「Mask」に関連した英語例文の一覧と使い方(538ページ目) - Weblio英語例文検索

When the source-drain diffusion layer of an MOSFET is formed, a gate electrode 13 having a sidewall is formed at first and In or As ions are implanted from a direction aligned with the orientation face of a substrate 1 using the gate electrode 13 as a mask thus forming a deep SD region 24 having a channeling tail of small concentration gradient in the depth direction of the substrate.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン拡散層を形成するにあたって、まず側壁を有するゲート電極１３を形成し、これをマスクとし且つ基板１１の配向面と整合した方向からＩｎ又はＡｓイオン注入を行って、基板深さ方向に濃度勾配が小さなチャネリングテールを有するディープＳＤ領域２４を形成し、次いで、Ｂ又はＡｓの通常のイオン注入によってソース・ドレイン領域２５を形成する。 - 特許庁

HEALTH REVIVAL INSURANCE GLOVE, HEALTH REVIVAL INSURANCE CONTAINER, HEALTH REVIVAL INSURANCE HAPPURI (HAIR-HEAD WIG, e.g. IN KABUKI), HEALTH REVIVAL INSURANCE WATER CYLINDER, HEALTH REVIVAL INSURANCE SCCARF, HEALTH REVIVAL INSSURANCE MASK, HEALTH REVIVAL INSURANCE SHIRT, HEALTH REVIVAL INSURANCE COLLAR, HEALTH REVIVAL INSURANCE NECKTIE AND HEALTH REVIVAL INSURANCE VISOR例文帳に追加

健康甦生保険手袋（テオリーくん３０号）健康甦生保険容器（テオリーくん３７号）健康甦生保険ハップリ（テオリーくん３１号）健康甦生保険水筒（テオリーくん３８号）健康甦生保険襟巻（テオリーくん３２号）健康甦生保険マスク（テオリーくん３９号）健康甦生保険シャツ（テオリーくん３３号）健康甦生保険襟カラー（テオリーくん３４号）健康甦生保険ネクタイ（テオリーくん３５号）健康甦生保険取外し庇（テオリーくん３６号） - 特許庁

In the blank for a halftone phase shifting mask obtained by disposing a translucent film layer comprising a single layer film or a multilayer film whose transmittance and phase after transmission are controlled on a transparent substrate, the principal constituent elements contained in at least one layer of the translucent film layer except oxygen and nitrogen are two metal elements, one of the metal elements is aluminum and the other is a transition metal.例文帳に追加

透明基板上に、透過率および透過した後の位相が制御される単層膜もしくは多層膜からなる半透明膜層が設けられてなるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜層の少なくとも１層に含まれる、酸素、窒素以外の主要構成元素が２種類の金属元素であり、その一方がアルミニウムであり、他方が遷移金属であることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクを提供する。 - 特許庁

The holographic ROM system is provided with a light source for generating a laser light necessary for holography, a beamexpander for expanding the laser light, and a mask which modulates part of the expanded laser light to produce a signal light projected on a holographic medium, passes the remainder of the expanded laser light to produce a reference light, and provides the reference light to a conical mirror which reflects the reference light toward the holographic medium.例文帳に追加

ホログラフィックＲＯＭシステムは、ホログラフィックに求められるレーザー光を発生させる光源と、レーザー光を拡大させるビーム拡大器と、拡大されたレーザー光の一部を変調させてホログラフィック媒体に投影される信号光を生成し、拡大されたレーザー光の残り部分を通過させて参照光を生成し、ホログラフィック媒体に向くように参照光を反射させる円錐ミラーに参照光を提供するマスクとを備えている。 - 特許庁

In the stage of producing the substrate, the screen printer 2 acquires relative position data between the substrate and mask sheet in solder printing and transmits it to the first mounting device 3, which computes final mounting coordinates of the components by further correcting the mounting coordinate data on the basis of the relative position data, and controls driving of a mounting head according to the mounting coordinates to mount the component on the substrate.例文帳に追加

