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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
REFERENCE DATA OPTIMIZATION LEARNING METHOD AND PATTERN RECOGNITION SYSTEM例文帳に追加
参照データ最適化学習方法とパターン認識システム - 特許庁
HARD MASK PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加
半導体素子のハードマスクパターン及びその形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SPECIFICALLY SPLASHED PATTERN YARN AND YARN PACKAGE THEREOF例文帳に追加
特殊な絣糸の製造方法とその巻糸パッケージ - 特許庁
DEVICE FOR FORMING PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME AND TEMPLATE THEREFOR例文帳に追加
パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート - 特許庁
PATTERN GENERATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING APPARATUS例文帳に追加
パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
VIDEO MOTION PATTERN ANALYZING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM THEREOF例文帳に追加
映像動きパターン解析装置、その方法及びプログラム - 特許庁
CYCLICAL PATTERN DISCRIMINATING METHOD AND DEVICE AND ITS PROGRAM例文帳に追加
周期的パターン判定方法および装置並びにプログラム - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME例文帳に追加
位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性重合体組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁
DUMMY PATTERN DESIGN METHOD, INFORMATION PROCESSOR, AND PROGRAM例文帳に追加
ダミーパタン設計方法、情報処理装置およびプログラム - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING ORGANIC MOLECULAR FILM PATTERN AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
有機分子膜パターンの製造方法及び製造装置 - 特許庁
GENERATING METHOD OF EXPOSURE PATTERN DATA AND CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
露光パターンデータの生成方法と荷電ビーム露光装置 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
PRINTING DEVICE, PRINTING METHOD, PROGRAM AND PATTERN FOR CORRECTION例文帳に追加
印刷装置、印刷方法、、プログラム及び補正用パターン - 特許庁
DEVICE FOR DETECTING PACKET SYNCHRONIZATION AND METHOD FOR LOCKING SYNCHRONOUS PATTERN例文帳に追加
パケット同期検出装置及び同期パターンロック方法 - 特許庁
EMBROIDERING DEVICE, AND DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN例文帳に追加
刺繍装置、パターン作成装置、及びパターン作成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁
THIN FILM TRANSISTOR AND FORMING METHOD OF MULTILAYER FILM PATTERN例文帳に追加
薄膜トランジスタ及び積層膜パターンの形成方法 - 特許庁
FABRIC WITH PHOTOLUMINESCENT PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
光輝性模様を有する布帛及びその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
半導体装置の製造装置、およびパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN ALIGNMENT FILM, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME, AND MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加
パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パタン形成方法および半導体素子の製造方法 - 特許庁
DESIGN DATA CONVERTER, PATTERN DESIGN ASSISTING DEVICE, DESIGN DATA CONVERTING METHOD AND PATTERN DESIGNING METHOD OF WIRING BOARD例文帳に追加
設計データ変換装置、パターン設計支援装置、設計データ変換方法および配線基板のパターン設計方法 - 特許庁
METHOD FOR CREATING FIXED PATTERN DISPLAY PANEL AND DISPLAY PANEL例文帳に追加
固定パターン表示パネル作成方法及び表示パネル - 特許庁
PULSE PATTERN GENERATION METHOD FOR THREE PHASE CURRENT CONVERTER CIRCUIT例文帳に追加
三相電流形コンバータ回路のパルスパターン発生法 - 特許庁
POSITIVE TYPE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型化学増幅レジスト及びそのパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD FOR PATTERN FORMING APPARATUS例文帳に追加
パターン形成装置のクリーニング装置及びクリーニング方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PROBE IMMOBILIZING CARRIER HAVING FINE PATTERN例文帳に追加
微細パターンを有するプローブ固定担体の製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PATTERN SHEET, AND OPTICAL SHEET例文帳に追加
パターンシートの製造方法及び装置並びに光学シート - 特許庁
DEVICE FOR LOCKING PSEUDO RANDOM PATTERN SYNCHRONIZATION AND ITS METHOD例文帳に追加
疑似ランダムパターン同期引き込み装置およびその方法 - 特許庁
PATTERN INSPECTION METHOD USING ELECTRON BEAM AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
電子線を用いたパターン検査方法及びその装置 - 特許庁
RESIST FILM PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジスト膜の処理装置、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
OVERLAY VERNIER MASK PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME, SEMICONDUCTOR ELEMENT CONTAINING OVERLAY VERNIER PATTERN, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加
オーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法、並びにオーバーレイバーニアパターンを含む半導体素子とその形成方法 - 特許庁
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