「リン酸ハフニウム」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

フッ化物、リン酸、さらに臭化物及び／又は塩化物を含んでなるエッチング用組成物では、酸化ケイ素等の他の半導体材料にダメージを与えることなく、ハフニウムシリケート、窒化ハフニウムシリケート、ハフニウムアルミネート、窒化ハフニウムアルミネートハフニウムシリケート、ハフニウムアルミネート等を選択的にエッチングできるとともに、不燃性である。例文帳に追加

The incombustible etching composition containing a fluoride, phosphoric acid, and bromide and/or chloride can selectively etch hafnium silicate, hafnium silicate nitride, hafnium aluminate, hafnium aluminate-hafnium silicate nitride, etc., without giving any damage to another semiconductor material, such as the oxidized silicon etc. - 特許庁

フッ化ケイ素０．００１〜５重量％及びリン酸９０〜９９．９９重量％を含んでなる酸化ハフニウム用エッチング組成物を用いる。例文帳に追加

The etching compound is used for hafnium oxide including silicon fluoride of 0.001 to 5 wt.% and phosphoric acid of 90 to 99.99 wt.%. - 特許庁

特に、酸素含有量や炭素含有量の極めて少ないスパッタリングターゲット用に適した高純度ハフニウム材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a high purity hafnium material particularly suitable for a sputtering target in which an oxygen content and a carbon content are extremely low. - 特許庁

第一酸化物を含むマトリックス材料、及び金属性成分を含む組成物を有するスパッタリングターゲットであって、高屈折率を有する第一酸化物が、任意の酸化物変態にある、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化イットリウム、酸化モリブデン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化タングステン及び酸化ハフニウムからなる酸化物の群、又はその混合物から選択される。例文帳に追加

The sputtering target has a composition composed of a matrix material comprising a first oxide and a metallic component, wherein the first oxide having a high refractive index is selected from a group of oxides consisting of titanium oxide, niobium oxide, vanadium oxide, yttrium oxide, molybdenum oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide and hafnium oxide which are in an arbitrary transformation, or a mixture of them. - 特許庁

ＣｏＰｔ又はＣｏＣｒＰｔ又はＣｏＣｒＰｔＢに基づく合金及び酸化物組合せを含み、前記酸化物組合せが、酸化銅（ＣｕＯ）と、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、及び酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）からなる群から選択される少なくとも１つの酸化物とを含むスパッタリングターゲット。例文帳に追加

The sputtering target contains an alloy based on CoPt or CoCrPt or CoCrPtB and a combination of oxides, where the combination of oxides includes CuO and at least one oxide selected from TiO_2, Cr_2O_3, Ta_2O_5, Nb_2O_5, Y_2O_3, ZrO_2 and HfO_2. - 特許庁