「Sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

SPUTTERING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

スパッタ方法と装置 - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING SOURCE例文帳に追加

スパッター源用ターゲット - 特許庁

SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタ成膜方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

マグネトロンスパッタ方法及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁

RF SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

ＲＦスパッタリング装置 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及びスパッタリング方法 - 特許庁

The first sputtering is anisotropic sputtering, and the second sputtering is isotropic sputtering.例文帳に追加

第１のスパッタリングは異方性スパッタリングであり、第２のスパッタリングは等方性スパッタリングである。 - 特許庁

COPPER SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

銅スパッタリングターゲット材及びスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING CATHODE AND SPUTTERING FILM FORMING APPARATUS例文帳に追加

スパッタリングカソード及びスパッタリング成膜装置 - 特許庁

POWER SOURCE, POWER SOURCE FOR SPUTTERING, AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置 - 特許庁

SPUTTERING METHOD AND SYSTEM例文帳に追加

スパッタ方法と装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, SPUTTERING CHAMBER INCLUDING THE SAME AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタ装置およびスパッタによる成膜方法 - 特許庁

REFLOW SPUTTERING METHOD AND REFLOW SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

リフロースパッタリング方法及びリフロースパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING METHOD FOR CURVED SURFACE SUBSTRATE例文帳に追加

曲面基板のスパッタ装置及びスパッタ法 - 特許庁

The first sputtering is long slow sputtering.例文帳に追加

また、第１のスパッタリングはロングスロースパッタである。 - 特許庁

TARGET MODULE OF SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スパッタ装置のターゲットモジュール、およびスパッタ装置 - 特許庁

SHUTTER FOR SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

スパッタリング装置用シャッタおよびスパッタリング装置 - 特許庁

CONTINUOUS SPUTTERING APPARATUS AND CONTINUOUS SPUTTERING METHOD例文帳に追加

連続スパッタ装置および連続スパッタ方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND PRE-SPUTTERING METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置およびプリスパッタリング処理方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置およびマグネトロンスパッタ方法 - 特許庁

TARGET DEVICE FOR SPUTTERING, AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット装置及びスパッタリング装置 - 特許庁

PRE-CONDITIONING OF SPUTTERING TARGET PRIOR TO SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング前のスパッタリングターゲットの前調整 - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING METHOD例文帳に追加

反応性スパッタリング法 - 特許庁

TARGET APPARATUS FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタ用ターゲット装置 - 特許庁

FACING TARGET SPUTTERING METHOD例文帳に追加

対向ターゲットスパッタ法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

マグネトロン・スパッタリング・デバイス - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

リアクティブ・スパッタリング装置 - 特許庁

ION BEAM SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

イオンビームスパッタリング装置 - 特許庁

DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

SELF ION SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

セルフイオンスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING PATTERN COATING SYSTEM例文帳に追加

スパッタ模様塗装システム - 特許庁

SPUTTERING TREATMENT CONDITION CONTROL METHOD AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スパッタ処理条件制御方法とスパッタ装置 - 特許庁

TRANSPORTATION TYPE SPUTTERING SYSTEM AND TRANSPORTATION TYPE SPUTTERING METHOD例文帳に追加

輸送型スパッタ装置及び輸送型スパッタ法 - 特許庁

MULTIDIVISION SPUTTERING TARGET例文帳に追加

多分割スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加

スパッタリング成膜装置 - 特許庁

MAGNETRON TYPE SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

マグネトロン型スパッタ装置 - 特許庁

COMPOSITE TARGET FOR SPUTTERING, SPUTTERING METHOD AND SPUTTERED FILM例文帳に追加

スパッタ用コンポジットターゲット，スパッタ方法，スパッタ膜 - 特許庁

FILM-FORMING METHOD BY SPUTTERING AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スパッタ成膜方法及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁

SPUTTERING FILM DEPOSITION DEVICE AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE AND SPUTTERING SYSTEM EQUIPPED WITH MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE例文帳に追加

マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を備えたスパッタリング装置 - 特許庁

INLINE TYPE SPUTTERING DEVICE AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

インライン型スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING-ION PLATING DEVICE例文帳に追加

スパタイオンプレ−テング装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットとそれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