「マスク」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

電鋳マスク治具例文帳に追加

ELECTROFORMED MASK TOOL - 特許庁

シート材製マスク例文帳に追加

SHEET MASK - 特許庁

ステンシルマスク例文帳に追加

STENCIL MASK - 特許庁

ファッションマスク例文帳に追加

FASHION MASK - 特許庁

成膜用マスク例文帳に追加

FILM FORMING MASK - 特許庁

美容用マスク例文帳に追加

MASK FOR BEAUTY - 特許庁

露光用マスク例文帳に追加

MASK FOR EXPOSURE - 特許庁

基体蛍光マスク例文帳に追加

SUBSTRATE FLUORESCENCE MASK - 特許庁

マスク作成装置例文帳に追加

MASK FABRICATING DEVICE - 特許庁

フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、及びフォトマスク例文帳に追加

SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスク評価方法およびフォトマスク評価マスク例文帳に追加

EVALUATION METHOD FOR PHOTOMASK AND MASK FOR EVALUATION OF PHOTOMASK - 特許庁

マスク処理装置、マスク処理方法、プログラム、およびマスク例文帳に追加

MASK PROCESSING APPARATUS, MASK PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND MASK - 特許庁

マスク回路及びマスク制御回路並びにマスク方法例文帳に追加

MASK CIRCUIT, MASK CONTROL CIRCUIT, AND MASKING METHOD - 特許庁

マスクは、グレイマスク、またはシャドウマスクである。例文帳に追加

The mask is a gray mask or a shadow mask. - 特許庁

マスク、マスクの製造方法、及びマスクの製造装置例文帳に追加

MASK, METHOD FOR PRODUCING MASK AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

マスクＲＯＭ用マスク及びマスクＲＯＭの製造方法例文帳に追加

MASK FOR MASK ROM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

マスク検査方法、マスク作成方法およびマスク例文帳に追加

MASK CHECKING METHOD, MASK FORMING METHOD, AND MASK - 特許庁

マスクアダプタ、マスクアダプタ付マスク及び露光方法例文帳に追加

MASK ADAPTER, MASK WITH MASK ADAPTER, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

マスク製造方法、マスクおよびマスク製造セット例文帳に追加

MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK MANUFACTURING SET - 特許庁

転写マスク、マスク保持装置、およびマスク保持構造例文帳に追加

TRANSFER MASK, DEVICE AND STRUCTURE FOR HOLDING MASK - 特許庁

マスク保型具及びこのマスク保型具を有するマスク例文帳に追加

MASK SHAPE RETAINING TOOL AND MASK HAVING THE SAME - 特許庁

マスク装着ユニット、マスク分離ユニット、マスク着脱ユニット、マスク装着装置、マスク分離装置、及び、マスク着脱装置例文帳に追加

MASK MOUNTING UNIT, MASK SEPARATING UNIT, MASK MOUNTING AND DETACHING UNIT, MASK MOUNTING DEVICE, MASK SEPARATING DEVICE, AND MASK MOUNTING AND DETACHING DEVICE - 特許庁

フォトマスクブランク用基板、フォトマスクブランク及びフォトマスク例文帳に追加

SUBSTRATE FOR PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスクブランク、フォトマスクブランク用ガラス基板及びフォトマスク例文帳に追加

PHOTOMASK BLANK, GLASS SUBSTRATE FOR PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクブランクの選定方法例文帳に追加

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK AND METHOD OF SELECTING PHOTOMASK BLANK - 特許庁

フォトマスクブランクおよびフォトマスク並びにフォトマスクの製造方法例文帳に追加

PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスク、フォトマスクの製造方法、およびフォトマスクの製造装置例文帳に追加

PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK AND MANUFACTURE APPARATUS OF PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスクの製造方法、フォトマスクの製造装置およびフォトマスク例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスクの製造方法、フォトマスク製造装置及びフォトマスク例文帳に追加

PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD AND APPARATUS, AND PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスクとフォトマスクの製造方法及びマスクデータ生成方法例文帳に追加

PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND METHOD FOR GENERATING MASK DATA - 特許庁

露光装置，マスク洗浄装置，マスク洗浄方法，マスク保管方法例文帳に追加

EXPOSURE DEVICE, MASK WASHING APPARATUS, MASK WASHING METHOD, AND MASK STORAGE METHOD - 特許庁

フォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法例文帳に追加

PHOTO MASK, PHOTO MASK BLANK AND PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD - 特許庁

電子線マスク用基板、電子線マスクブランクス、及び電子線マスク例文帳に追加

ELECTRON BEAM MASK, SUBSTRATE THEREFOR, AND ELECTRON BEAM MASK BLANK - 特許庁

勾配マスクと位置確認マスクを用いて特性マスク（１２４）を計算する。例文帳に追加

A characteristic mask (124) is computed, using a gradient mask and a localization mask. - 特許庁

メタルマスクの製造方法、メタルマスク及びメタルマスク印刷版例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR METAL MASK, METAL MASK AND METAL MASK PRINTING FORM PLATE - 特許庁

マスクブランク用基板、マスクブランク、および転写用マスク例文帳に追加

SUBSTRATE FOR MASK BLANK, MASK BLANK, AND MASK FOR TRANSFER - 特許庁

マスクブランク用基板、マスクブランク及び転写用マスクの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK - 特許庁

マスク構造体１０は、マスク１２とマスクフレーム１６を備える。例文帳に追加

The mask structure 10 has the mask 12 and the mask frame 16. - 特許庁

マスクブランク用基板、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK AND TRANSFER MASK - 特許庁

マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK - 特許庁

印刷用マスクの製造方法、印刷用マスク材、印刷用マスク例文帳に追加

MANUFACTURE OF PRINTING MASK, PRINTING MASK MATERIAL AND PRINTING MASK - 特許庁

マスクブランク及び転写用マスク、並びに転写用マスクの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK, TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK - 特許庁

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法例文帳に追加

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK - 特許庁

マスク、該マスクを用いた成膜装置、及び、該マスクを用いた成膜方法例文帳に追加

MASK, FILM-FORMING APPARATUS USING THE MASK, AND FILM-FORMING METHOD USING THE MASK - 特許庁

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法例文帳に追加

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD - 特許庁