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cleaning-solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1327件
CLEANING AGENT AND CLEANING SOLUTION例文帳に追加
洗浄剤および洗浄液 - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHOD例文帳に追加
洗浄液及び洗浄方法 - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHOD例文帳に追加
洗浄液および洗浄方法 - 特許庁
SILICON WAFER CLEANING SOLUTION例文帳に追加
シリコンウェーハの洗浄液 - 特許庁
SUBSTRATE CLEANING METHOD AND CLEANING SOLUTION例文帳に追加
基板洗浄方法および洗浄溶液 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板の洗浄液 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板用洗浄液 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR PRINTING MACHINE CYLINDER例文帳に追加
印刷機シリンダ用洗浄液 - 特許庁
CLEANING SOLUTION MANUFACTURING METHOD, CLEANING SOLUTION SUPPLY DEVICE AND CLEANING SYSTEM例文帳に追加
洗浄液製造方法および洗浄液供給装置ならびに洗浄システム - 特許庁
CLEANING SOLUTION SUPPLYING SYSTEM, AND CLEANING SYSTEM例文帳に追加
洗浄液供給システムおよび洗浄システム - 特許庁
DISCHARGING DEVICE OF CLEANING SOLUTION AND CLEANING DEVICE例文帳に追加
洗浄液の吐出装置及び洗浄装置 - 特許庁
METHOD OF CLEANING, METHOD OF REPLACING CLEANING SOLUTION, CLEANING APPARATUS AND CLEANING BATH例文帳に追加
洗浄方法、洗浄液置換方法、洗浄装置並びに洗浄槽 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR HARD CONTACT LENSES例文帳に追加
ハ—ドコンタクトレンズ用洗浄溶液 - 特許庁
VACUUM ULTRASONIC CLEANING SOLUTION APPARATUS例文帳に追加
真空超音波洗浄液装置 - 特許庁
BEER DISPENSER CLEANING AQUEOUS SOLUTION例文帳に追加
ビールデイスペンサー洗浄用水溶液 - 特許庁
APPARATUS FOR REFILLING CLEANING SOLUTION OF AUTOMATIC CLEANING MACHINE例文帳に追加
自動洗浄機における洗浄液補充装置 - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
半導体基板用洗浄液及び洗浄方法 - 特許庁
DETERGENT COMPOSITION FOR DRY CLEANING AND CLEANING SOLUTION FOR DRY CLEANING例文帳に追加
ドライクリーニング用洗浄剤組成物及びドライクリーニング用洗浄液 - 特許庁
MOLD CLEANING SOLUTION, MOLD CLEANING METHOD AND MOLD CLEANING APPARATUS例文帳に追加
金型洗浄液、金型洗浄方法および金型洗浄装置 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR EASILY OXIDIZABLE METAL, CLEANING METHOD AND CLEANING APPARATUS例文帳に追加
易酸化性金属の洗浄液、洗浄方法及び洗浄装置 - 特許庁
CLEANING SOLUTION, AND METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING ROLLING OIL例文帳に追加
洗浄液、圧延油の清浄化方法及び装置 - 特許庁
SAMPLE SOLUTION DROPPING/CLEANING DEVICE AND SAMPLE SOLUTION DROPPING/CLEANING METHOD例文帳に追加
試料溶液滴下洗浄装置および試料溶液滴下洗浄方法 - 特許庁
CLEANING SOLUTION FOR SEMICONDUCTOR DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加
半導体デバイス用基板の洗浄液 - 特許庁
METAL ANTICORROSIVE AND CLEANING SOLUTION例文帳に追加
金属腐食防止剤および洗浄液 - 特許庁
CLEANING SOLUTION COMPOUNDING DEVICE AND CLEANING SOLUTION SUPPLY METHOD IN CMP APPARATUS例文帳に追加
CMP装置における洗浄液調合装置及び洗浄液供給方法 - 特許庁
CELL CLEANING ROTOR AND CLEANING SOLUTION DISTRIBUTION ELEMENT USED THEREFOR, AND CELL CLEANING CENTRIFUGAL MACHINE EQUIPPED WITH THE CLEANING SOLUTION DISTRIBUTION ELEMENT例文帳に追加
細胞洗浄ロータ及びそれに用いられる洗浄液分配素子並びにこれを備えた細胞洗浄遠心機 - 特許庁
METHOD FOR CLEANING SILICON CARBIDE SINTERED COMPACT AND CLEANING SOLUTION例文帳に追加
炭化ケイ素焼結体の洗浄方法及び洗浄液 - 特許庁
ACIDIC CLEANING SOLUTION FOR ALUMINUM MATERIAL AND CLEANING METHOD THEREFOR例文帳に追加
アルミニウム材用酸性洗浄液およびその洗浄方法 - 特許庁
PROCESS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER USING CLEANING SOLUTION例文帳に追加
洗浄溶液を用いて半導体ウェハを洗浄する方法 - 特許庁
Then, the cleaning solution is discharged from the cleaning solution pipe 37 by the solution discharge mechanism 38 to make the cleaning solution pipe 37 empty.例文帳に追加
その後、排液機構38によって洗浄液配管37から洗浄液を排液して、洗浄液配管37を空の状態にする。 - 特許庁
CLEANING METHOD USING FLUORINE-CONTAINING NEUTRAL SOLUTION例文帳に追加
含弗素中性液による洗浄方法 - 特許庁
CLEANING SOLUTION CIRCULATING DEVICE FOR ELECTRODEPOSITION COATING例文帳に追加
電着塗装用洗浄液循環装置 - 特許庁
CLEANING AND PROTECTION METHOD, CLEANING AND PROTECTION SOLUTION AND DEVICE UNIT例文帳に追加
洗浄保護方法、洗浄保護用溶液および装置ユニット - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
洗浄液及びそれを用いた半導体素子の洗浄方法 - 特許庁
CLEANING SOLUTION AND CLEANING METHOD FOR ALUMINUM OR ALUMINUM ALLOY例文帳に追加
アルミニウム又はアルミニウム合金用洗浄液及び洗浄方法 - 特許庁
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