND DEVICE PREPARING METHOD FOR GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体素子、及びＩＩＩ族窒化物半導体素子を作製する方法例文帳に追加

GROUP-III NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND METHOD OF PRODUCING THE SAME - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体の電極形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING ELECTRODES OF III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD OF III-FAMILY NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体結晶の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING III-V GROUP NITRIDE SEMICONDUCTOR CRYSTAL - 特許庁

ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体及びその製造方法例文帳に追加

III-V NITRIDE SEMICONDUCTOR AND ITS PRODUCTION PROCESS - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体基板およびその製造方法例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体のエッチング方法例文帳に追加

METHOD FOR ETCHING III-V NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体のエッチング方法例文帳に追加

METHOD FOR ETCHING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体素子およびその製造方法例文帳に追加

III NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体薄膜およびその製造方法例文帳に追加

GROUP-III NITRIDE SEMICONDUCTOR THIN FILM AND ITS FABRICATION - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体基板、並びにその製造方法例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

ＩＩＩ−Ｖ族窒化物系半導体基板の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING FOR GROUP III-V NITRIDE BASED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

ＩＩＩ族窒化物半導体基板およびその洗浄方法例文帳に追加

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND CLEANING METHOD THEREOF - 特許庁

血液凝固第ＶＩＩＩ因子の機能代替抗体例文帳に追加

ANTIBODY SUBSTITUTING FOR FUNCTION OF BLOOD COAGULATION FACTOR VIII - 特許庁