例文 (2件) |
ジエチレンジアミンを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
(1)ニトリロ三酢酸(NTA:nitrilotriacetic acid) (2)エチレンジアミン四酢酸(EDTA:ethylenediaminetetraacetic acid) (3)ジエチレンジアミン−N,N,N”,N”−五酢酸(DTPA:diethylenediamine-N,N,N",N"-pentaacetic acid) (4)シクロヘキサンジアミン四酢酸(CyDTA:cyclohexanediaminetetraacetic acid)例文帳に追加
Here, as the chelate agent (1) is set as a nitrilotriacetic acid(NTA), (2) is an ethylenediaminetetraacetic acid(EDTA), (3) is a diethylenediamine-N,N,N",N"-pentaacetic acid(DTPA) and (4) is a cyclohexanediaminetetraacetic acid(CyDTA). - 特許庁
珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか1種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第4アンモニウムを含有することで、25℃におけるpHが8.5〜11.0に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。例文帳に追加
The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0. - 特許庁
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