例文 (999件) |
シリコン素子の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2144件
シリコン光素子例文帳に追加
SILICON OPTICAL ELEMENT - 特許庁
ポリシリコン抵抗素子例文帳に追加
POLYSILICON RESISTANCE ELEMENT - 特許庁
シリコン抵抗素子300はシリコン層からなる。例文帳に追加
A silicon resistance element 300 consists of a silicon layer. - 特許庁
シリコン素子の製造方法例文帳に追加
PROCESS FOR FABRICATING SILICON ELEMENT - 特許庁
シリコン素子の製造方法例文帳に追加
MANUFACTURE OF SILICON DEVICE - 特許庁
シリコンスピン伝導素子の製造方法及びシリコンスピン伝導素子例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING SILICON SPIN CONDUCTING ELEMENT, AND SILICON SPIN CONDUCTING ELEMENT - 特許庁
ナノシリコン発光素子の製造法及びそのナノシリコン発光素子例文帳に追加
NANO SILICON LIGHT EMITTING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁
薄膜多結晶シリコン、薄膜多結晶シリコンの製造方法及びシリコン系光電変換素子例文帳に追加
THIN-FILM POLYCRYSTALLINE SILICON, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND SILICON PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT - 特許庁
シリコンナノワイヤ、シリコンナノワイヤを含む半導体素子及びシリコンナノワイヤの製造方法例文帳に追加
SILICON NANO-WIRE, SEMICONDUCTOR ELEMENT INCLUDING SILICON NANO-WIRE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SILICON NANO-WIRE - 特許庁
シリコン系膜の形成方法、シリコン系膜および半導体素子例文帳に追加
METHOD OF FORMING SILICON FILM, THE SILICON FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
シリコン系膜の形成方法、シリコン系膜及び光起電力素子例文帳に追加
SILICON-BASED FILM AND FORMATION METHOD, THEREFOR, AND PHOTOVOLTAIC ELEMENT - 特許庁
シリコン系薄膜の形成方法、シリコン系薄膜及び半導体素子例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON-BASED THIN FILM, SILICON- BASED THIN FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
シリコン系薄膜の形成方法、シリコン系薄膜及び光起電力素子例文帳に追加
SILICON-BASED THIN FILM AND ITS FORMATION METHOD AND PHOTOVOLTAIC ELEMENT - 特許庁
シリコン光起電力素子の製造装置、シリコン光起電力素子及びその製造方法例文帳に追加
MANUFACTURING APPARATUS OF SILICON PHOTOVOLTAIC ELEMENT, THE SILICON PHOTOVOLTAIC ELEMENT, AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
シリコン系薄膜光電変換素子の製造方法、製造装置およびシリコン系薄膜光電変換素子例文帳に追加
SILICON-BASED THIN FILM PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS THEREFOR - 特許庁
シリコン基体の加工方法、溝構造を有するシリコン基体、光学素子成形金型、シリコン製光学素子例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING SILICON SUBSTRATE, SILICON SUBSTRATE HAVING GROOVE STRUCTURE, OPTICAL ELEMENT MOLDING DIE, AND OPTICAL ELEMENT MADE OF SILICON - 特許庁
シリコン基板の製造方法、シリコン基板、太陽電池用シリコン基板、太陽電池素子の製造方法、太陽電池素子及び太陽電池例文帳に追加
METHOD OF PRODUCING SILICON SUBSTRATE, SILICON SUBSTRATE, SILICON SUBSTRATE FOR SOLAR CELL, METHOD OF MANUFACTURING SOLAR CELL ELEMENT, SOLAR CELL ELEMENT AND SOLAR CELL - 特許庁
シリコンナノ結晶発光素子及びその製造方法例文帳に追加
SILICON NANOCRYSTAL LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS PRODUCTION - 特許庁
半導体素子のポリシリコン膜形成方法例文帳に追加
POLYSILICON FILM FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
シリコン化合物、液晶組成物および液晶表示素子例文帳に追加