そして、基板の生産工程では、スクリーン印刷装置２においてハンダ印刷時の基板とマスクシートとの相対位置データを取得して第１実装装置３に送信し、第１実装装置３では前記搭載座標データをさらにこの相対位置データに基づいて補正することにより最終的な部品の搭載座標を演算し、この搭載座標に従って実装用のヘッドを駆動制御することにより基板に部品を実装する。 - 特許庁

An amorphous fluoro resin layer 102 with a thickness, for example, about 30 μm is formed on a glass substrate 101; a resist pattern 103 having groove parts 103a penetrating the layer thereunder is formed on the amorphous fluoro resin layer 102; and the amorphous fluoro resin layer 102 is selectively etched using the resist pattern 103 as a mask to form grooves 102a in the amorphous fluoro resin layer 102.例文帳に追加

ガラス基板１０１の上に、例えば膜厚３０μｍ程度の非晶質フッ素樹脂層１０２が形成された状態とし、次に、非晶質フッ素樹脂層１０２の上に下層に貫通する溝部１０３ａを備えたレジストパターン１０３が形成された状態とし、レジストパターン１０３をマスクとして非晶質フッ素樹脂層１０２を選択的にエッチングし、非晶質フッ素樹脂層１０２に溝１０２ａが形成された状態とする。 - 特許庁

A projection wall having a second side surface opposed to a first side surface is formed on a semiconductor substrate, a single side contact mask having an opening part selectively opening a part of the first side surface of the wall, is formed, then a first impurity layer and a second impurity layer covering the first impurity layer by diffusing impurities having different diffusion degrees into a first side surface exposed to the opening.例文帳に追加

半導体基板に第１の側面に反対される第２の側面を有して突出した壁体）を形成し、壁体の第１の側面の一部を選択的に開口する開口部を有する片側コンタクトマスクを形成した後、開口部に露出した第１の側面部分に互いに拡散度が異なる不純物を拡散させて第１の不純物層及び該第１の不純物層を覆う第２の不純物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to specifically provide a positive resist composition having small mask coverage dependence, high post-coating delay stability (PCD) and high post-exposure delay stability (PED), and to further provide a positive resist composition excellent also in process margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、マスク被覆率依存性が小さく、塗布後の経時安定性（ＰＣＤ）、露光後の経時安定性（ＰＥＤ）が大きいポジ型レジスト組成物、更に加えてプロセスマージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of color filter comprises a photosensitive resin layer formation process of forming a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin on a substrate; and a uniformizing function member formation process of exposing and developing a photosensitive resin layer, by using the gradation mask provided with a translucent film, having prescribed transmittance characteristics and forming at least two kinds of the uniformizing function members made of the photosensitive resin whose heights are adjusted.例文帳に追加

本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

A method for producing a color filter has a photosensitive resin layer forming process for forming a photosensitive resin layer consisting of a photosensitive resin on a substrate and a same functional member forming process for exposing the photosensitive resin layer using a gradation mask comprising a semitransparent film having a predetermined transmittance characteristic followed by development to form two kinds or more of the same functional member consisting of a photosensitive resin and having an adjusted height.例文帳に追加

本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

A separation wall is formed by coincidentally removing a photosensitive paste film and a transparent film by development after a process of forming the photosensitive paste film composed of organic component and inorganic particles and curing them, a process of forming the transparent film on the photosensitive paste film, and a process of exposing the photosensitive paste film through the transparent film by using a mask having a prescribed aperture pattern.例文帳に追加

基板上に有機成分と無機粒子とからなる感光性ペースト塗膜を形成した後キュアする工程と前記塗膜上に透明塗膜を形成する工程と、所定の開口パターンを有するマスクを用いて前記感光性ペースト塗膜を前記透明塗膜上から露光する工程を経た後に、前記感光性ペースト塗膜と前記透明塗膜を同時に現像によって除去することにより隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法である。 - 特許庁

The pollinosis information providing system providing a user with information relating to pollinosis includes: an image analysis terminal 105 which determines whether each passerby wears a mask or not and generates pollinosis sideration information showing the pollinosis sideration condition on the basis of the determination result; and a server 107 which transmits pollinosis-relevant information including the pollinosis attack information generated by the image analysis terminal 105, to a terminal which the user uses.例文帳に追加

