C3F8を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
After that, the mixture of a Cl2 gas and C3F8 gas with an Ar gas (Cl2/C3F8/Ar gases) is used by a two-frequency RIE method or ICP type RIE method, the film 3 is dry-etched using the resist 4 as a mask and an Au wiring 3a is formed.例文帳に追加
その後、2周波RIE又はICP方式のRIEにより、Cl_2ガス、C_3F_8ガス及びArガス(Cl_2/C_3F_8/Ar)の混合ガスを使用し、レジスト4をマスクとして、Au膜3をドライエッチングし、Au配線3aを形成する。 - 特許庁
To provide a gas insulated switchgear for attaining size reduction, after suppressing the use of fleon gas of SF6, c-C4F8, CF3SF5, C3F8, CF3OSF3, etc.例文帳に追加
SF6、c-C4F8、CF3SF5、C3F8、CF3OSF3などのフロンガスの使用を抑制した上で、小型化を図ったガス絶縁開閉装置を提供する。 - 特許庁
At least one kind of gas selected from the gases of fluorine- carbon compounds CR4, CHF3, C2F6, C3F8 and C4F8 is mixed into methane or ethylene as a film deposition gaseous starting material and is used, further, while light with any wavelength in the region from far infrared radiation to ultraviolet radiation is applied on a substrate face, film deposition is performed by plasma CVD.例文帳に追加
成膜原料ガスであるメタン、またはエチレン中に、フッ素炭素化合物CF_4、CHF_3、C_2F_6、C_3F_8、及びC_4F_8のガスから選ばれた少なくとも一種のガスを混合して用いるとともに、基板面に遠赤外線から紫外線域までのいずれかの波長の光を照射しながら、プラズマCVDにより成膜する。 - 特許庁
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