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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
METHOD FOR PRODUCING PATTERN, METHOD FOR PROCESSING DATA, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND DATA PROCESSING PROGRAM例文帳に追加
パターン作成方法、データ処理方法、半導体装置製造方法及びデータ処理プログラム - 特許庁
DECIDING METHOD FOR RETICULE PATTERN, MANUFACTURING METHOD FOR RETICULE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レチクルパターンの決定方法、レチクルの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING MICRO DEVICE例文帳に追加
レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MASK, MANUFACTURING METHOD OF WIRING PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY例文帳に追加
マスクの製造方法、配線パターンの製造方法、及びプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGN OF TEMPLATE PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING TEMPLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
テンプレートパターンの設計方法、テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法。 - 特許庁
LITHOGRAPHY SIMULATION METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
リソグラフィシミュレーション方法、マスクパターン作成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN AREA COMPUTING METHOD, PROXIMITY EFFECT COMPENSATING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加
パターン面積値算出方法、近接効果補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁
INSPECTING DEVICE AND INSPECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN SUBSTRATE USING SAME INSPECTING METHOD例文帳に追加
検査装置及び検査方法とその検査方法を用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTROOPTICAL APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONICS例文帳に追加
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁
METHOD FOR APPLYING PHOTO-RESIST SOLUTION, METHOD FOR FORMING PHOTO-RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトレジスト液の塗布方法、フォトレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR HOLDING, METHOD AND APPARATUS FOR FORMING PATTERN, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
保持方法及び保持装置、パターン形成方法及びパターン形成装置、デバイス製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク、その製造方法、パターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING ORGANIC FILM, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
有機膜のエッチング方法、半導体装置の製造方法及びパターンの形成方法 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
MASK PATTERN CREATING METHOD, EXPOSURE DATA CREATING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターン作成方法、露光データ作成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN DATA CREATION METHOD, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加
マスクパターンデータ作成方法、フォトマスク作製方法、及び集積回路の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CREATING DRAWING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
描画パターンの生成方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加
パターン形成方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法およびプログラム - 特許庁
METHOD FOR GENERATING MASK DATA PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンデータ生成方法、フォトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, ELECTOOPTICAL APPARATUS MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁
DESIGN CORRECTION METHOD, DESIGN PATTERN GENERATING METHOD, AND PROCESS PROXIMITY CORRECTION METHOD例文帳に追加
設計パターン補正方法と設計パターン作成方法及びプロセス近接効果補正方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, ELECTRO-OPTIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC EQUIPMENT MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
アライメント方法、マスクパターンの設計方法、マスク、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置 - 特許庁
INSPECTION METHOD OF INK-JET PRINTER, COMPOSITION USED FOR THE METHOD AND IMAGE-PATTERN PRINTING METHOD例文帳に追加
インクジェットプリンタ検出方法、この方法に使用される構成、及び画像パターンプリント方法 - 特許庁
PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
パターン寸法測定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RESIST SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト表面処理剤組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR DECIDING OXYGEN FEEDING FLOW RATE PATTERN IN CONVERTER DEPHOSPHORIZATION BLOWING例文帳に追加
転炉脱燐吹錬の送酸流量パターン決定方法 - 特許庁
POLYMER, COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁
COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION DEVICE FOR CONDUCTIVE SUBSTRATE AND ITS METHOD例文帳に追加
導電基板へのパターン形成装置及びその方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND GLASS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びガラスパターンの形成方法 - 特許庁
POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
COPPER FOIL FOR FINE PATTERN PRINTED CIRCUIT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
ファインパターンプリント配線用銅箔とその製造方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR FORMING DISTRIBUTION PATTERN OF EMISSION COLOR例文帳に追加
発光色分布パターン形成方法及びその装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
荷電粒子線描画装置及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN INSPECTION DEVICE AND METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体装置用パターン検査装置および検査方法 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS AND CORRECTION PATTERN WIDTH CONTROL METHOD例文帳に追加
画像形成装置および補正パターン幅制御方法 - 特許庁
HOT ROLLING METHOD FOR METAL SHEET WITH UNEVEN PATTERN例文帳に追加
凹凸模様を有する金属板の熱間圧延方法 - 特許庁
PHOTORESIST UNDERCOAT-FORMING MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
フォトレジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POSITIVE PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びポジ型パターン形成方法 - 特許庁
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