花粉症に関連する情報をユーザに提供する花粉症情報提供システムであって、各通行人のマスク装着の有無を判定するとともに、判定した結果に基づいて、花粉症の発症状況を示す花粉症発症情報を生成する画像解析端末１０５と、画像解析端末１０５により生成された花粉症発症情報を含む花粉症関連情報をユーザが利用する端末に送信するサーバ１０７とを備える。 - 特許庁

An area extraction part 130 extracts segment data from first volume data, a positioning part 150 prepares correction information for positioning the segment data to each volume, a segment data conversion part 140 corrects the segment data to each volume using the correction information prepared by the positioning part 150, and a 4D image processing part 160 performs the mask processing using the segment data corrected by the segment data conversion part 140.例文帳に追加

領域抽出部１３０が最初のボリュームデータからセグメントデータを抽出し、各ボリュームに対するセグメントデータの位置合わせを行うための補正情報を位置合わせ部１５０が作成し、セグメントデータ変換部１４０が位置合わせ部１５０が作成した補正情報を用いて各ボリュームに対するセグメントデータの補正を行い、４Ｄ画像処理部１６０がセグメントデータ変換部１４０によって補正されたセグメントデータを用いてマスク処理を行うよう構成する。 - 特許庁

The method includes the steps of: creating essentially parallel alternating phase shift regions aligned with the critical width segments and extending beyond ends of at least some of the critical width segments; enclosing the integrated circuit layout and the alternating phase shift regions with a boundary; extending the alternating phase shift regions to an edge of the boundary; and creating the alternating phase shift/mask based on the alternating phase shift regions.例文帳に追加

この方法は、これらのクリティカルな幅のセグメントに整列し、かつこれらクリティカルな幅のセグメントの少なくとも一部の端部を越えて延長する本質的に平行な交互位相シフト領域を生成することと、集積回路レイアウトおよび交互位相シフト領域をバウンダリで取り囲むことと、交互位相シフト領域をこのバウンダリのエッジまで延長することと、その後、これらの交互位相シフト領域に基づいて交互位相シフト・マスクを生成することとを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank substrate comprising a substrate having opposite two main surfaces includes: a step of grinding the main surfaces of the substrate; a step of bringing a flame whose combustion temperature is equal to or higher than the softening point of the substrate into contact with the ground main surfaces of the substrate; and a step of polishing the main surfaces of the substrate after the flame contact step.例文帳に追加

対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の主表面に対して研削を行う工程と、研削が行われた前記基板の主表面に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させる工程と、前記火炎を接触させる工程を行った後に、前記基板の主表面に対して研磨を行う工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

When ions are injected into a channel area so as to suppress short-channel effects, one or both of depletion NMOS transistor 4 and an enhanced NMOS transistor 5 constituting the depletion MOS reference voltage circuit are shielded by a mask to prevent impurity ions from being injected into them, and consequently one or both of the depletion NMOS transistor 4 and enhanced NMOS transistor 5 do not have a punch-through stopper layer.例文帳に追加

チャネル領域に短チャネル効果を抑制するためのイオン注入をおこなう際に、デプレッションＭＯＳ基準電圧回路を構成するデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ４およびエンハンスメント型ＮＭＯＳトランジスタ５の一方または両方をマスクによって遮蔽してそれらに不純物イオンが注入されるのを防ぎ、それによってそれらデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ４およびエンハンスメント型ＮＭＯＳトランジスタ５の一方または両方がパンチスルーストッパー層を有しない構成とする。 - 特許庁

A method for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a photoresist pattern 14 on a layer 12 to be etched, a step for forming an etching rate increasing film of the layer 12 on the side wall of the photoresist pattern 14, and a step for forming a contact window by etching the layer 12 using the photoresist pattern on which the etching rate increasing film is formed as an etching mask.例文帳に追加

