「CVD method」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

DRESSER USING CVD DIAMOND, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND REGENERATION METHOD例文帳に追加

ＣＶＤダイヤモンドを用いたドレッサ、並びに、その製造方法及び再生方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF INSULATING FILM, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

絶縁膜の成膜方法、半導体装置の製法、プラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

The diamond-like carbon layer 38 is formed by the CVD method or sputtering method.例文帳に追加

ダイアモンドライクカーボン層３８はＣＶＤ法やスパッタ法により形成される。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING DEPOSITION FILM WITH PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING DEPOSITED FILM WITH PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成装置と堆積膜形成方法 - 特許庁

EPITAXIAL GROWTH METHOD FOR NITRIDE SEMICONDUCTOR FILM BY HOT WIRE CVD METHOD例文帳に追加

ホットワイヤＣＶＤ法による窒化物半導体膜のエピタキシャル成長方法 - 特許庁

METHOD OF EVALUATING CLEANNESS OF CVD FURNACE AND METHOD OF MANUFACTURING EPITAXIAL SUBSTRATE例文帳に追加

ＣＶＤ炉の清浄度評価方法及びエピタキシャル基板の製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING CVD-Ru FILM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＣＶＤ−Ｒｕ膜の形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING BARIUM-CONTAINING LAYER ON SURFACE OF QUARTZ CRUCIBLE BY CVD METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ法による石英ルツボ表面のバリウム含有層の形成方法 - 特許庁

Preferably, the metalescent layer is formed by an electroless plating method, a CVD method or a PVD method.例文帳に追加

金属光沢層が無電解メッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法で形成すると好ましい。 - 特許庁

CVD EQUIPMENT AND ITS CLEANING METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ装置およびそれを用いたＣＶＤ装置のクリーニング方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS AND METHOD OF DETECTING ELECTRICAL FAULT THEREOF例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、及び、その電気的欠陥検出方法 - 特許庁

PLASMA CVD FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

プラズマＣＶＤ成膜装置およびそれを用いた成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS, DLC FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、ＤＬＣ膜及び薄膜の製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD EQUIPMENT AND METHOD OF FORMING UNIFORM FILM例文帳に追加

均一な膜を形成するためのプラズマＣＶＤ装置及び方法 - 特許庁

PLASMA CVD EQUIPMENT AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOELECTRIC CONVERTER例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置および光電変換装置の製造方法 - 特許庁

PROCESS AND APPARATUS FOR CONTROLLING INTERNAL PRESSURE IN SILICA TUBE BY CVD METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ法による石英管内圧制御方法および装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CRYSTALLINE SILICON THIN FILM BY PLASMA CVD例文帳に追加

結晶質シリコン系薄膜をプラズマＣＶＤで形成する方法 - 特許庁

PLASMA ENHANCED CVD APPARATUS AND TEMPERATURE MAINTENANCE METHOD THEREOF例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置及びプラズマＣＶＤ装置の温度維持方法 - 特許庁

SEALING MEMBER, CVD APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

シール部材、ＣＶＤ装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF CONDITIONING CVD CHAMBER AFTER CLEANING THEREOF例文帳に追加

ＣＶＤチャンバクリーニング後にＣＶＤチャンバをコンディショニングする方法 - 特許庁

PLASMA TORCH AND FEEDSTOCK GAS INTRODUCING METHOD FOR PLASMA CVD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ用のプラズマトーチ及び原料ガス導入方法 - 特許庁

HIGH FREQUENCY PLASMA CVD METHOD AND DEVICE例文帳に追加

高周波プラズマＣＶＤ法および高周波プラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

METHOD OF CLEANING CVD CHAMBER AND CLEANING GAS USED THEREFOR例文帳に追加

ＣＶＤチャンバーのクリーニング方法およびそれに用いるクリーニングガス - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM BY MIXED PULSED CVD AND ALD例文帳に追加

パルスＣＶＤとＡＬＤの併用による薄膜の堆積方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING CONCENTRATION OF IMPURITY IN CVD MEMBRANE例文帳に追加

