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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > CVD methodに関連した英語例文

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CVD methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2115



例文

METHOD AND SYSTEM FOR CVD FILM DEPOSITION例文帳に追加

CVD成膜方法およびCVD成膜装置 - 特許庁

CVD INGREDIENT SOLUTION AND METHOD FOR VAPORIZING THE SAME例文帳に追加

CVD用原料溶液及びその気化方法 - 特許庁

VACUUM TREATMENT APPARATUS, VACUUM TREATMENT METHOD, AND PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

真空処理装置、真空処理方法及びプラズマCVD方法 - 特許庁

In the semiconductor-film forming method, the semiconductor film is formed on the substrate by using catalyst CVD, high-density catalyst CVD, high-density plasma CVD, plasma CVD, reduced pressure CVD, atmospheric pressure CVD, sputtering or catalyst sputtering processes.例文帳に追加

本発明は、触媒CVD,高密度触媒CVD,高密度プラズマCVD,プラズマCVD,減圧CVD,常圧CVD,スパッタリング,触媒スパッタリングを利用して、基板に半導体膜を形成する半導体膜形成方法である。 - 特許庁

例文

METHOD AND DEVICE FOR TREATMENT AND RECOVERY OF CVD WASTE GAS例文帳に追加

CVD排ガスの処理回収方法及び装置 - 特許庁


例文

CVD SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

CVD装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND CVD SYSTEM例文帳に追加

半導体装置の製造方法及びCVD装置 - 特許庁

CATALYTIC CVD APPARATUS AND METHOD FOR FORMING DEPOSITION FILM例文帳に追加

触媒CVD装置及び堆積膜形成方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING DEPOSITED FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置及び堆積膜クリーニング方法 - 特許庁

例文

VERTICAL DIFFUSION/CVD APPARATUS AND METHOD OF PROCESSING WAFER例文帳に追加

縦型拡散・CVD装置及びウェーハ処理方法 - 特許庁

例文

LONGITUDINAL DIFFUSION/CVD DEVICE AND WAFER MOVING METHOD例文帳に追加

縦型拡散/CVD装置及びウェーハ移載方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND METHOD OF FABRICATING OXIDE FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置および酸化膜の製造方法 - 特許庁

FORMATION OF FILM BY CVD METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

CVD法による被膜形成法およびその装置 - 特許庁

CVD EQUIPMENT, PLASMA FORMATION METHOD AND SOLAR CELL例文帳に追加

CVD装置、プラズマ生成方法、及び、太陽電池 - 特許庁

CVD SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING THE SAME例文帳に追加

CVD装置およびCVD装置のクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND PLASMA SURFACE TREATMENT METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及びプラズマ表面処理方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING OXIDE FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置および酸化膜の製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND METHOD FOR FORMING OXIDE FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置及び酸化膜の形成方法 - 特許庁

CVD APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

CVD装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SHOWER ELECTRODE OF PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

プラズマCVD装置のシャワー電極の製作方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING CARBON NANOTUBE例文帳に追加

プラズマCVD装置とカーボンナノチューブの製造方法 - 特許庁

cat-CVD DEVICE AND FILAMENT REPLACEMENT METHOD例文帳に追加

cat−CVD装置及びフィラメント交換方法 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD OF ATMOSPHERIC PLASMA CVD例文帳に追加

常圧プラズマCVD装置及び常圧プラズマCVD法 - 特許庁

VERTICAL DIFFUSION/CVD EQUIPMENT AND WAFER TRANSFER METHOD例文帳に追加

縦型拡散/CVD装置及びウェーハ移載方法 - 特許庁

SELECTIVE W-CVD METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR Cu MULTILAYER WIRING例文帳に追加

選択W−CVD法及びCu多層配線の製作法 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR CARBON-CONTAINING FILM FOR CVD AND METHOD FOR FORMING CARBON-CONTAINING FILM WITH CVD例文帳に追加

CVD用カーボン含有皮膜原料及びCVDによるカーボン含有皮膜の形成方法 - 特許庁

SWP-CVD FILM FORMING METHOD, CVD FILM FORMING APPARATUS, AND INDICATION PANEL FOR FLAT-PANEL DISPLAY例文帳に追加

SWP−CVD成膜法,CVD成膜装置およびフラットパネルディスプレー用表示パネル - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ORGANIC RUTHENIUM COMPOUND FOR CVD AND ORGANIC RUTHENIUM COMPOUND FOR CVD例文帳に追加

CVD用の有機ルテニウム化合物の製造方法及びCVD用の有機ルテニウム化合物 - 特許庁

INDUCTION COUPLING TYPE PLASMA CVD METHOD AND INDUCTION COUPLING TYPE PLASMA CVD DEVICE THEREFOR例文帳に追加

誘導結合型プラズマCVD方法及びそのための誘導結合型プラズマCVD装置 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE, AND FILM FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

プラズマCVD装置およびそれを用いた成膜方法 - 特許庁

CVD DEVICE AND METHOD FOR DEPOSITING ORGANIC INSULATING FILM例文帳に追加

CVD装置および有機絶縁膜の成膜方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM AND METHOD BY PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマCVDによる堆積膜形成装置および方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

プラズマCVD装置及びこれを用いた成膜方法 - 特許庁

CVD SYSTEM, AND APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS例文帳に追加

CVD装置、ガラス製造装置及びガラス製造方法 - 特許庁

The carbon thin film is formed by a plasma CVD method.例文帳に追加

炭素薄膜をプラズマCVD法により成膜する。 - 特許庁

LOW-DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL AND TREATMENT METHOD BY CVD例文帳に追加

低誘電率材料およびCVDによる処理方法 - 特許庁

PLASMA CVD FILM-FORMING DEVICE AND ITS SELF-CLEANING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD製膜装置及びそのセルフクリーニング方法 - 特許庁

A two stage-type reaction furnace body in which the CVD method and the HVPE method are arranged in series is used.例文帳に追加

そこで、この問題を改善できる、化学蒸着法(CVD)とHVPEによる窒化ガリウムの生長方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF GLASS FILM USING PLASMA CVD DEVICE例文帳に追加

プラズマCVD装置を用いたガラス膜の製造方法 - 特許庁

SURFACE WAVE PLASMA CVD APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD例文帳に追加

表面波プラズマCVD装置および成膜方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING INSULATING FILM, AND PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

絶縁膜の製造方法、およびプラズマCVD装置 - 特許庁

CVD DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

CVD装置、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

NORMAL PRESSURE CVD EQUIPMENT AND METHOD例文帳に追加

常圧プラズマCVD装置及び常圧プラズマCVD方法 - 特許庁

PLASMA CVD THIN FILM PRODUCING DEVICE AND FILM PRODUCING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD薄膜製造装置及び製膜方法 - 特許庁

REMOTE PLASMA-CLEANING METHOD OF HIGH-DENSITY PLASMA CVD SYSTEM例文帳に追加

高密度プラズマCVD装置のリモートプラズマクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA, CVD SYSTEM, AND METHOD FOR DETECTING ITS MALFUNCTION例文帳に追加

プラズマCVD装置およびその異常検出方法 - 特許庁

PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM AND DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

プラズマCVD装置及びそれを用いた成膜方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FEEDING CVD RAW MATERIAL例文帳に追加

CVD原料の供給方法及び供給装置 - 特許庁

LOW-PERMITTIVITY MATERIAL AND PROCESSING METHOD ACCORDING TO CVD例文帳に追加

低誘電率材料およびCVDによる処理方法 - 特許庁

例文

PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD FOR FORMING AMORPHOUS FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置及びアモルファス膜の形成方法 - 特許庁




  
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