| 例文 |
exposure unitの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1321件
EXPOSURE UNIT例文帳に追加
露光ユニット - 特許庁
EXPOSURE CONTROL METHOD AND EXPOSURE CONTROL UNIT例文帳に追加
露光制御方法、露光制御装置 - 特許庁
LIGHT SOURCE UNIT, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
光源ユニット、露光装置及び露光方法 - 特許庁
MIRROR UNIT FOR EXPOSURE PROCESSING DEVICE例文帳に追加
露光処理装置のミラーユニット - 特許庁
EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE UNIT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
露光方法及び装置、露光ユニット、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
HEAT DISSIPATION UNIT AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
放熱ユニット及び露光装置 - 特許庁
LIGHT-SOURCE UNIT FOR SCANNING EXPOSURE例文帳に追加
走査型露光用光源ユニット - 特許庁
EXPOSURE CALCULATION UNIT, EXPOSURE CALCULATING METHOD AND CAMERA例文帳に追加
露出演算装置、露出演算方法およびカメラ - 特許庁
EXPOSURE UNIT, ALIGNER, EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
露光ユニット、露光装置、露光システム、露光方法、およびデバイス製造方法 - 特許庁
To downsize an exposure chamber in which an exposure unit is located.例文帳に追加
露光ユニットが配置される露光チャンバを小型化する。 - 特許庁
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND STAGE UNIT, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
投影露光装置及びステージ装置、並びに露光方法 - 特許庁
EXPOSURE UNIT AND METHOD OF ITS MAINTENANCE例文帳に追加
露光装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁
IMAGING UNIT, AND AUTOMATIC EXPOSURE PROCESSING METHOD例文帳に追加
撮像装置，自動露光処理方法 - 特許庁
EXPOSURE UNIT AUTOMATIC FOCUSING DEVICE例文帳に追加
露光ユニット自動焦点調整装置 - 特許庁
EXPOSURE/DEVELOPMENT UNIT, AND DIAGNOSTIC SYSTEM AND DIAGNOSTIC METHOD FOR EXPOSURE/DEVELOPMENT UNIT例文帳に追加
露光・現像装置及び露光・現像装置の診断システム並びに診断方法 - 特許庁
EXPOSURE CALCULATION UNIT AND IMAGING APPARATUS例文帳に追加
露出演算装置および撮像装置 - 特許庁
POSITION SENSING METHOD AND UNIT, AND EXPOSURE METHOD AND UNIT例文帳に追加
位置検出方法及び装置、露光方法及び装置 - 特許庁
LIGHT SOURCE UNIT, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
光源ユニット、照明光学装置、露光装置、および露光方法 - 特許庁
EXPOSURE UNIT, EXPOSURE DEVICE, AND IMAGE FORMATION APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加
露光器、露光装置およびそれを備えた画像形成装置 - 特許庁
LIGHT SOURCE UNIT, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 - 特許庁
IMAGE PROCESSING UNIT AND IMAGE EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
画像処理装置及び画像露光装置 - 特許庁
EXPOSURE CONTROL UNIT AND MONITORING CAMERA APPARATUS例文帳に追加
露出制御装置及び監視カメラ装置 - 特許庁
SUBSTRATE TEMPERATURE ADJUSTING UNIT, STAGE UNIT, EXPOSURE UNIT, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加
基板温調装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁
EXPOSURE CONTROLLER AND FILM UNIT WITH LENS例文帳に追加
露光制御装置及びレンズ付きフイルムユニット - 特許庁
STAGE UNIT AND EXPOSURE APPARATUS, AND MEASURING METHOD例文帳に追加
ステージ装置及び露光装置、計測方法 - 特許庁
An exposure operation device includes a photometry unit, a target setting unit, a correction unit, and an operation unit.例文帳に追加
露出演算装置は、測光部と、目標設定部と、補正部と、演算部とを備える。 - 特許庁
PROJECTION OPTICAL APPARATUS, EXPOSURE UNIT, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
投影光学装置、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 - 特許庁
The unit body 11 comprises a unit body frame 21 and an exposure unit 22.例文帳に追加
ユニット本体１１は、本体枠２１と、露光ユニット２２とから構成されている。 - 特許庁
PHOTOGRAPHIC PRINTING DEVICE AND SUB IMAGE EXPOSURE UNIT例文帳に追加
写真焼付装置及び副画像露光ユニット - 特許庁
SENSOR UNIT, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
センサユニット、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁
LIGHT-EMITTING ELEMENT ARRAY CHIP AND EXPOSURE LIGHT SOURCE UNIT例文帳に追加
発光素子アレイチップおよび露光光源装置 - 特許庁
CLEANING METHOD AND CLEANING FIXTURE FOR EXPOSURE UNIT例文帳に追加
露光装置の清掃方法および清掃治具 - 特許庁
| 例文 |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