食刻対象層１２の上部にフォトレジストパターン１４を形成する段階と、プラズマ処理を行いフォトレジストパターン１４の側壁に食刻対象層１２の食刻速度を増加させるための食刻速度増加膜を一定の厚さで形成する段階と、食刻速度増加膜が形成されているフォトレジストパターンを食刻マスクとして用いて食刻対象層を食刻することによりコンタクト用のウィンドウを形成する段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

This method comprises the steps of forming a thinner antireflection film 5 than 150 nm on a semiconductor substrate 1, coating a resist 6 on the antireflection film 5, exposing the resist 6 by the use of radiation rays, developing the resist 6 exposed, injecting impurities into the semiconductor substrate 1 through the antireflection film 5 using the developed resist 6 as a mask, and eliminating the resist 6 and antireflection film 5 with the same etchant.例文帳に追加

１５０ｎｍよりも薄い反射防止膜５を半導体基板１の上に形成する工程と、前記反射防止膜５の上にレジスト６を塗布する工程と、放射線を使用して前記レジスト６を露光する工程と、露光された前記レジスト６を現像する工程と、現像された前記レジスト６をマスクに使用して前記反射防止膜５を通して前記半導体基板１に不純物を注入する工程と、前記レジスト６と反射防止膜５を同じエッチャントによって除去する工程とを含む。 - 特許庁

The method of cleaning reflective photomask blanks 10 in which the conductive film is formed on one surface of a glass substrate and attractively held by the electrostatic chuck using the organic dielectric for the attractive holding surface is characterized in installing the mask blanks 10 in a spin cleaning apparatus 20 with the conductive film up and in cleaning the surface of the conductive film by supplying a 0.1 to 5 normal alkali metal hydroxide aqueous solution from a cleaning discharge port 23.例文帳に追加

ガラス基板の一方の面に導電膜が形成され、吸着保持面に有機系の誘電体を用いた静電チャックにより、該導電膜が吸着保持される反射型マスクブランクス１０の洗浄方法であって、マスクブランクス１０を導電膜を上にしてスピン式洗浄装置２０に設置し、洗浄吐出口２３より、０．１〜５規定のアルカリ金属水酸化物水溶液を供給して前記導電膜表面を洗浄することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises steps of: forming a recognition mark which defines a region for forming a well in a semiconductor substrate; forming a mask patterned to open the well forming region by using the recognition mark; introducing impurities into the well forming region; performing heat treatment for forming a well by diffusing impurities; and forming an isolation region in the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板にウェルを形成するためのウェル形成領域を規定する認識マークを形成する認識マーク形成工程と、認識マークを用いて、ウェル形成領域が開口されているようにパターン形成されたマスクを形成するマスク形成工程と、ウェル形成領域に不純物を導入する不純物導入工程と、不純物を拡散させてウェルを形成するための熱処理をする熱処理工程と、半導体基板に素子分離領域を形成する素子分離領域形成工程と、を有する。 - 特許庁

A polycrystalline silicon thin film for a display device is featured in that adjoining primary crystal grain boundaries are not parallel and an area enclosed by primary crystal grain boundaries is larger than 1 μm^2, and also characterized by a step of crystallizing amorphous silicon using a laser beam, through the use of a mask having a mixed structure of a laser-transparent line-shaped pattern and a laser-opaque pattern.例文帳に追加

本発明は多結晶シリコン薄膜、これの製造方法及びこれを利用して製造された薄膜トランジスタに係り、隣接したプライマリ結晶粒境界が平行せずにプライマリ結晶粒境界に囲まれた面積が１μｍ^２より大きいことを特徴とするディスプレーデバイス用多結晶シリコン薄膜及びレーザーが透過するライン形態のパターンとレーザーが透過することができないパターンが混合された構造を有するマスクを用いて非晶質シリコンをレーザーを利用して結晶化する段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The underwater audio player attachable to a strap of an underwater mask has an installation part for installing the underwater audio player to the strap, a water pressure resistant container which is installed at the installation part and has a built-in audio player body, a bone conduction speaker electrically connected to the audio player body and a vibration prevention member and the bone conduction speaker is installed to the water pressure resistant container via the vibration prevention member.例文帳に追加

