例文 (8件) |
Implant Chamberの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
CHAMBER FOR SUBCUTANEOUS IMPLANT FOR DELIVERING MEDICAMENT例文帳に追加
薬剤を投与するために皮下にインプラントするためのチャンバ - 特許庁
The implant body has an internal chamber and comprises an internal bore extending through the upper and lower surfaces to receive bone growth inducing substances.例文帳に追加
前記インプラント本体は内側チャンバを有し、前記上面および下面を通過して延び骨成長誘発物質を受入れる内側孔を含む。 - 特許庁
The seton implant 31 is arranged through the trabecula 21 so that its exit end part is arranged within a fluid collector channel around an external surface 43 of the trabecula 21 or upto the level of an aqueous vein while the entrance end part of the seton implant 31 is exposed to an anterior chamber 20 of an eyeball.例文帳に追加
セトンインプラント31は、セトンインプラント31の入口端部が眼球の前房20に露出されるとともに出口端部が線維柱帯21の外面43の周りにおいて流体コレクタチャネル内にまたは房水静脈のレベルまで配置されるように線維柱帯21を通り配置される。 - 特許庁
The seton implant 31 is positioned through the trabecular meshwork 21 so that an inlet end of the seton implant 31 is exposed to the anterior chamber of the eye and an outlet end is positioned into fluid collection channels at about an exterior surface of the trabecular meshwork 21 or up to the level of aqueous veins.例文帳に追加
セトンインプラント31は、セトンインプラントの入口端部が眼球の前房に露出されるとともに出口端部が繊維柱帯の外面の周りにおいて流体コレクタチャネル内にまたは房水静脈のレベルまで配置されるように繊維柱帯21を通り配置される。 - 特許庁
The ion implantation target chamber is configured to implant ionic species into the semiconductor wafer placed on the currently transported wafer plate.例文帳に追加
イオン注入ターゲットチャンバは、現在搬入されているウェハプレート上にある半導体ウェハ中にイオン種を注入するように構成される。 - 特許庁
For coating on the implant, targets of the bottom layer and the upper layer are disposed in parallel in a vacuum membrane forming chamber 21 and the targets are irradiated with laser beams successively for effective execution.例文帳に追加
インプラントへのコーティングでは真空成膜チャンバー21内に下層、上層それぞれのターゲットを並置し、レーザーをターゲットに順次照射して連続的に行い効率的に実施する。 - 特許庁
例文 (8件) |
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