ＣＶＤ膜の不純物濃度測定方法及び測定装置 - 特許庁

PARALLEL PLATE TYPE CVD FILM FORMATION EQUIPMENT AND METHOD OF FORMING THE FILM例文帳に追加

平行平板型ＣＶＤ成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

PLASMA CVD DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN AMORPHOUS SILICON FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置およびアモルファスシリコン薄膜の製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING DEPOSITION FILM BY PLASMA-CVD PROCESS例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法及び装置 - 特許庁

A method for forming an insulation film, having high mechanical strength and low dielectric constant by a plasma CVD method is provided.例文帳に追加

プラズマCVD法により高い機械的強度及び低誘電率を有する絶縁膜を形成するための方法が与えられる。 - 特許庁

CVD SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING SUPPLYING POWER, AND SOLAR BATTERY例文帳に追加

ＣＶＤ装置、投入電力制御方法、及び、太陽電池 - 特許庁

THERMAL CVD SYSTEM AND METHOD FOR FABRICATING THIN FILM SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

熱ＣＶＤ装置および薄膜半導体素子の製造方法 - 特許庁

FORMATION OF DEPOSITED FILM BY PLASMA CVD METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法および装置 - 特許庁

A CVD oxide film 17 is formed on an opening 15 by using a vapor phase growing method, a reduced pressure TEOSCVD method or an ordinary pressure CVD method.例文帳に追加

気相成長法である減圧ＴＥＯＳＣＶＤ法、常圧ＣＶＤ法を用いて開口１５上にＣＶＤ酸化膜１７を形成する。 - 特許庁

To provide a heat generator CVD apparatus and a heat generator CVD method with high performance and less film defect.例文帳に追加

膜欠陥の少ない高性能の発熱体ＣＶＤ装置及び発熱体ＣＶＤ法を提供すること。 - 特許庁

A plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus 1 is used for producing a coating member by a DC pulse plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置１は、直流パルスプラズマＣＶＤ法により被覆部材を製造するためのものである。 - 特許庁

CVD FACILITY HAVING FUNCTION OF REMOVING NATURAL OXIDE FILM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD UTILIZING CVD FACILITY例文帳に追加

自然酸化膜除去機能を備えたＣＶＤ設備、及び同ＣＶＤ設備を利用した薄膜形成方法 - 特許庁

ROTARY TYPE CVD FILM DEPOSITION SYSTEM FOR MASS PRODUCTION AND CVD FILM DEPOSITION METHOD TO INNER SURFACE OF PLASTIC VESSEL例文帳に追加

ロータリー型量産用ＣＶＤ成膜装置及びプラスチック容器内表面へのＣＶＤ膜成膜方法 - 特許庁

CVD DEVICE WITH CLEANING MECHANISM USING FLUORINE GAS AND METHOD OF CLEANING CVD DEVICE WITH FLUORINE GAS例文帳に追加

フッ素ガスによるクリーニング機構を備えたＣＶＤ装置およびＣＶＤ装置のフッ素ガスによるクリーニング方法 - 特許庁

To provide a gasifier for CVD which can accurately control the flow rate of a material solution for CVD for a long time, and to provide a solution vaporizing CVD apparatus and vaporization method for CVD.例文帳に追加

ＣＶＤ用の原料溶液の流量を長時間にわたって精度よく制御することができるＣＶＤ用気化器、溶液気化式ＣＶＤ装置及びＣＶＤ用気化方法を提供する。 - 特許庁

CVD RAW MATERIAL, VAPORIZATION FEED METHOD, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

ＣＶＤ原料及びそれを用いた気化供給方法並びに成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM BY LASER CVD, AND GAS WINDOW SUITABLE FOR THE METHOD例文帳に追加

レーザＣＶＤによる薄膜形成方法、及び同方法に好適なガスウィンドウ - 特許庁

METHOD OF DEPSOTING NANODIAMOND/AMORPHOUS CARBON COMPOSITE FILM USING PLASMA CVD METHOD例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法を用いたナノダイヤモンド／アモルファスカーボン複合膜の形成方法 - 特許庁

PLASMA CVD SYSTEM, METHOD OF FORMING THIN FILM AND METHOD OF MANUFACTURING SOLAR CELL例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置、薄膜形成方法および太陽電池の製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD FILM-FORMING APPARATUS, FILM-FORMING METHOD, GAS-BARRIER LAMINATED FILM例文帳に追加

プラズマＣＶＤ成膜装置、成膜方法、ガスバリア性積層フィルム - 特許庁