水中用マスクのストラップに取り付け可能な水中用オーディオプレーヤーであって、水中用オーディオプレーヤーをストラップに取り付けるための取り付け部と、取り付け部に取り付けられ且つオーディオプレーヤー本体を内蔵した耐水圧容器と、オーディオプレーヤー本体と電気的に接続された骨伝導スピーカーと、振動防止部材とを備え、骨伝導スピーカーが振動防止部材を介して耐水圧容器に取り付けられていることを特徴とする水中用オーディオプレーヤーを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

Emergency preparedness and response activities by licenseesLicensees equip and maintain radiation measuring equipment on nuclear sites that is necessary in reporting of a Specific Event, and also prepare radiation protection equipment such as an anticontaminant suit, a respiratory oxygen tank, and a protective mask, emergency communication equipment such as a cell phone and a facsimile machine, measuring equipment such as a fixed measuring instrument or dose meter and a portable measuring instrument for measuring radioactive materials released outside a building, and other materials and equipment for nuclear disaster response.例文帳に追加

原子力事業者による防災対応の実施原子炉設置者は、事業所内に、特定事象の通報を行う上で必要となる放射線測定設備を設置、維持しているほか、汚染防護服、呼吸用ボンベや防護マスクなどの放射線障害防護用器具、携帯電話やファクシミリなどの非常用通信機器、建物の外部に放出される放射性物質を測定するための固定式測定器や線量計、可搬式測定器などの計測器、その他の原子力防災資機材を備え付けている。 - 経済産業省

The method also includes a step of exposing the resist film at an upward angle of 50°-70° from the mask and developing the exposed resist film, a step of etching the exposed part of the metallic film after development, and a step of removing the resist film left on the metallic film.例文帳に追加

圧電素子の導電膜が均一の膜厚であり、且つ導電膜の構造中に接合部分がなく一体形成である圧電素子上の導電膜であり、その製造方法は、圧電素子全面に金属膜を均一な膜厚で形成する工程と、この金属膜上にレジスト膜を均一な膜厚で形成する工程と、レジスト膜の主面上に、マスクを配置する工程と、マスクに対し上方５０°〜７０°の角度で露光し現像する工程と、現像後に露出した部分の金属膜をエッチングする工程と、残った金属膜上のレジスト膜を除去する工程からなる。 - 特許庁

Industrial designs that are contrary to public order or morality shallnot be registrable. Notwithstanding any other provisions of this Act, where before the commencement of the Layout-Designs of Integrated Circuits Act 2000 an industrial design applicable to an integrated circuit or part of anintegrated circuit within the meaning of that Act or an industrial design applicable to a mask used to make such an integrated circuit was registered under this Act, that registration shall not be extended or restored at any time on or after that commencement.例文帳に追加

公序良俗に反する意匠は，登録されないものとする。 第 13A条 延長又は回復されない登録［法律 AJ077第3条による挿入］本法の他の規定に拘らず，2000年集積回路配置法の施行前に，同法にいう集積回路若しくは集積回路の一部に適用される意匠，又は同法にいう集積回路を作るのに使用されるマスクに適用される意匠が本法に基づいて登録されていた場合は，当該登録は，同法施行以後の如何なる時点においても，延長又は回復されないものとする。 - 特許庁

To provide a porous molded product of a silicone rubber, capable of being utilized as an artificial mamma, another skin-analogous molded product, the other medical part for the human body, such as a mask, a bandage, and a cover, and a filter or the like.例文帳に追加

発泡剤を加えることなく、成形後の容積変化を伴うことなく、微細連続多孔質成形体に形成できるようにしたシリコーンゴム多孔質成形体を提供すると共に、人体皮膚に近似した表面性、感触性、軽量性、柔軟性、弾力性、保形性、強度性等を賦与し、製作容易かつ成形性に優れ、マネキン、人形、医療教習用ダミー、交通事故実験用ダミーなどのほか、人工乳房（パッドを含む）、その他人体皮膚に近似する形成物やマスク、包帯、カバー等の医療用部品、フィルターなどの製作に適合するシリコーンゴム多孔質成形体を提供する。 - 特許庁

