例文 (8件) |
プラズマしゃへい効果の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
電磁波の遮蔽効果を持続させることのできるプラズマディスプレイ表示装置を提供する。例文帳に追加
To provide a plasma display device capable of maintaining an electromagnetic wave shielding effect. - 特許庁
本発明は、パネルの軽薄化を可能にすると同時に、電磁波をより効果的に遮蔽し得るプラズマディスプレイパネルを提供する。例文帳に追加
To provide a plasma display panel that can be formed to be light and thin, and simultaneously that can shield electromagnetic waves effectively. - 特許庁
ウェハをプラズマ32に曝すと、電子遮蔽効果によって各センサ50内のコンタクトホール56の底に、チャージアップが発生する。例文帳に追加
When the wafer is exposed to the plasma 32, charge-up is generated at the bottom of a contact hole 56 in each sensor 50 by electron shield effects. - 特許庁
CRT、液晶、プラズマ等のディスプレーなどから発生する有害な電磁波を遮断する電磁波シールド用透明シートにおいて、透光性と電磁波の遮断効果を両立できる電磁波遮蔽フィルムを提供する。例文帳に追加
To provide an electromagnetic wave shield film capable of providing both translucency and a shielding effect of electromagnetic waves, relating to a transparent sheet for electromagnetic wave shielding that shields harmful electromagnetic waves generated from a CRT, liquid crystal display, plasma display or the like. - 特許庁
CRT、液晶、プラズマなどのディスプレー用として、透光性と電磁波遮蔽効果の優れた電磁波シールドフィルムを簡易な方法で、かつ低コストで製造する方法を提供する。例文帳に追加
To provide an easy manufacturing method of an electromagnetic wave shield film which is excellent in translucency and electromagnetic wave shield effect at a low cost for display of CRT, liquid crystal, plasma or the like. - 特許庁
導電性フィルムとバックカバーとを用いた電磁遮蔽(電磁シールド)構造において、電磁シールド効果を高めることができるプラズマディスプレイ装置を提供する。例文帳に追加
To provide a plasma display device capable of enhancing electromagnetic shielding effect, in an electromagnetic shielding structure, using a conductive film and a back cover. - 特許庁
表示品位を低下させることなく、また製品製造上の不良発生率を増加させることなく十分な電磁波遮蔽効果を得ることのできるプラズマディスプレイパネルを提供する。例文帳に追加
To provide a plasma display panel, capable of providing sufficient electromagnetic wave shielding effect, without making display quality degraded or without increasing a fraction defective in manufacturing of a product. - 特許庁
誘導結合型プラズマを用いて等価回路で表した場合に保護ダイオードに接続されるような配線加工を行うと、電気遮蔽効果によりトランジスタのゲート酸化膜が破壊され、トランジスタ性能が低下するという問題の解決を図る。例文帳に追加
To prevent a semiconductor device from deteriorating in reliability by a method, wherein a transistor capable of recovering its characteristics is in a state where a gate insulating film suffers no damage, even if wirings are formed through an inductively coupled plasma etching method. - 特許庁
例文 (8件) |
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