Maskを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26889件
MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク及びマスクの製造方法 - 特許庁
HEATING BACTERICIDAL MASK例文帳に追加
発熱殺菌マスク - 特許庁
MASK WITH HEAD STRAP例文帳に追加
ヘッドバンド付きマスク - 特許庁
FILM FORMING MASK DEIVCE例文帳に追加
成膜マスク装置 - 特許庁
DISPOSABLE MASK PAD例文帳に追加
使い捨てマスクパッド - 特許庁
MASK-HOLDING DEVICE例文帳に追加
マスク用保持装置 - 特許庁
マスク洗浄装置 - 特許庁
MASK CASE AND MASK CLEANING METHOD例文帳に追加
マスクケースおよびマスクの洗浄方法 - 特許庁
FILTER MATERIAL FOR MASK例文帳に追加
マスク用フィルタ材 - 特許庁
DUAL STRUCTURE MASK例文帳に追加
二重構造マスク - 特許庁
And what about the mask?例文帳に追加
マスクについては? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
Hannya mask (female demon's mask)' is a typical example. 例文帳に追加
「般若の面」はその典型である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Both functions use these GC components:plane-mask, foreground, background, font, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin, and clip-mask. 例文帳に追加
いずれの関数も以下の GC コンポーネントを使用する。 plane-mask, foreground, background, font, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin, clip-mask. - XFree86
Both functions use these GC components:function, plane-mask, foreground, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin,and clip-mask. 例文帳に追加
どちらの関数も以下の GC コンポーネントを使用する。 function, plane-mask,foreground, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin, clip-mask. - XFree86
Both functions use these GC components:function, plane-mask, fill-style, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin,and clip-mask. 例文帳に追加
どちらの関数も以下の GC コンポーネントを使用する:function, plane-mask, fill-style, subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin, and clip-mask。 - XFree86
マスク転写方法 - 特許庁
SHADOW MASK AND BASE MATERIAL FOR SHADOW MASK例文帳に追加
シャドウマスクおよびシャドウマスク用基材 - 特許庁
MASK MOUNTING UNIT, MASK SEPARATING UNIT, MASK MOUNTING AND DETACHING UNIT, MASK MOUNTING DEVICE, MASK SEPARATING DEVICE, AND MASK MOUNTING AND DETACHING DEVICE例文帳に追加
マスク装着ユニット、マスク分離ユニット、マスク着脱ユニット、マスク装着装置、マスク分離装置、及び、マスク着脱装置 - 特許庁
NONWOVEN FABRIC FOR SIMPLE MASK AND SIMPLE MASK例文帳に追加
簡易マスク用不織布及び簡易マスク - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK AND REFLECTIVE MASK例文帳に追加
反射型マスクブランク及び反射型マスク - 特許庁
MASK PATTERN ALLOCATING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD AND PROGRAM, AND MASK例文帳に追加
マスクパターン配置方法、マスク作製方法、プログラムおよびマスク - 特許庁
METHOD OF CORRECTING MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
マスク補正方法、マスク製造方法および露光用マスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク - 特許庁
MASK INSPECTION METHOD AND MASK INSPECTION APPARATUS例文帳に追加
マスク検査方法及びマスク検査装置 - 特許庁
PROTECTIVE MASK FOR WELDING例文帳に追加
溶接用保護面 - 特許庁
MASK INSPECTION SYSTEM AND MASK INSPECTION METHOD例文帳に追加
マスク検査システム及びマスク検査方法 - 特許庁
| 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。 |
| 日本語ワードネット1.1版 (C) 情報通信研究機構, 2009-2026 License. All rights reserved. WordNet 3.0 Copyright 2006 by Princeton University. All rights reserved.License |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
JESC: Japanese-English Subtitle Corpus映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書のコンテンツは、特に明示されている場合を除いて、次のライセンスに従います: Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International (CC BY-SA 4.0) |
| Copyright (C) 1994- Nichigai Associates, Inc., All rights reserved. |
| この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。 |
| Copyright (C) 1994-2004 The XFree86®Project, Inc. All rights reserved. licence Copyright (C) 1995-1998 The X Japanese Documentation Project. lisence |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|

Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International (CC BY-SA 4.0)