The shadow mask is formed by arranging through holes 2a, 2b having back side hole parts 4a, 4b formed at the side that electron beam comes in, and front side hole parts 3a, 3b formed at the side that electron beam goes out, and forms beam spots with prescribed shape on an irradiated surface.例文帳に追加

電子ビームが入射する側の裏側孔部４ａ、４ｂと、電子ビームが出射する側の表側孔部３ａ、３ｂとから形成される貫通孔２ａ、２ｂを配列してなり、被照射面に所定形状のビームスポットを形成するシャドウマスクにおいて、そのシャドウマスクの周辺部に形成された表側孔部３ｂを、シャドウマスクの中心から延びる仮想線と直交する方向Ｐの開孔幅Ｔがシャドウマスクの中心に形成された表側孔部３ａの開孔幅Ｓよりも小さく形成されてなる略楕円形状とすることによって、上記課題を解決する。 - 特許庁

This aligner has a light source 1, an illumination optical system 6 for illuminating a pattern drawn on a mask 5 by a light source light, and a projection optical system 11 for projecting the illuminated pattern to a substrate 13.例文帳に追加

光源１と、マスク５に描かれたパターンを光源光で照明する照明光学系６と、照明されたパターンを基板１３に投影する投影光学系１１を有する露光装置であって、光源１から基板１３までの全体または一部を外気から遮蔽する容器７、１４、１７と、容器に接続された不活性ガスの供給ラインおよび排出ラインと、容器上若しくは容器と圧力的に等価な位置および／または供給若しくは排出ライン上若しくは供給若しくは排出ラインと圧力的に等価な位置に圧力調整手段２１〜２３を具備する。 - 特許庁

(Deposited at the Nara National Museum) Wooden sitting statue of Shaka Nyorai (previously from Sashizu-do Hall), wooden sitting statue of Miroku Butsu (previously from Hokke-do Hall), wooden sitting statue of Amida Nyorai (previously from Kanjinsho Office), wooden standing statue of Jini Shinsho (previously from Tennoden [The Guatdian Kings Hall]), wooden standing statue of Jizo Bosatsu by Kaikei (previously from Kokei-do Hall), bronze boat-shaped halo (from the back of the principal image in Nigatsu-do Hall), bronze statue of Cintamari-cakra (manifestation of Avalokitesvara) in semi-lotus position (Bosatsu in semi-lotus position), wooden standing statue of Jikokuten (Dhrtarāstra), wooden standing statue of Tamonten (Deity who hears much), 29 wooden Gigaku-men masks, 1 dry-lacquer Gigaku-men mask, 9 wooden Bugaku-men masks, wooden lion head, wooden sitting statue of Enmao (the lord of death) and wooden sitting statue of Taizanfukun (Chinese deity of Mt. Taizan) 例文帳に追加

（奈良国立博物館寄託）木造釈迦如来坐像（旧所在指図堂）木造弥勒仏坐像（旧所在法華堂）木造阿弥陀如来坐像（旧所在勧進所）木造十二神将立像（旧所在天皇殿）木造地蔵菩薩立像・快慶作（旧所在公慶堂）銅造舟形光背（二月堂本尊光背）銅造如意輪観音半跏像（菩薩半跏像）木造持国天立像木造多聞天立像木造伎楽面29面・乾漆伎楽面1面木造舞楽面9面木造獅子頭木造閻魔王坐像・木造泰山府君坐像 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Additionally, most costumes except for those of Dobu dance are made for adult men or women: they are heavy, the eyesight is limited when wearing a mask, the difficulty level in choreography such as handling the long part of the costume (hem, ancient skirt, etc.) is high; however, the traditional groups in East Japan have mostly adult members and cannot afford, so the development of children's participation is not active enough; even when developing them, it is limited to Kangen music or "Urayasu-no-mai Dance" for which reasonable costumes can be used in an informal style, and in most cases Bugaku is not performed or is limited to adults. 例文帳に追加

