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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN DISPLAY CONTROL METHOD AND APPARATUS FOR GAME MACHINE例文帳に追加
遊技機における図柄表示制御方法及び装置 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN GENERATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING APPARATUS例文帳に追加
パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
VIDEO MOTION PATTERN ANALYZING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM THEREOF例文帳に追加
映像動きパターン解析装置、その方法及びプログラム - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING ORGANIC MOLECULAR FILM PATTERN AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
有機分子膜パターンの製造方法及び製造装置 - 特許庁
CYCLICAL PATTERN DISCRIMINATING METHOD AND DEVICE AND ITS PROGRAM例文帳に追加
周期的パターン判定方法および装置並びにプログラム - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME例文帳に追加
位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性重合体組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁
DEVICE FOR FORMING PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME AND TEMPLATE THEREFOR例文帳に追加
パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート - 特許庁
PRINTING DEVICE, PRINTING METHOD, PROGRAM AND PATTERN FOR CORRECTION例文帳に追加
印刷装置、印刷方法、、プログラム及び補正用パターン - 特許庁
DEVICE FOR DETECTING PACKET SYNCHRONIZATION AND METHOD FOR LOCKING SYNCHRONOUS PATTERN例文帳に追加
パケット同期検出装置及び同期パターンロック方法 - 特許庁
EMBROIDERING DEVICE, AND DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN例文帳に追加
刺繍装置、パターン作成装置、及びパターン作成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁
DUMMY PATTERN DESIGN METHOD, INFORMATION PROCESSOR, AND PROGRAM例文帳に追加
ダミーパタン設計方法、情報処理装置およびプログラム - 特許庁
THIN FILM TRANSISTOR AND FORMING METHOD OF MULTILAYER FILM PATTERN例文帳に追加
薄膜トランジスタ及び積層膜パターンの形成方法 - 特許庁
FABRIC WITH PHOTOLUMINESCENT PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
光輝性模様を有する布帛及びその製造方法 - 特許庁
LIQUID EJECTION DEVICE AND METHOD FOR FORMING NOZZLE INSPECTION PATTERN例文帳に追加
液体噴射装置、及び、ノズル検査パターン形成方法 - 特許庁
(4) A production method of the gel pattern using a casting form.例文帳に追加
(4)流し込み型を用いたゲルパターンの作製方法。 - 特許庁
SYSTEM FOR MANUFACTURING PATTERN ON SUBSTRATE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
基板上にパターンを製作するシステムおよびその方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CONDUCTOR PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターンの製造方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
CONTROLLING METHOD OF COLOR TONE OF PATTERN OF PRINTING MACHINE AND DEVICE例文帳に追加
印刷機の絵柄色調制御方法および装置 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
CIRCUIT, METHOD, AND APPARATUS FOR BURN-IN TEST AND PATTERN GENERATION PROGRAM例文帳に追加
バーンインテスト回路、方法、装置、及びパターン生成プログラム - 特許庁
FLOW PATTERN SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
流れ模様シートの製造方法および流れ模様シート - 特許庁
RESIST PATTERN THICKENING MATERIAL, RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AS WELL AS SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
レジストパターン厚肉化材料、レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁
DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
リソグラフィー用洗浄剤及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF FORMING MAGNETIC SERVO PATTERN例文帳に追加
磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法 - 特許庁
INKJET RECORDING APPARATUS AND METHOD FOR RECORDING ITS DOT PATTERN例文帳に追加
インクジェット記録装置及びそのドットパターン記録方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF ARRANGING DUMMY PATTERN例文帳に追加
半導体集積回路およびダミーパターンの配置方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN ON INSULATIVE CARBIDE例文帳に追加
絶縁性炭化物への導電性パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR EVALUATING PATTERN SHAPES WITH HIGH ACCURACY, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加
高精度パターン形状評価方法及びその装置 - 特許庁
CARBON PATTERN, AND CERAMIC HEATER MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
カーボン型及びこれを用いたセラミックヒータの製造方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD AND RESIST APPLYING DEVELOPING APPARATUS例文帳に追加
レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置 - 特許庁
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