「loadlock chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the semiconductor workpiece processing system including the loadlock chamber, the transfer chamber and one or more processing chambers, the transfer chamber provided with a transfer device is positioned between the loadlock chamber and the processing chamber provided so as to surround the transfer chamber.例文帳に追加

ロードロック室と、移載室と、一つ或いは複数の処理チャンバとを含む半導体ワークピース処理システムにおいて、移載装置を備える移載室が、ロードロック室と移載室を囲んで設けられている処理チャンバとの間に位置する。 - 特許庁

The loadlock chamber 20 of the vacuum film formation apparatus 1 is provided with a heat keeping means 23 to keep its inner space at a specified temperature.例文帳に追加

真空成膜装置１におけるロードロックチャンバー２０は、その内部空間を所定温度に保持するための保熱手段２３を備える。 - 特許庁

A film-exfoliation preventing chamber 710 in a thin-film manufacturing apparatus is hermetically connected to an unloadlock chamber 2 and a loadlock chamber 1 on a return transfer channel between the unloadlock chamber 2 to retrieve a deposited substrate 9 from the substrate holder 90 and the loadlock chamber 1 to mount an undeposited substrate 9 on the substrate holder 90.例文帳に追加

成膜済みの基板９を基板保持具９０から回収するアンロードロックチャンバー２と、未成膜の基板９を基板保持具９０に搭載するロードロックチャンバー１との間のリターン移動路上に、膜剥離防止チャンバー７１０が、アンロードロックチャンバー２及びロードロックチャンバー１に対して気密に接続されている。 - 特許庁

To provide a vacuum film formation apparatus which is provided with a loadlock chamber that can shift atmospheric pressure to vacuum while keeping a substrate heated in a heating chamber at a constant temperature.例文帳に追加

加熱チャンバーにより加熱された基板の温度を均一に保持しつつ大気圧から真空に移行させることができるロードロックチャンバーを備えた真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the convection is hard to occur in the inner space S, so that, while the substrate 2 carried in the loadlock chamber 20 is being kept at a constant temperature, atmospheric pressure can be shifted to vacuum.例文帳に追加

このような構成により、上記の内部空間Ｓにおいて対流が発生しにくくなるので、ロードロックチャンバー２０内に搬入されてきた基板２の温度を均一に保持しつつ大気圧から真空に移行させることができる。 - 特許庁