例文 (3件) |
monovalent Cuの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
A CDV-Cu film is deposited onto monovalent copper amidinate as a film deposition raw material at a low temperature and also at a practical film deposition rate, using carboxylic acid having high reduction capacity to monovalent copper amidinate as a reducing agent.例文帳に追加
成膜原料である1価のアミジネート銅に対し、還元剤として1価のアミジネート銅に対する還元能力が高いカルボン酸を用い、低温でかつ実用的な成膜レートでCVD−Cu膜を成膜する。 - 特許庁
The wafer W is put in a chamber 1, and Cu(hfac)(TMVS) being a monovalent Cuβ diketone complex and a reducing agent, such as ammonia, a reducing Si compound, and carboxylic acid, reducing the Cu(hfac)(TMVS) are introduced into the chamber 1 in a vapor-phase state to form the Cu film on the wafer W by a CVD method.例文帳に追加
チャンバー1内にウエハWを収容し、チャンバー1内に1価Cuβジケトン錯体であるCu(hfac)TMVSと、これを還元するアンモニア、還元性Si化合物、カルボン酸などの還元剤とを気相状態で導入して、ウエハW上にCVD法によりCu膜を成膜する。 - 特許庁
This method for separating Ag comprises selectively removing Ag by electrolysis from the chloride bath containing monovalent ions of Cu and having such a concentration as to dissolve Ag, then changing the electrolytic solution into a sulfate bath containing a small amount of Cl, reversely electrolyzing it to dissolve Ag again by setting Cu electrodeposits containing Ag obtained on a cathode by Ag-removing electrolysis as an anode, and collecting Ag in a form of AgCl.例文帳に追加
Cuの一価イオンを含むAgが溶解する濃度の塩化物浴から、電解でAgを選択的に除き、その後Clを少量含む硫酸浴に電解液を入れ替え、Ag除去電解で得られたAgを含む陰極Cu電析物を陽極として逆電解することにより再溶解し、AgをAgClとして回収する。 - 特許庁
例文 (3件) |
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