SILICONE COMPOUND, LIQUID CRYSTAL COMPOSITION AND LIQUID CRYSTAL DISPLAYING ELEMENT - 特許庁
ポリシリコンを含む半導体素子及びその製造方法例文帳に追加
SEMICONDUCTOR DEVICE CONTAINING POLY-SI AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
多結晶シリコン半導体素子及びその製造方法例文帳に追加
POLYCRYSTALLINE SILICON SEMICONDUCTOR ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME - 特許庁
半導体素子1はシリコン系基板2を備えている。例文帳に追加
The semiconductor device 1 is equipped with a silicon system substrate 2. - 特許庁
シリコンオキシド層を含む半導体素子の製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING SILICON OXIDE LAYER - 特許庁
ポリシリコンTFT液晶表示素子例文帳に追加
抵抗素子34は、例えば、ポリシリコン膜である。例文帳に追加
The resistor element 34 is, for instance, a polysilicon film. - 特許庁
半導体素子用シリコンウェーハおよびその製造方法例文帳に追加
SILICON WAFER FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
シリコン光起電力素子及びその製造方法例文帳に追加
SILICON PHOTOVOLTAIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
半導体素子及びシリコン酸化窒化膜の製造方法例文帳に追加
SEMICONDUCTOR ELEMENT AND METHOD FOR FORMING SILICON OXYNITRIDE FILM - 特許庁
シリコン系薄膜光起電力素子及びその製造方法例文帳に追加
SILICON THIN FILM PHOTOVOLTALIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
多結晶シリコン素子およびその製造方法例文帳に追加
POLYCRYSTALLINE SILICON ELEMENT AND ITS MANUFACTURE - 特許庁
多孔質シリコン発光素子及びその製造方法例文帳に追加
POROUS SILICON LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
多孔質シリコン光素子の製造方法例文帳に追加
MANUFACTURING METHOD OF POROUS SILICON OPTICAL ELEMENT - 特許庁
シリコン系半導体形成方法及び光起電力素子例文帳に追加
METHOD FOR FORMING SILICON-BASED SEMICONDUCTOR AND PHOTOVOLTAIC ELEMENT - 特許庁
アモルファスシリコン受光素子およびその製造方法例文帳に追加
AMORPHOUS SILICON LIGHT-RECEIVING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
半導体素子、シリコン系薄膜の形成方法例文帳に追加
FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SILICON- BASED THIN FILM - 特許庁
ナノシリコン発光素子及びその製造法例文帳に追加
NANO-SILICON LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACURING METHOD - 特許庁
歪み検出素子20は、シリコンチップで構成される。例文帳に追加
The element is constituted with a silicon chip. - 特許庁
シリコン表面処理および素子作製方法例文帳に追加
SILICON SURFACE PROCESSING AND METHOD FOR MANUFACTURING ELEMENT - 特許庁
シリコン発光素子及びその製造方法例文帳に追加
SILICON LIGHT EMITTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
横方向シリコン制御整流素子及びこれを備えるESD保護素子例文帳に追加
LATERAL-DIRECTION SILICON CONTROL RECTIFYING ELEMENT, AND ESD PROTECTION ELEMENT EQUIPPED WITH THE SAME - 特許庁
薄膜多結晶シリコン、シリコン系光電変換素子、及びその製造方法例文帳に追加
THIN-FILM POLYCRYSTALLINE SILICON, SILICON-BASED PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
抵抗素子22の側面にシリコン酸化膜28を介してシリコン窒化膜30が形成されている。例文帳に追加
On the flank of the resistor element 22, a silicon nitride film 30 is formed across a silicon oxide film 28. - 特許庁
発光素子は、n型シリコン酸化膜2と、p型シリコン窒化膜3とを備える。例文帳に追加
The light-emitting element includes an n-type silicon oxide film 2 and a p-type silicon nitride film 3. - 特許庁
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