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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
METHOD OF DESIGNING MASK PATTERN, METHOD OF PRODUCING MASK SET, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンの設計方法、マスクセットの製造方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR DESIGN OF TEMPLATE PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING TEMPLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
テンプレートパターンの設計方法、テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法。 - 特許庁
METHOD FOR APPLYING PHOTO-RESIST SOLUTION, METHOD FOR FORMING PHOTO-RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトレジスト液の塗布方法、フォトレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR HOLDING, METHOD AND APPARATUS FOR FORMING PATTERN, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
保持方法及び保持装置、パターン形成方法及びパターン形成装置、デバイス製造方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR GENERATING REFERENCE DATA, PATTERN INSPECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR MASK例文帳に追加
参照データ発生方法、発生装置、パターン検査方法およびマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PATTERN, MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROOPTIC DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、デバイスの製造方法、電子機器 - 特許庁
EVALUATING METHOD FOR GROOVE WANDERING PROPERTY OF TIRE AND DESIGNING METHOD FOR TREAD PATTERN USING THIS METHOD例文帳に追加
タイヤのグルーブワンダリング性評価方法、およびそれを用いたトレッドパターンの設計方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK PATTERN, AND METHOD FOR MEASURING POSITIONAL DISPLACEMENT例文帳に追加
露光方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンおよび位置ずれ測定方法 - 特許庁
METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM, METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR THIN FILM例文帳に追加
薄膜の形成方法、薄膜パターンの形成方法および薄膜のパターニング方法 - 特許庁
PATTERN AREA COMPUTING METHOD, PROXIMITY EFFECT COMPENSATING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加
パターン面積値算出方法、近接効果補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁
INSPECTING DEVICE AND INSPECTING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR PATTERN SUBSTRATE USING SAME INSPECTING METHOD例文帳に追加
検査装置及び検査方法とその検査方法を用いたパターン基板の製造方法 - 特許庁
MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTIC DEVICE例文帳に追加
マスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク、その製造方法、パターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR ETCHING ORGANIC FILM, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
有機膜のエッチング方法、半導体装置の製造方法及びパターンの形成方法 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
MASK PATTERN CREATING METHOD, EXPOSURE DATA CREATING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターン作成方法、露光データ作成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN DATA CREATION METHOD, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加
マスクパターンデータ作成方法、フォトマスク作製方法、及び集積回路の製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加
パターン形成方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法およびプログラム - 特許庁
METHOD FOR GENERATING MASK DATA PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンデータ生成方法、フォトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CREATING DRAWING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
描画パターンの生成方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
DESIGN CORRECTION METHOD, DESIGN PATTERN GENERATING METHOD, AND PROCESS PROXIMITY CORRECTION METHOD例文帳に追加
設計パターン補正方法と設計パターン作成方法及びプロセス近接効果補正方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, ELECTOOPTICAL APPARATUS MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, ELECTRO-OPTIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC EQUIPMENT MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
パターン形成方法及び電気光学装置製造方法並びに電子機器製造方法 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
アライメント方法、マスクパターンの設計方法、マスク、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置 - 特許庁
INSPECTION METHOD OF INK-JET PRINTER, COMPOSITION USED FOR THE METHOD AND IMAGE-PATTERN PRINTING METHOD例文帳に追加
インクジェットプリンタ検出方法、この方法に使用される構成、及び画像パターンプリント方法 - 特許庁
LIQUID EJECTION DEVICE AND METHOD FOR FORMING NOZZLE INSPECTION PATTERN例文帳に追加
液体噴射装置、及び、ノズル検査パターン形成方法 - 特許庁
(4) A production method of the gel pattern using a casting form.例文帳に追加
(4)流し込み型を用いたゲルパターンの作製方法。 - 特許庁
SYSTEM FOR MANUFACTURING PATTERN ON SUBSTRATE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
基板上にパターンを製作するシステムおよびその方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CONDUCTOR PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターンの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN ON INSULATIVE CARBIDE例文帳に追加
絶縁性炭化物への導電性パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR EVALUATING PATTERN SHAPES WITH HIGH ACCURACY, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加
高精度パターン形状評価方法及びその装置 - 特許庁
COMPOSITION FOR UPPER LAYER FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
上層膜用組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION SUBSTRATE, ELECTROOPTICAL DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN FORMATION SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE例文帳に追加
パターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁
CARBON PATTERN, AND CERAMIC HEATER MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
カーボン型及びこれを用いたセラミックヒータの製造方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND RESIST APPLYING DEVELOPING APPARATUS例文帳に追加
レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置 - 特許庁
CASTING SAND VIBRATION COMPACTION METHOD TO USE SUBLIMATION PATTERN例文帳に追加
消失模型を用いる鋳物砂振動充填方法 - 特許庁
STAMPER FOR MINUTE PATTERN TRANSFER, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
微細パターン転写用スタンパ及びその製造方法 - 特許庁
INSPECTION DEVICE, INSPECTION SYSTEM AND INSPECTION METHOD FOR CIRCUIT PATTERN例文帳に追加
回路パターンの検査装置、検査システム、および検査方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
CONTROLLING METHOD OF COLOR TONE OF PATTERN OF PRINTING MACHINE AND DEVICE例文帳に追加
印刷機の絵柄色調制御方法および装置 - 特許庁
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