| 例文 |
Reticle Libraryの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
An atmospheric reticle library 66 is provided with a plurality of steps 69.例文帳に追加
一方、大気レチクルライブラリ66には、複数段の台69が設けられている。 - 特許庁
The reticle handler of the lithography interchanges the reticle to be exposed as specified by the user of the lithography tool and includes a vacuum compatible robot, a vacuum chamber for housing the robot, a load rock which loads the reticle and transfers the reticle from an atmospheric pressure to a vacuum, a processing station for processing the reticle, and a reticle library to accumulate at least one exterior reticle.例文帳に追加
リソグラフィツールの、レチクルハンドラーは、リソグラフィツールのユーザによって規定されたように露光されるレチクルを交換し、真空コンパチブルロボット、ロボットをハウジングする真空室、レチクルを入力して、レチクルを大気圧から真空に搬送するロードロック、レチクルをプロセッシングするプロセッシングステーション、少なくとも1つの外部レチクルを蓄積するためのレチクルライブラリを含む。 - 特許庁
A vacuum reticle library 64 is provided with a plurality of steps 68 for mounting conveyed reticles, respectively.例文帳に追加
真空レチクルライブラリ64には、搬送されたレチクルを載置するための複数段の台68が設けられている。 - 特許庁
The exposure equipment includes a reticle library 110 having a plurality of slots, a reticle stage 130 on which an exposure process proceeds, wherein a reticle is transferred to a reticle storage member 110 having a plurality of slots, then the reticle is transferred from one of the plurality of slots to the reticle stage 130 while the one of the plurality of slots is controlled at a saturation temperature of the reticle.例文帳に追加
本発明の露光設備は、複数個のスロットを持つレティクルライブラリ110と、露光工程が進行されるレティクルステージ130とを含み、レティクルを複数個のスロットを持つレティクル保管部材110に移送させて、前記レティクルを複数個のスロットのうちのいずれか一つからレティクルステージ130に移送させて、複数個スロットのうちのいずれか一つを前記レティクルの飽和温度で制御する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|