又、童舞以外の殆どの装束は成人男性、又は女性用に仕立てられ、又、重量があること、仮面を付けた場合に視野が制約されること、長く伸びてる部分（裾、裳、等）があるため、振り付けに関しても伸びてる部分の捌き方等の難易度が高いこと、又、東日本においては伝承団体のメンバーの殆どが成人であることと財政に余裕がない場合が多いことから少年少女の育成に消極的な場合が多く、育成してる場合でも略式なら安価な装束で済む管弦と『浦安の舞』等にとどまり、舞楽は行わないか、行う場合でも成人に限られる場合が多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In the mask used in the step 2, the aperture for forming the column spacer is elliptical.例文帳に追加

ネガ型レジストを用いて液晶配向用突起とカラムスペーサとを同時に形成する液晶表示素子の製造方法であって、前記ネガ型レジストを基板に塗工してレジスト膜を形成する工程１と、前記レジスト膜に、液晶配向用突起形成部分及びカラムスペーサ形成部分に対応するパターンの開口部が形成されたマスクを介して活性光線を照射する工程２と、前記活性光線を照射後のレジスト膜を現像することにより、カラムスペーサ及び液晶配向用突起を同時に形成する工程３とを有し、前記工程２において用いるマスクは、カラムスペーサを形成するための開口部の形状が楕円形状である液晶表示素子の製造方法。 - 特許庁

The device is also provided with a calculator 130 which calculates the area density in the prescribed area of a pattern drawn by the stored pattern information whenever the prescribed area is moved based on the stored pattern information, and a preparing section 140 which prepares dummy pattern information to be arranged on the mask based on the calculated area density.例文帳に追加

マスクに配置するためのパターン情報を記憶する記憶部１７０と、上記マスク上に所定の領域を仮想配置する仮想配置部１１０と、仮想配置された所定の領域を前回の領域と重なるように所定の距離だけ移動させる移動部１２０と、記憶されたパターン情報に基づいて、上記所定の領域が移動させられるごとにパターン情報により描かれるパターンの所定の領域における面積密度を計算する計算部１３０と、計算された面積密度に基づいて、上記マスクに配置するためのダミーパターン情報を生成する生成部１４０とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The optical information recording medium 1A is an optical disk obtained by successively stacking at least a mask layer 3 and a reflecting layer 4 on a light transmissive substrate 2A, 2C.例文帳に追加

光透過性の基板２Ａ，２Ｃ上に、少なくともマスク層３と反射層４とを順次積層して成る光情報記録媒体１Ａであって、前記マスク層が、前記基板側から入射する再生用レーザ光が連続照射される照射部分の温度が消色温度以上になった場合には、前記照射部分の一部分の光透過率は高くなって光スポット径を実質的に縮小して前記再生用レーザ光を前記反射層側へ出射して前記反射層側からの戻り光を前記基板側へ出射することにより情報信号を再生するディスク超解像機能を有するサーモクロミック材料から成る光ディスクにおいて、前記サーモクロミック材料中に、このサーモクロミック材料の消色温度よりも低い融点を有する有機結晶性物質を含むようにする。 - 特許庁

This mask is provided with at least two unit masks supported by a frame along the edge part and provided with a plurality of patterned opening parts, and a plurality of pixels constructed of a combination of red R, green G, and blue B are deposited on a transparent board from a deposition source via the opening parts.例文帳に追加

縁部に沿ってフレームにより支持されて、複数のパターン化した開口部を具備して上記開口部を通じて蒸着源から赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の組合わせよりなる複数の画素を有する有機発光膜を透明基板に蒸着させるものであって、上記開口部は上記透明基板側幅が上記蒸着源側幅より大きく形成されており、上記透明基板側開口部の幅をＷｓ１、上記蒸着源側開口部の幅をＷｓ２、上記有機発光膜の互いに隣接する画素間の距離をＰｐ、上記蒸着される有機発光膜のうち一画素の発光膜幅をＷｅｌとする時、上記Ｗｓ１はＷｓ１＝Ｐｐ＝Ｗｅｌの式を満足する少なくとも２つの単位マスクを具備する。 - 特許庁