意味 | 例文 (999件) |
スパッタ装置の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1913件
スパッタリングターゲット及びスパッタリング装置、スパッタリング方法及びその方法をコンピュータに実行させるためのプログラム例文帳に追加
SPUTTERING TARGET, SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD - 特許庁
ある1つのターゲットから飛散したスパッタ粒子が他のターゲットに付着することを防止できるスパッタ装置及びスパッタ法を提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering apparatus and method, capable of preventing the adhesion of sputter particles scattered from a target to other targets. - 特許庁
スパッタ法を用いたイオン注入法及びその装置例文帳に追加
ION IMPLANTATION METHOD USING SPUTTERING METHOD, AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁
マグネトロンスパッタリング装置用Ti−W材例文帳に追加
Ti-W MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
圧電素子膜製造用スパッタリング装置例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC ELEMENT FILM - 特許庁
マグネトロンカソード及びスパッタリング装置例文帳に追加
MAGNETRON CATHODE CAN SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
ターゲット組立ユニットおよびスパッタリング装置例文帳に追加
TARGET ASSEMBLY UNIT AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
ECRスパッタ装置および多層膜形成方法例文帳に追加
ECR SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER FILM - 特許庁
複合成膜装置およびスパッタリング蒸発源例文帳に追加
COMBINED FILM DEPOSITION APPARATUS AND SPUTTERING VAPOR SOURCE - 特許庁
スパッタリング装置および水冷カソード例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND WATER COOLED CATHODE - 特許庁
マグネトロンスパッタリング成膜装置及び方法例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD - 特許庁
マグネトロンスパッタ装置用カソード例文帳に追加
CATHODE FOR MAGNETRON SPUTTERING EQUIPMENT - 特許庁
マグネトロンユニット及びスパッタリング装置例文帳に追加
MAGNETRON UNIT AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
スパッタリング装置、及び電子デバイスの製造方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE - 特許庁
スパッタイオンポンプおよび画像表示装置例文帳に追加
SPUTTER ION PUMP AND IMAGE DISPLAY DEVICE - 特許庁
半導体デバイスの製造方法とスパッタリング装置例文帳に追加
MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
コーティング装置およびスパッタリング成膜方法例文帳に追加
COATING APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
このオーバレイ4は、スパッタリング装置にて形成する。例文帳に追加
The overlay 4 is formed by a sputtering device. - 特許庁
スパッタリング装置及びその使用方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND ITS USE METHOD - 特許庁
スパッタリング装置用の交流電源例文帳に追加
AC POWER SUPPLY FOR SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
スパッタリング装置及びそのメンテナンス方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREFOR - 特許庁
アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置及び方法例文帳に追加
UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD - 特許庁
ロータリージョイント、及びスパッタリング装置例文帳に追加
ROTARY JOINT AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCTION METHOD - 特許庁
回転磁石およびインライン型スパッタリング装置例文帳に追加
ROTATING MAGNET, AND INLINE TYPE SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
方向性珪素鋼板用のマグネトロン・スパッタ装置例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING DEVICE FOR GRAIN ORIENTED SILICON STEEL SHEET - 特許庁
薄膜の製造方法およびスパッタリング装置例文帳に追加
THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
真空スパッタリング装置とその蒸着方法例文帳に追加
VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD THEREFOR - 特許庁
成膜方法およびスパッタリング装置例文帳に追加
FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
スパッタリング装置および成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
スパッタリング方法及び成膜装置例文帳に追加
SPUTTERING METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS - 特許庁
反応性マグネトロンスパッタリング装置例文帳に追加
スパッタ成膜方法及びプラズマ処理装置例文帳に追加
SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁
当該ターゲット構造を有するスパッタリング装置。例文帳に追加
The sputtering apparatus includes the target structure. - 特許庁
マグネトロンスパッタ装置及び電子部品の製造方法例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT - 特許庁
磁性粉末コーティング用スパッタリング装置例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS FOR MAGNETIC POWDER COATING - 特許庁
スパッタリング装置用のバッキングプレート例文帳に追加
BACKING PLATE FOR SPUTTERING DEVICE - 特許庁
スパッタリングのための方法及び装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING - 特許庁
スパッタリング装置およびその磁気回路例文帳に追加
SPUTTERING SYSTEM AND MAGNETIC CIRCUIT FOR THE SAME - 特許庁
冷却性能に優れたスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering apparatus superior in cooling performance. - 特許庁
スパッタリング装置及び膜形成方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD - 特許庁
スパッタリング装置および製造方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD - 特許庁
プラネタリー方式のスパッタリング装置例文帳に追加
PLANETARY SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
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