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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > CVD methodに関連した英語例文

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CVD methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2115



例文

FILM FORMATION METHOD, AND PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

成膜方法およびプラズマCVD装置 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び成膜方法 - 特許庁

THERMAL CVD SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

熱CVD装置および成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び成膜方法 - 特許庁

例文

THIN FILM DEPOSITION METHOD, AND CVD SYSTEM例文帳に追加

薄膜形成方法及びCVD装置 - 特許庁


例文

CVD SYSTEM AND CLEANING METHOD THEREFOR例文帳に追加

CVD装置およびそのクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA CVD EQUIPMENT AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び成膜方法 - 特許庁

The forming method of the composite film is preferably a gas phase film formation method, such as vacuum deposition method or CVD method.例文帳に追加

また、複合膜の形成方法は、真空蒸着法またはCVD法などの気相成膜法が好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING DEPOSIT FILM BY PLASMA ENHANCED CVD METHOD例文帳に追加

プラズマCVD法による堆積膜形成方法 - 特許庁

例文

PLASMA CVD APPARATUS, PROGRAM FOR CONTROLLING PLASMA CVD APPARATUS, AND METHOD FOR CLEANING PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

プラズマCVD装置、プラズマCVD装置用制御プログラムおよびプラズマCVD装置洗浄方法 - 特許庁

例文

CLEANING METHOD OF TREATMENT CHAMBER IN CVD DEVICE例文帳に追加

CVD装置処理室のクリーニング方法 - 特許庁

METHOD OF GAS-CLEANING REDUCED PRESSURE CVD SYSTEM例文帳に追加

減圧CVD装置のガスクリーニング方法 - 特許庁

CVD FILM DEPOSITION APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

CVD製膜装置および製膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND THIN-FILM FORMATION METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置、薄膜形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PLASMA-PHOTO COMBINED CVD FILM例文帳に追加

プラズマ−光複合CVD成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置および成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD FILM FORMING DEVICE AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD成膜装置、成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM AND METHOD FOR DEPOSITING FILM例文帳に追加

プラズマCVD装置及び成膜方法 - 特許庁

In this case, the third insulating film (150) is formed in 10 to 50thick using a CVD method (an LPCVD method, for example).例文帳に追加

この場合、CVD方法(例えば、LPCVD方法)を用いて10〜50Åの厚さで形成する。 - 特許庁

HEAT CVD DEVICE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

熱CVD装置および熱CVD方法 - 特許庁

ATMOSPHERIC PRESSURE CVD SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

常圧CVD装置及び膜形成方法 - 特許庁

CVD DEVICE AND THIN-FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

CVD装置および薄膜製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及び膜形成方法 - 特許庁

CLEANING METHOD FOR PLASMA CVD DEVICE例文帳に追加

プラズマCVD装置におけるクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置および成膜方法 - 特許庁

COATED-PARTICULATE, CVD SYSTEM, CVD FILM DEPOSITION METHOD, MICROCAPSULE AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

被覆微粒子、CVD装置及びCVD成膜方法、マイクロカプセル及びその製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING APPARATUS AND MO-CVD METHOD例文帳に追加

成膜装置及びMO−CVD方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FILM DEPOSITION BY PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマCVD成膜方法及び装置 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD FOR FORMING DEPOSITION FILM WITH PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマCVD装置およびプラズマCVD法による堆積膜形成方法 - 特許庁

CLEANING MONITOR METHOD FOR PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM AND PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM例文帳に追加

プラズマCVD装置におけるクリーニングモニタ方法及びプラズマCVD装置 - 特許庁

A top clad layer is just to be formed after the heat treatment if required, and can be formed using a CVD method represented by plasma CVD or a PVD method such as a sputtering method.例文帳に追加

トップクラッド層は、必要ならば熱処理後に形成すれば良く、プラズマCVDで代表されるCVD法、あるいはスパッタ法などのPVD法等を用いて形成することができる。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM BY PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマCVD法によるシリコン酸化膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING CVD-SiC COMPACT例文帳に追加

CVD−SiC成形体の洗浄方法 - 特許庁

PLASMA CVD METHOD AND APPARATUS USED THEREFOR例文帳に追加

プラズマCVD法およびそれに用いる装置 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM AND CLEANING METHOD THEREFOR例文帳に追加

プラズマCVD装置及びそのクリーニング方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF CVD FILM AND DUMMY WAFER例文帳に追加

CVD膜の形成方法およびダミーウエハ - 特許庁

MULTISTAGE CVD METHOD FOR THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加

薄膜トランジスタのための多段階CVD法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING CVD THIN FILM例文帳に追加

CVD薄膜の形成方法及び装置 - 特許庁

MIST CVD DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MIST例文帳に追加

ミストCVD装置及びミスト発生方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING POLYMER FILM BY CVD PROCESS例文帳に追加

CVD法によるポリマー膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR COATING REACTION CHAMBER IN CVD APPARATUS例文帳に追加

CVD装置の反応室のコーティング方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND CONTROL METHOD THEREOF例文帳に追加

プラズマCVD装置およびその制御方法 - 特許庁

CLEANING METHOD OF PLASMA CVD DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマCVD成膜装置のクリーニング方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CVD-SiC SINGLE FILM例文帳に追加

CVD−SiC単体膜の製造方法 - 特許庁

ANOMALY DETECTING METHOD FOR PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

プラズマCVD装置の異常検出方法 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING PLASMA CVD DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

プラズマCVD成膜装置のクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND ITS CLEANING METHOD例文帳に追加

プラズマCVD装置及びそのクリーニング方法 - 特許庁

CATALYST CVD APPARATUS AND FILM FORMATION METHOD例文帳に追加

触媒CVD装置および成膜方法 - 特許庁

IMPROVED CVD METHOD FOR DEPOSITING COPPER ON BARRIER LAYER例文帳に追加

バリア層へのCVD銅付着の改良 - 特許庁

例文

HEATING ELEMENT CVD SYSTEM AND DEPOSITION METHOD例文帳に追加

発熱体CVD装置及び成膜方法 - 特許庁




  
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