例文 (3件) |
粒子多重度の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
多重度は、描画に必要な荷電粒子ビームの照射量と、各パターンに要求される位置精度とから決定できる。例文帳に追加
The multiplicity is determined based on an amount of irradiation with a charged particle beam needed for the lithography and position precision needed for the each pattern. - 特許庁
さらに、必要な精度から決定された多重描画回数n_expと粒子線強度DとからD=I・t_exp・n_expにより単位時間あたりの粒子線強度Iの値を決定し、その値に合うようにIを調整する。例文帳に追加
Further, the value of particle beam intensity I per unit time is determined by D=I×t_exp×n_exp according to a multiple lithography frequency n_exp and a particle beam intensity D determined by a necessary accuracy, and I is adjusted so as to meet the value. - 特許庁
ビタビ検出は、検出器に入射する複数の粒子の分布に対応する複数の異なる状態、及び、少なくとも2つの状態であって、複数の画素信号の単一の画素に入射する粒子のゼロではない同一の多重度に対応する状態を用いる。例文帳に追加
The Viterbi Detection uses a plurality of different states corresponding to a plurality of distribution of the plurality of particles made incident on the detector, and at least two states corresponding to same non-zero multiplicity of the particles made incident on a single pixel of the plurality of pixel signals. - 特許庁
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