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自然イリジウムの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
シリコン基板11の表面部に不純物拡散層12を形成し、その表面の自然酸化膜を除去した後、Ni−Ir合金層13を堆積させて、例えば300℃〜500℃の温度で窒素ガス雰囲気中の急速熱アニール(RTA)を施し、イリジウム含有のニッケルモノシリサイド層15を形成する。例文帳に追加
The nickel monosilicide layer 15 containing iridium is formed by forming an impurity diffusion layer 12 on the surface of a silicon substrate 11, depositing an Ni-Ir alloy layer 13 after removing a natural oxide film on the surface, and applying a rapid thermal annealing (RTA) in a nitrogen gas atmosphere at temperature of 300°C to 500°C for example. - 特許庁
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